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1. 发明专利

KR102238368B1 KR102238368B1 - Vaporizing apparatus using in semiconductor equipment 有权
公开(公告)号：KR102238368B1
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：KR1020140114484A
申请日：2014-08-29
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 김종식 , 강성철 , 김상보 , 김수웅
IPC分类号： H01L21/02
摘要： 기화장치의 일 실시예는, 제1기화부; 상기 제1기화부로부터 유입되는 가스가 유동하도록 하는 유동공간이 형성되며, 상기 유동공간의 입구와 출구는 측방향 및 상하방향으로 일정간격 이격되어 형성되는 제2기화부; 및 상기 제2기화부로부터 상기 가스가 외부로 토출되는 토출부;를 포함할 수 있다.

2. 发明申请

WO2016204452A1 공정챔버 내부에 배치되는 기판 처리장치 및 그 작동방법 审中-公开
标题翻译：基板处理装置安装在工艺室内及其工作方法中
公开(公告)号：WO2016204452A1
公开(公告)日：2016-12-22
申请号：PCT/KR2016/006163
申请日：2016-06-10
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 김기범 , 김수웅 , 사승엽 , 우람 , 이명진 , 정석철 , 최종성 , 허호범
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683
摘要： 기판 처리장치의 일 실시예는, 자전 가능하도록 구비되는 디스크; 상기 디스크에 배치되고, 상면에 기판이 안착되며, 상기 디스크가 자전함에 따라 자전 및 상기 디스크의 중심을 축으로 공전하는 적어도 하나의 서셉터; 상기 서셉터의 하부에 결합하고, 중심이 상기 서셉터의 중심과 일치하도록 배치되는 금속링; 상기 디스크의 하부에 배치되고, 적어도 일부에 상기 금속링의 외주면과 측방향으로 대향되는 내주면이 형성되는 지지블록을 포함할 수 있다.
摘要翻译：基板处理装置的一个实施例可以包括：设置成可旋转的盘; 设置在盘上的至少一个感受体，具有上表面，基板被装载在该上表面上，并且根据盘的旋转并通过使用盘的中心作为其轴线旋转; 金属环，其耦合到所述基座的下部并且布置成使得其中心对应于所述基座的中心; 以及布置在所述盘的下部上的支撑块，并且在其至少一部分中具有在横向方向上面对所述金属环的外周表面的内周面。

3. 发明授权

KR102079150B1 기판 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR102079150B1
公开(公告)日：2020-02-19
申请号：KR1020130071646
申请日：2013-06-21
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 최종성 , 권봉성 , 김수웅 , 유지환 , 이명진
IPC分类号： C23C16/455

4. 发明公开

KR1020160026285A 반도체 장비용 기화장치 审中-实审
标题翻译：在半导体设备中使用蒸气装置
公开(公告)号：KR1020160026285A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：KR1020140114484
申请日：2014-08-29
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 김종식 , 강성철 , 김상보 , 김수웅
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67017 , F17C9/02 , H01L21/6715
摘要： 기화장치의일 실시예는, 제1기화부; 상기제1기화부로부터유입되는가스가유동하도록하는유동공간이형성되며, 상기유동공간의입구와출구는측방향및 상하방향으로일정간격이격되어형성되는제2기화부; 및상기제2기화부로부터상기가스가외부로토출되는토출부;를포함할수 있다.
摘要翻译：根据本发明的一个实施例，提供一种能够提高蒸发速率并且小型化的半导体装置的蒸发器。蒸发器包括：第一蒸发单元; 第二蒸发单元，具有允许从第一蒸发单元引入的气体浮起的浮动空间，其中浮动空间的入口和出口形成为在横向和垂直方向上以一定间隔彼此间隔开 ; 以及排出单元，气体从第二蒸发单元排出到外部。

5. 发明授权

KR101324211B1 기판 처리 장치 有权
标题翻译：基板处理设备
公开(公告)号：KR101324211B1
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：KR1020060047975
申请日：2006-05-29
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 이승호 , 이상곤 , 김수웅
IPC分类号： H01L21/324
摘要： 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 챔버와, 상기 챔버 내로 가스를 분사하는 가스 분사 수단과, 상기 챔버 내에 배치되고, 그 상부에 다수의 기판 안착부를 가지는 기판 안치 수단과, 상기 기판 안치 수단을 가열하는 광학식 가열 수단 및 상기 광학식 가열 수단의 복사열을 상기 기판 안치 수단으로 반사하는 반사 수단을 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다. 이와 같이 본 발명은 광학식 가열 수단 하부에 반사 수단을 두어 광학식 가열 수단의 복사열을 기판 안착 수단 방향으로 반사시킬 수 있어 광학식 가열 수단의 가열 효율을 증대시킬 수 있으며, 광학식 가열 수단의 인접한 램프 히터 간을 열적으로 분리시킬 수 있어 램프 히터의 손상을 방지할 수 있다.
챔버, 기판 안착 수단, 광학식 가열 수단, 반사판, 반사막, 수납홈, 복사열
摘要翻译：本发明的涉及一种基板处理装置，腔室，以及气体喷射装置，用于将气体注入该腔室，以及设置在所述腔室内，与所述基板承放部件和基板安放在其顶部部分的多个衬底装载部件用于加热衬底的光学加热装置和用于将光学加热装置的辐射热反射到衬底保持装置的反射装置。如上所述，根据本发明，通过在光学加热装置下方设置反射装置，可以将光学加热装置的辐射热量反射到基底安放装置的方向上，从而提高光学加热装置的加热效率，这样可以防止灯加热器受损。

6. 发明公开

KR1020120127376A 기판 처리 장치 有权
标题翻译：基板加工设备
公开(公告)号：KR1020120127376A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：KR1020120112200
申请日：2012-10-10
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 이승호 , 이상곤 , 김수웅
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/02 , H01L21/324
摘要： PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to concentrate radiant heat on a certain region or spread the radiant heat to a wide region by controlling a pulling height of an optical heating means which is arranged inside a receiving groove. CONSTITUTION: An optical heating means heats a substrate mounting means using radiant heat. The optical heating means includes a plurality of lamp heaters(210) which is arranged along a concentric circle. The lamp heater comprises a body(211) and a filament(212) which is formed within the body. A reflective means(300) reflects the radiant heat, which is radiated to a bottom wall of a chamber, to the substrate mounting means. The reflective means comprises a body portion(310), a plurality of receiving grooves(320), a reflective film(330), and a cooling means(340).
摘要翻译：目的：提供一种基板处理装置，用于通过控制布置在接收槽内的光学加热装置的牵引高度来将辐射热集中在特定区域上或将辐射热扩散到宽的区域。构成：光学加热装置使用辐射热加热基板安装装置。光学加热装置包括沿着同心圆布置的多个灯加热器（210）。灯加热器包括主体（211）和形成在主体内的灯丝（212）。反射装置（300）将辐射到室的底壁的辐射热反射到基板安装装置。反射装置包括主体部分（310），多个接收槽（320），反射膜（330）和冷却装置（340）。

7. 发明公开

KR1020160148157A 공정챔버 내부에 배치되는 기판 처리장치 및 그 작동방법 审中-实审
标题翻译：布置在处理室中的基板布置装置及其操作方法
公开(公告)号：KR1020160148157A
公开(公告)日：2016-12-26
申请号：KR1020150084765
申请日：2015-06-16
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 김기범 , 김수웅 , 사승엽 , 우람 , 이명진 , 정석철 , 최종성 , 허호범
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683
摘要： 기판처리장치의일 실시예는, 자전가능하도록구비되는디스크; 상기디스크에배치되고, 상면에기판이안착되며, 상기디스크가자전함에따라자전및 상기디스크의중심을축으로공전하는적어도하나의서셉터; 상기서셉터의하부에결합하고, 중심이상기서셉터의중심과일치하도록배치되는금속링; 상기디스크의하부에중심이상기디스크의중심과일치하도록배치되고, 적어도일부에상기금속링의외주면과측방향으로대향되는내주면이형성되는지지블록을포함할수 있다.
摘要翻译：基板处理装置的一个实施例可以包括：设置成可旋转的盘; 设置在盘上的至少一个感受体，具有上表面，基板被装载在该上表面上，并且根据盘的旋转并通过使用盘的中心作为其轴线旋转; 金属环，其耦合到所述基座的下部并且布置成使得其中心对应于所述基座的中心; 以及布置在所述盘的下部上的支撑块，并且在其至少一部分中具有在横向方向上面对所述金属环的外周表面的内周面。

8. 发明公开

KR1020140038659A 가스 분배 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 审中-实审
标题翻译：气体分配装置和基板加工装置
公开(公告)号：KR1020140038659A
公开(公告)日：2014-03-31
申请号：KR1020120104997
申请日：2012-09-21
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 김수웅 , 황철주
IPC分类号： H01L21/205 , H01L51/56
摘要： The present invention is a gas distribution apparatus for injecting process gas onto a substrate. Disclosed are the gas distribution apparatus that includes an upper plate, a lower plate which is separated from the upper plate with a preset distance and has injection holes, a side plate which is prepared on a side between the lower plate and the upper plate, a temperature control member which controls the temperature between the upper and the lower plate, and a substrate processing apparatus having the same.
摘要翻译：本发明是一种用于将工艺气体注入衬底的气体分配装置。公开了一种气体分配装置，包括上板，与上板隔开预定距离的下板，具有喷射孔，准备在下板和上板之间的一侧的侧板，控制上下板之间的温度的温度控制部件和具有该温度控制部件的基板处理装置。

9. 发明授权

KR101324208B1 기판 처리 장치 有权
标题翻译：基板加工设备
公开(公告)号：KR101324208B1
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：KR1020070018249
申请日：2007-02-23
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 최선홍 , 이지훈 , 김수웅
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/02
摘要： 본 발명의 가스 분사 장치는 분해 온도가 서로 다른 가스를 분사하는 다수의 가스 분사부와, 상기 가스 분사부에 연결되어 각기 서로 다른 가스를 공급하는 다수의 가스 공급부를 포함하고, 상기 분해 온도가 낮은 가스를 분사하는 가스 분사부에는 냉각 수단이 형성된다.
상기와 같은 발명은 분해 온도가 낮은 가스가 분사되는 가스 분사부에 냉각 수단을 구비함으로써, 분해 온도가 낮은 가스가 기판을 향해 분사될 때, 기판에 도달하기 이전에 분해되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
박막 증착, CVD, 챔버, 가스 분사부, 기판 처리 장치

10. 发明授权

KR102238368B1 반도체 장비용 기화장치 有权
公开(公告)号：KR102238368B1
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：KR1020140114484
申请日：2014-08-29
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 김종식 , 강성철 , 김상보 , 김수웅
IPC分类号： H01L21/67 , F17C9/02
摘要： 기화장치의일 실시예는, 제1기화부; 상기제1기화부로부터유입되는가스가유동하도록하는유동공간이형성되며, 상기유동공간의입구와출구는측방향및 상하방향으로일정간격이격되어형성되는제2기화부; 및상기제2기화부로부터상기가스가외부로토출되는토출부;를포함할수 있다.

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