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1. 发明授权

KR100710104B1 감방사선성 수지 조성물 有权
标题翻译：敏感的辐射敏感树脂组合物
公开(公告)号：KR100710104B1
公开(公告)日：2007-04-20
申请号：KR1020010005074
申请日：2001-02-02
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 누마따,준 , 스즈끼,아끼 , 하라,히로미찌 , 나쯔메,노리히로 , 무라따,기요시 , 야마모또,마사후미 , 소야노,아끼마사 , 가지따,도루 , 시모까와,쯔또무
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/039 , Y10S430/111 , Y10S430/128
摘要： 본 발명은 (A) 1개 이상의 수소 원자가 질소 원자에 결합된 아미노기를 하나 이상 갖는 화합물에서 상기 질소 원자에 결합된 수소 원자 중 1개 이상이 t-부톡시카르보닐기로 치환된 저분자 화합물,
(B) 감방사선성 산발생제, 및
(C) (가) 산해리성기로 보호된 알칼리 불용성 또는 알칼리 난용성 수지로서, 상기 산해리성기가 해리될 때 알칼리 가용성이 되는 수지 또는 (나) 알칼리 가용성 수지 및 알칼리 용해성 제어제를 포함하는 것을 특징으로 하는 포지티브형 감방사선성 수지 조성물에 관한 것이다.
또한 본 발명은 (A) 1개 이상의 수소 원자가 질소 원자에 결합된 아미노기를 하나 이상 갖는 화합물에서 상기 질소 원자에 결합한 수소 원자 중 1개 이상이 t-부톡시카르보닐기로 치환된 저분자 화합물,
(B) 감방사선성 산발생제,
(D) 알칼리 가용성 수지 및
(E) 산의 존재하에 알칼리 가용성 수지를 가교할 수 있는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 네가티브형 감방사선성 수지 조성물을 제공한다.
감방사선성 수지 조성물, 포지티브형 감방사선성 수지 조성물, 포토레지스트, 반도체, 리소그래피
摘要翻译：本发明（A）1与具有通过键合到氮原子以叔丁氧基羰基的氢原子中的至少一个键合到氮原子的至少一个氨基的化合物中的一个或多个氢原子取代的低分子量化合物，

2. 发明授权

KR100777520B1 감방사선성 수지 조성물 有权
标题翻译：敏感的辐射敏感树脂组合物
公开(公告)号：KR100777520B1
公开(公告)日：2007-11-16
申请号：KR1020010034122
申请日：2001-06-16
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤 , 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션
发明人： 니시무라,유끼오 , 야마하라,노보루 , 야마모또,마사후미 , 가지따,도루 , 시모까와,쯔또무 , 이또,히로시
IPC分类号： G03F7/004
摘要： 본 발명은 산 불안정기 함유 수지 및 광산발생제를 포함하는 감방사선성 수지 조성물에 관한 것이다. 상기 수지는 화학식 1의 구조를 갖는다.

상기 식에서, R
1 은 수소 원자, 1가 산 불안정기, 산 불안정기가 없는 탄소 원자수 1 내지 6의 알킬기, 또는 산 불안정기가 없는 탄소 원자수 2 내지 7의 알킬카르보닐기이고,
X
1 은 탄소 원자수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄 플루오르화 알킬기이며,
R
2 는 수소 원자, 탄소 원자수 1 내지 10의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기, 또는 탄소 원자수 1 내지 10의 직쇄 또는 분지쇄 플루오르화 알킬기이다. 본 발명의 수지 조성물은 방사선 투과율이 높고, 민감도가 높으며, 해상도 및 패턴 형성이 양호하고, 반도체를 높은 수율로 제조함에 있어서 화학적으로 증폭된 레지스트로서 유용하다.
산 불안정기, 광산발생제, 방사선, 수지 조성물, 레지스트
摘要翻译：本发明涉及包含含酸不稳定基团的树脂和光酸产生剂的辐射敏感树脂组合物。该树脂具有式（1）的结构。

3. 发明授权

KR100557368B1 감방사선성 수지 조성물 失效
标题翻译：辐射敏感树脂组合物
公开(公告)号：KR100557368B1
公开(公告)日：2006-03-10
申请号：KR1019990001130
申请日：1999-01-15
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 가지따,도루 , 스와,미쯔히또 , 이와사와,하루오 , 야마모또,마사후미
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/00
摘要： 본 발명은 (A) (a) 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위(I), 또는 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위(I)과 하기 화학식 2로 표시되는 반복 단위(II), 및 (b) 중합성의 탄소-탄소 이중 결합을 2개 이상 갖고, 동시에 산의 작용에 의해 분해되는 하기 화학식 3 또는 화학식 4로 표시되는 2가의 기를 적어도 1개 갖는 단량체로서, 각 탄소-탄소 이중 결합이 상기 2가의 기를 개재하여 연결된 구조를 갖는 단량체의 상기 탄소-탄소 이중 결합이 개열되어 얻어지는 반복 단위(III)를 함유하는 공중합체, 및
(B) 감방사선성 산 발생제
를 함유하는 것을 특징으로 하는 감방사선성 수지 조성물에 관한 것이다.

(식 중,
A 및 B는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 산의 존재하에 해리되어 산성 관능기를 발생시키는 탄소수 20 이하의 산 해리성 유기기를 나타내고, A 및 B 중 적어도 하나가 상기 산 해리성 유기기이고,
X 및 Y는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 나타내 며,
n은 0 또는 1이다.)

(식 중, R
1 및 R
2 는 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 5의 알킬기를 나타낸다.)

(식 중, R
3 및 R
4 는 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 5의 알킬기를 나타낸다.)
따라서, 본 발명에 의해, 방사선에 대한 투명성이 높고, 충분한 드라이 엣칭 내성을 가질 뿐만 아니라 해상도가 우수하고 패턴 형상, 감도 등을 포함하여 특성 균형이 우수한 감방사선성 수지 조성물이 제공된다.
감방사선성, 산 발생제, 화학 증폭형, 레지스트, 드라이 엣칭 내성

4. 发明公开

KR1020040012777A 폴리실록산, 폴리실록산의 제조 방법 및 감방사선성 수지조성물 无效
标题翻译：生产聚硅氧烷，聚硅氧烷和辐射敏感树脂组合物的方法
公开(公告)号：KR1020040012777A
公开(公告)日：2004-02-11
申请号：KR1020037014229
申请日：2002-04-30
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 이와사와,하루오 , 하야시,아끼히로 , 시모까와,쯔또무 , 야마모또,마사후미
IPC分类号： C08G77/24
CPC分类号： G03F7/0397 , C08G77/08 , C08G77/24 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0757
摘要： 본 발명은 193 nm(특히 157 nm) 이하의 파장에서도 투명성이 높고, 건식 에칭 내성이 우수한 폴리실록산으로서, 하기 화학식 1로 표시되는 구조 단위 (I) 및(또는) 구조 단위 (II)를 가지며, 산해리성기를 갖는 수지에 관한 것이다.

(I) (II)
식 중, R
1 은 불소 원자 치환 또는 불소화 알킬기 치환의 1가 방향족기 또는 불소 원자 치환 또는 불소화 알킬기 치환의 1가 지환식기이고, R
2 는 상기 1가 방향족기, 상기 1가 지환식기, 수소 원자, 할로겐 원자, 1가 탄화수소기, 할로겐화 알킬기 또는 아미노기를 나타낸다.
또한, 본 발명은 (A) 상기 수지 및 (B) 감방사선성 산발생제를 함유하는, 감도ㆍ해상도 등이 우수한 감방사선성 수지 조성물에 관한 것이기도 하다.

5. 发明授权

KR100739270B1 감방사선성 수지 조성물 有权
标题翻译：敏感的辐射敏感树脂组合物
公开(公告)号：KR100739270B1
公开(公告)日：2007-07-12
申请号：KR1020010032459
申请日：2001-06-11
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 고바야시,에이이찌 , 누마따,쥰 , 야마찌까,미끼오 , 야마모또,마사후미
IPC分类号： G03F7/075
摘要： 본 발명은 각종 방사선에 유효하게 감응하고 감도 및 해상도가 우수하며, 동시에 장기 보존 안정성이 우수한 포지형의 화학 증폭형 레지스트로서 유용한 감방사선성 조성물을 제공한다.
또한, 본 발명은 (A) 질소 원자에 결합된 수소 원자를 1개 또는 2개 갖는 아미노기를 1개 이상 갖는 화합물의 상기 아미노기가 갖는 수소 원자 중 1개 이상이 t-부톡시카르보닐기로 치환된 저분자 화합물,
(B) 감방사선성 산발생제, 및
(C) 산해리성기로 보호된 알칼리 불용성 또는 알칼리 난용성 수지로서, 상기 산해리성기가 해리되었을 때 알칼리 가용성이 되는 실리콘 원자 함유 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 포지형 감방사선성 수지 조성물을 제공한다.
t-부톡시카르보닐기, 감방사선성 산발생제, 아미노기
摘要翻译：本发明是在以各种辐射的灵敏度和分辨率有效地敏感和优良的，在同一时间提供一个有用的辐射敏感组合物作为化学放大型抗蚀剂是极好的织物支长期储存稳定性。

6. 发明公开

KR1020020062196A 감방사선성 수지 조성물 有权
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：KR1020020062196A
公开(公告)日：2002-07-25
申请号：KR1020020002703
申请日：2002-01-17
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 니시무라,유끼오 , 야마모또,마사후미 , 가따오까,아쯔꼬 , 가지따,도루
IPC分类号： G03F7/038
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , Y10S430/111 , Y10S430/123
摘要： PURPOSE: A radiation-sensitive resin composition useful as a chemically amplified resist having high transmittance of radiation and exhibiting superior basic properties as a resist such as high sensitivity, resolution, dry etching tolerance, and pattern shape is provided. CONSTITUTION: The radiation-sensitive resin composition comprises (A) an acid-dissociable group-containing resin which is insoluble or scarcely soluble in alkali and becomes alkali soluble when the acid-dissociable group dissociates, the resin comprising the recurring unit of the following formula(1) and the recurring unit of the following formula(2), wherein R1 and R2 individually represent a hydrogen atom or methyl group, R3 represents a hydrogen atom or methyl group, and R4 individually represents a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms or a derivative thereof, or any two of R4 groups from in combination a divalent alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms or a derivative thereof, with the remaining R4 group being a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms or a derivative thereof, and (B) a photoacid generator of the following formula(3), wherein R5 represents a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms or a derivative thereof, m is an integer of 1 to 8, and n is an integer of 0 to 5.
摘要翻译：目的：提供可用作化学放大抗蚀剂的辐射敏感性树脂组合物，其具有高的透射率，并且作为抗蚀剂（例如高灵敏度，分辨率，干蚀刻耐受性和图案形状）具有优异的基本性能。构成：辐射敏感性树脂组合物包含（A）当酸解离基团解离时，其不溶解或几乎不溶于碱并可变成碱溶性的含酸解离基团的树脂，包含下式的重复单元的树脂（1）和下述式（2）的重复单元，其中，R 1和R 2分别表示氢原子或甲基，R 3表示氢原子或甲基，R 4表示直链状或支链状的1〜 4个碳原子或具有4〜20个碳原子的一价脂环族烃基或其衍生物，或组合有碳原子数为4〜20的二价脂环族烃基或其衍生物的R4基团中的任意两个与剩余的R 4基团碳原子数1〜4的直链或支链烷基或碳原子数4〜20的一价脂环式烃基或其衍生物，（B）下式（3）的光酸产生剂，其中，R5表示碳原子数为6〜20的一价芳香族烃基或其衍生物，m为1〜8的整数，n为0〜5的整数。

7. 发明公开

KR1020020022004A 감방사선성 수지 조성물 有权
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：KR1020020022004A
公开(公告)日：2002-03-23
申请号：KR1020010057091
申请日：2001-09-17
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 미야지,마사아끼 , 나가이,도모끼 , 야다,유지 , 누마따,준 , 니시무라,유끼오 , 야마모또,마사후미 , 이시이,히로유끼 , 가지따,도루 , 시모까와,쯔또무
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/0045 , G03F7/039 , Y10S430/106 , Y10S430/122
摘要： PURPOSE: Positive and negative radiation-sensitive resin compositions and a radiation-sensitive resin composition are provided, which respond to various radiations comprising UV, far-UV, X-ray and electron beam, exhibit excellent resolution and pattern configuration and can be used as a chemically amplified resist. CONSTITUTION: The positive radiation-sensitive resin composition comprises a copolymer(A1) containing the repeating units represented by the formulas 1 and/or 2 and 3; and a radiation-sensitive acid generator, wherein R1 is H or CH3; R2 is a tertiary alkyl group of C4-C10; R3 and R4 and independent each other and are H, s substituted or unsubstituted alkyl group of C1-C12, a substituted or unsubstituted aromatic group of C6-C15 or an alkoxy group of C1-C12, or R3 and R4 form a 3 to 15-membered ring together, and R3 and R4 are not H at the same time. The negative radiation-sensitive resin composition comprises a copolymer(A2) containing the repeating units represented by the formulas 1 and 3; a radiation-sensitive acid generator; and a compound capable of cross-linking the copolymer(A2) in the presence of an acid.
摘要翻译：目的：提供正和负辐射敏感性树脂组合物和辐射敏感性树脂组合物，其对包括UV，远紫外线，X射线和电子束的各种辐射进行响应，表现出优异的分辨率和图案配置，并且可以用作化学放大抗蚀剂。构成：正性辐射敏感性树脂组合物包含含有由式1和/或2和3表示的重复单元的共聚物（A1）; 和辐射敏感性酸产生剂，其中R1是H或CH3; R2是C4-C10的叔烷基; R 3和R 4彼此独立，为C 1 -C 12的取代或未取代的烷基，C 6 -C 15的取代或未取代的芳基或C 1 -C 12的烷氧基，或者R 3和R 4形成3至15个并且R3和R4不同时为H。负辐射敏感性树脂组合物包含含有由式1和3表示的重复单元的共聚物（A2）; 辐射敏感酸发生器; 和能够在酸存在下使共聚物（A2）交联的化合物。

8. 发明公开

KR1019990067934A 감방사선성 수지 조성물 失效
公开(公告)号：KR1019990067934A
公开(公告)日：1999-08-25
申请号：KR1019990001130
申请日：1999-01-15
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 가지따,도루 , 스와,미쯔히또 , 이와사와,하루오 , 야마모또,마사후미
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/00
摘要： 본 발명은 (A) (a) 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위(I), 또는 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위(I)과 하기 화학식 2로 표시되는 반복 단위(II), 및 (b) 중합성의 탄소-탄소 이중 결합을 2개 이상 갖고, 동시에 산의 작용에 의해 분해되는 하기 화학식 3 또는 화학식 4로 표시되는 2가의 기를 적어도 1개 갖는 단량체로서, 각 탄소-탄소 이중 결합이 상기 2가의 기를 개재하여 연결된 구조를 갖는 단량체의 상기 탄소-탄소 이중 결합이 개열되어 얻어지는 반복 단위(III)를 함유하는 공중합체, 및
(B) 감방사선성 산 발생제
를 함유하는 것을 특징으로 하는 감방사선성 수지 조성물에 관한 것이다.

(식 중,
A 및 B는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 산의 존재하에 해리되어 산성 관능기를 발생시키는 탄소수 20 이하의 산 해리성 유기기를 나타내고, A 및 B 중 적어도 하나가 상기 산 해리성 유기기이고,
X 및 Y는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 나타내며,
n은 0 또는 1이다.)

(식 중, R
1 및 R
2 는 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 5의 알킬기를 나타낸다.)

(식 중, R
3 및 R
4 는 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 5의 알킬기를 나타낸다.)
따라서, 본 발명에 의해, 방사선에 대한 투명성이 높고, 충분한 드라이 엣칭 내성을 가질 뿐만 아니라 해상도가 우수하고 패턴 형상, 감도 등을 포함하여 특성 균형이 우수한 감방사선성 수지 조성물이 제공된다.

9. 发明授权

KR100788127B1 감방사선성 수지 조성물 有权
标题翻译：敏感的辐射敏感树脂组合物
公开(公告)号：KR100788127B1
公开(公告)日：2007-12-21
申请号：KR1020020002703
申请日：2002-01-17
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 니시무라,유끼오 , 야마모또,마사후미 , 가따오까,아쯔꼬 , 가지따,도루
IPC分类号： G03F7/038
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , Y10S430/111 , Y10S430/123
摘要： 본 발명은 방사선에 대한 투명성이 높고 감도, 해상도, 드라이 에칭 내성, 패턴 형상 등의 레지스트로서의 기본 물성이 우수한 감방사선성 수지 조성물을 제공한다.
본 발명의 감방사선성 수지 조성물은 (A) 하기 화학식 1의 화합물 등으로 대표되는 락톤기 함유 복소환 구조를 갖는 (메트)아크릴산에스테르류와 (메트)아크릴산t-부틸, (메트)아크릴산2-메틸-2-아다만틸, (메트)아크릴산2-노르보르닐-2-n-프로필 등으로 대표되는 산해리성기 함유 (메트)아크릴산에스테르류와의 공중합체를 포함하는 수지, 및 (B) 1-(3,5-디메틸-4-히드록시페닐)테트라히드로티오페늄노나플루오로-n-부탄술포네이트, 4-n-부톡시-1-나프틸테트라히드로티오페늄퍼플루오로-n-옥탄술포네이트 등으로 대표되는 감방사선성 산발생제를 함유한다.

감방사선성 산발생제, 해상도, 감방선성 수지 조성물, 화학 증폭형 레지스트
摘要翻译：本发明具有高的透明性，以辐射的敏感性，并提供了分辨率，耐干蚀刻性，图案形状，和类似物具有优异的基本性质如在辐射敏感性树脂组合物的抗蚀。

10. 发明授权

KR100760146B1 감방사선성 수지 조성물 有权
标题翻译：敏感的辐射敏感树脂组合物
公开(公告)号：KR100760146B1
公开(公告)日：2007-09-18
申请号：KR1020010057091
申请日：2001-09-17
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 미야지,마사아끼 , 나가이,도모끼 , 야다,유지 , 누마따,준 , 니시무라,유끼오 , 야마모또,마사후미 , 이시이,히로유끼 , 가지따,도루 , 시모까와,쯔또무
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/0045 , G03F7/039 , Y10S430/106 , Y10S430/122
摘要： 본 발명은 감방사선성 조성물에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 자외선, 원자외선, X선 또는 하전입자선과 같은 각종 방사선을 사용하는 미세 가공에 적합한 화학 증폭형 포지티브형 레지스트 및 화학 증폭형 네가티브형 레지스트로서 유용한 감방사선성 조성물에 관한 것이다.

감방사선성 수지 조성물, 감방사선성 산발생제
摘要翻译：本发明涉及一种辐射敏感性组合物，更具体地说，作为紫外线，远紫外线，X射线，或化学增强型正光刻胶和化学放大负使用各种类型的辐射的抗蚀剂适合于精细加工如带电粒子线本发明涉及有用的辐射敏感组合物。

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