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1. 发明申请

WO2015046794A1 식각액 조성물, 및 이를 이용한 금속 배선과 박막 트랜지스터 기판 형성 방법 审中-公开
标题翻译：用于形成金属线和薄膜晶体管基板的蚀刻组合物和方法
公开(公告)号：WO2015046794A1
公开(公告)日：2015-04-02
申请号：PCT/KR2014/008593
申请日：2014-09-16
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김인배 , 정종현 , 문영민 , 박홍식 , 김규포 , 서원국 , 신현철 , 이기범 , 조삼영 , 한승연
IPC分类号： C23F1/16 , C23F1/18
CPC分类号： H01L21/30604 , C23F1/18 , H01L21/32134 , H01L27/124 , H01L29/45
摘要： 본 발명의 일 실시예에 따른 식각액 조성물은 식각액 조성물 총 중량에 대하여 0.5중량% 내지 20중량%의 과황산염, 0.01중량% 내지 1중량%의 불소 화합물, 1중량% 내지 약 10중량%의 무기산, 0.01중량% 내지 2중량%의 아졸계 화합물, 0.1중량% 내지 5중량%의 염소 화합물, 0.05중량% 내지 3중량%의 구리염, 0.01중량% 내지 5중량%의 항산화제 또는 상기 항산화제의 염, 및 전체 조성물의 총 중량이 100중량%가 되도록 하는 물을 포함한다. 식각액 조성물은 구리를 포함하는 금속막을 식각하여 금속 배선을 형성하거나 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판 제조시에 사용될 수 있다.
摘要翻译：根据本发明实施方案的蚀刻剂组合物包含：基于蚀刻剂组合物的总重量，0.5重量％至20重量％的过硫酸盐，0.01重量％至1重量％的氟化合物，1重量％至约 10重量％的无机酸，0.01重量％〜2重量％的唑类化合物，0.1重量％〜5重量％的氯化合物，0.05重量％〜3重量％的铜盐，0.01重量％〜5重量％ wt％的硫酸化剂或硫酸盐的盐，以及其重量使整个组合物的总重量达到100wt％的水。蚀刻剂组合物可以用于形成金属线或者通过蚀刻含有铜的金属膜来制造薄膜晶体管基板。

2. 发明申请

WO2014098392A1 금속막 식각액 조성물 및 이를 이용한 식각 방법 审中-公开
标题翻译：金属膜蚀刻溶液组合物和使用相同的蚀刻方法
公开(公告)号：WO2014098392A1
公开(公告)日：2014-06-26
申请号：PCT/KR2013/011158
申请日：2013-12-04
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 이명한 , 구병수 , 조삼영 , 이기범
IPC分类号： C23F1/18 , C23F1/30
CPC分类号： C23F1/18 , C23F1/38 , C23F1/44 , H01L21/32134 , H01L29/45 , H01L29/458
摘要： 구리막 및 인듐틴산화막의 이중막 또는 구리막 및 금속막의 이중막을 동시에 식각할 수 있는 식각액 조성물 및 이를 이용한 식각 방법이 개시된다. 상기 식각액 조성물은, 5 내지 20 중량%의 과산화수소, 0.1 내지 5 중량%의 술폰산 화합물, 0.1 내지 2 중량%의 카보닐계 유기산 화합물, 0.1 내지 0.4 중량%의 불소 화합물, 0.01 내지 3 중량%의 아졸계 화합물, 및 나머지 물을 포함한다.
摘要翻译：提供：蚀刻溶液组合物，由此可以同时蚀刻铜膜和氧化铟锡膜的双层膜或铜膜和金属膜的双层膜; 以及使用其的蚀刻方法。蚀刻溶液组合物包含5至20重量％的过氧化氢，0.1至5重量％的磺酸化合物，0.1至2重量％的羰基有机酸化合物，0.1至0.4重量％％的氟化合物，0.01至3重量％的唑类化合物，剩余的水。

3. 发明授权

KR101473877B1 잉크 조성물 有权
标题翻译：墨水组成
公开(公告)号：KR101473877B1
公开(公告)日：2014-12-26
申请号：KR1020070129813
申请日：2007-12-13
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 김병후 , 신승협 , 송준용 , 이기범 , 이명수 , 김진욱
IPC分类号： C09D11/02 , B29C59/02
摘要： 본발명은잉크조성물에관한것으로, 특히임프린트리소그래피및 롤프린트를이용한패턴형성에적용되어패턴지지체의역할과더불어잉크조성물로인한팽윤현상의발생을최소화하여패턴형성의정밀도를높일수 있고, 또한패턴전사율을높여서수율개선및 공정의효율성을향상시킬수 있는임프린트리소그래피및 롤프린트용잉크조성물에관한것이다.

4. 发明授权

KR101367044B1 임프린트 리소그래피용 수지몰드 및 이의 제조방법 有权
标题翻译：用于印刷胶版的树脂模具及其制备方法
公开(公告)号：KR101367044B1
公开(公告)日：2014-02-25
申请号：KR1020060099632
申请日：2006-10-13
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 유재원 , 이원영 , 이기만 , 이성현 , 이기범 , 신승협 , 송준용 , 곽은진 , 이명수 , 김병욱 , 김진욱
IPC分类号： G03F7/00 , H01L21/027
摘要： 본 발명은 임프린트 리소그래피용 수지몰드 및 이의 제조방법에 관한 것으로 특히, 패턴형성을 위한 요철을 일면에 형성하고 있는 수지몰드 및, 상기 수지몰드보다 높은 강도를 가지는 재질로 이루어지고, 상기 수지몰드의 상하방향을 기준으로 그 사이 또는 상부에 삽입되어지며, 적어도 하나의 관통부를 가지는 수지몰드 보강층을 포함하는 것을 특징으로 하는 임프린트 리소그래피용 수지몰드 및 이의 제조방법에 관한 것으로 이를 통하여 강도가 보강된 임프린트 리소그래피용 수지몰드를 적용함으로써 고분자 수지몰드의 휨 내지 처짐 등의 변형방지 및 치수안정화를 높이는 효과가 있고, 이에 따라 패턴형성의 정밀도를 높일 수 있고, 수지몰드의 내구성을 향상시켜, 생산성 및 유지비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.
임프린트 리소그래피, 보강층, 수지몰드

5. 发明公开

KR1020090062510A 잉크 조성물 有权
标题翻译：墨水组合物
公开(公告)号：KR1020090062510A
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：KR1020070129813
申请日：2007-12-13
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 김병후 , 신승협 , 송준용 , 이기범 , 이명수 , 김진욱
IPC分类号： C09D11/02 , B29C59/02
CPC分类号： C09D11/02 , C09D11/03
摘要： An ink composition is provided to act on pattern supporter by being applied to imprint lithography and pattern formation, and to increase precision of pattern formation by minimizing swelling phenomenon. An ink composition comprises (a) polymer resin 5-45 parts by weight, (b) tackifier 5-45 parts by weight and (c) organic solvent 50-90 parts by weight. The ink composite is used for imprint lithography or pattern formation using roll print. The polymer resin is selected from the group consisting of novolac resin, acrylic resin and their mixture. The ink composition further includes silicon-based surfactant or fluorine-based surfactant.
摘要翻译：提供油墨组合物作用于图案支持体上，通过施加压印光刻和图案形成，并通过最小化溶胀现象来提高图案形成的精度。油墨组合物包含（a）5-45重量份的聚合物树脂，（b）5-45重量份的增粘剂和（c）50-90重量份的有机溶剂。油墨复合材料用于压印光刻或使用辊印的图案形成。聚合物树脂选自酚醛清漆树脂，丙烯酸树脂及其混合物。油墨组合物还包括硅基表面活性剂或氟基表面活性剂。

6. 发明授权

KR100847824B1 레지스트 용액 및 이를 이용한 평판표시소자의 제조장치 및방법 有权
标题翻译：用于制造平板平板显示装置的电阻解决方案，装置和方法
公开(公告)号：KR100847824B1
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：KR1020070063846
申请日：2007-06-27
申请人： 엘지디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김진욱 , 남연희 , 김병욱 , 김동민 , 김주혁 , 이기범 , 김문수 , 김병후 , 채기성
IPC分类号： G02F1/13
CPC分类号： G03F7/0002 , H01L21/0273 , H01L27/124 , H01L27/1292
摘要： A resist solution and an apparatus and a method for manufacturing a flat panel display by using the same are provided to form a thin film by a patterning process by means of a soft mold without a photo process. A thin film layer is formed on a substrate for a display device. The resist solution including the heat polymerization initiator is prepared and coated on the substrate by means of a coating device(S2). The resist solution is compressed by a soft mold and molded by an IPP(In-Plane Printing) manner(S4). During the compression operation by the soft mold, UV(Ultraviolet) is illuminated on the resist solution and developed(S6). As a result, the resist pattern transferred to the groove of the soft mold is formed. The soft mold is released from the resist pattern and a heat curing process is performed at the environment of about 100-300 degrees centigrade for 10-60 minutes(S8). The thin film not overlapped with the resist pattern is removed by means of an etching process so that the desired type thin film pattern is formed(S10).
摘要翻译：提供了一种抗蚀剂溶液，以及通过使用该方法制造平板显示器的装置和方法，以通过没有照相处理的软模具的图案化工艺形成薄膜。在显示装置用基板上形成薄膜层。包含热聚合引发剂的抗蚀剂溶液通过涂布装置（S2）制备并涂覆在基材上。抗蚀剂溶液通过软模压缩并通过IPP（平面印刷）方式（S4）模制。在软模的压缩操作期间，紫外线（UV）被照射在抗蚀剂溶液上并显影（S6）。结果，形成了转移到软模的槽的抗蚀剂图案。柔性模具从抗蚀剂图案中释放出来，在约100-300摄氏度的环境中进行10-60分钟的热固化处理（S8）。通过蚀刻工艺去除与抗蚀剂图案不重叠的薄膜，从而形成所需类型的薄膜图案（S10）。

7. 发明公开

KR1020080046986A 임프린트 리소그래피용 스탬프 및 이를 이용한 임프린트리소그래피 방법 有权
标题翻译：用于印刷图像的印记和使用其的印刷方法
公开(公告)号：KR1020080046986A
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：KR1020060116764
申请日：2006-11-24
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 김병욱 , 유재원 , 신승협 , 이기만 , 송준용 , 이기범 , 이원영 , 이성현 , 곽은진 , 이명수 , 김진욱 , 남연희
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0002 , B41K3/02 , B81C1/0046 , G03F7/70916
摘要： A stamp for imprint lithography and imprint lithography method using the same are provided to avoid attachment of particles and obtain uniform patterns with generation of static electricity suppressed, since the material of a back support with high light transmissivity and conductivity is coated on a backside of a polymer resin mold having a pattern. A stamp for imprint lithography comprises a polymer resin mold(102b), a back support(103), and a discharge plate or ground wire. The polymer resin mold has one uneven side to form a pattern. The back support having desired light transmissivity and conductivity is attached onto the other side of the uneven side of the polymer resin mold. The discharge plate or ground wire is connected to the back support.
摘要翻译：提供用于压印光刻的印模和使用其的压印光刻方法，以避免颗粒的附着，并获得抑制静电产生的均匀图案，因为具有高透光率和导电性的背部支撑体的材料涂覆在具有图案的聚合物树脂模具。用于压印光刻的印模包括聚合物树脂模具（102b），背部支撑件（103）和放电板或接地线。聚合物树脂模具具有一个不均匀的侧面以形成图案。具有期望的透光率和导电性的背部支撑体附着在聚合物树脂模具的不平坦侧的另一侧。放电板或接地线连接到后支撑。

8. 发明公开

KR1020060037742A 박막트랜지스터 액정표시장치의 에칭 조성물 失效
标题翻译：薄膜晶体管液晶显示器件的蚀刻成分
公开(公告)号：KR1020060037742A
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：KR1020040086790
申请日：2004-10-28
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 이기범 , 조삼영 , 신현철 , 김남서
IPC分类号： G02F1/13 , C09K13/06
CPC分类号： C23F1/30 , G02F1/13439 , G02F2001/136295
摘要： 본 발명은 박막트랜지스터 액정표시장치의 에칭 조성물에 관한 것으로, 특히 인산, 질산, 초산, 염산, 인산염, 염소계 화합물, 아졸계 화합물, 및 물을 포함하는 박막트랜지스터 액정표시장치의 에칭 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 에칭 조성물은 동일한 조성물을 사용하여 박막트랜지스터 액정표시장치의 화소전극을 구성하는 비정질 ITO(amorphous indium tin oxide) 및 TFT(thin film transistor)를 구성하는 게이트(gate) 배선재료인 Mo/Al-Nd 이중막을 단일공정으로 하부막인 Al-Nd의 언더컷(undercut) 현상이 없이 에칭하여 우수한 테이퍼(taper)를 수득할 수 있으며, 동시에 소스/드레인(source/drain) 배선재료인 Mo 단일막에서도 우수한 프로파일(profile)을 형성할 수 있는 효과가 있다.
습식 에칭, 화소전극용 금속막, 비정질 ITO 금속막, 게이트 전극용 금속막, 소스/드레인 전극용 금속막
摘要翻译：本发明涉及一种薄膜晶体管液晶显示器，其包括蚀刻组合物，更具体地，磷酸，硝酸，乙酸，盐酸，磷酸盐，氯系化合物，吡咯化合物，和水的薄膜晶体管液晶显示器的蚀刻组合物。

9. 发明授权

KR101537408B1 잉크 조성물 有权
标题翻译：墨水组成
公开(公告)号：KR101537408B1
公开(公告)日：2015-07-17
申请号：KR1020080032791
申请日：2008-04-08
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 김병후 , 신승협 , 송준용 , 이기범 , 이명수 , 김진욱
IPC分类号： C09D11/03 , C09D11/10 , H01L21/02
摘要： 본발명은잉크조성물에관한것으로, 특히실리콘고분자를사용하는임프린트리소그래피및 롤프린트를이용한패턴형성에적용되며, 실리콘고분자의팽윤현상을억제시킴과동시에잉크조성물의증발속도를늦추며, 끈끈한택성을가지는젤 상태를유지시켜실리콘고분자의대기시간개선및 사용빈도횟수를증가시킬수 있으며, 또한패턴전사율을높여서수율개선및 공정의효율성을향상시킬수 있는임프린트리소그래피및 롤프린트용잉크조성물에관한것이다.

10. 发明授权

KR101375849B1 잉크 조성물 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법 有权
标题翻译：油墨组合物及使用其制造液晶显示装置的方法
公开(公告)号：KR101375849B1
公开(公告)日：2014-03-18
申请号：KR1020080110624
申请日：2008-11-07
申请人： 엘지디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김성희 , 김병걸 , 김병욱 , 이기범 , 김병후 , 신승협 , 송준용 , 이명수 , 류순성 , 김진욱
IPC分类号： C09D11/02 , G02B5/20 , G02F1/133
CPC分类号： C09D11/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C09D11/033 , G03F7/0002
摘要： 본 발명의 잉크 조성물 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법은 임프린트 리소그래피(imprint lithography) 및 롤 프린트(roll print)공정을 이용하여 액정표시장치의 패턴을 형성하는데 있어, 고온에도 견딜 수 있는 고분자 수지 및 첨가제를 포함하는 고내열성 잉크 조성물을 이용함으로써 패턴의 선폭 및 선 간격을 일정하게 유지시켜 정밀한 미세 패턴을 형성하기 위한 것으로, 노블락 수지 5 내지 45 중량부; 열적 안정성을 유지하기 위해 첨가하며, 말단이 -OH기로 이루어져 있는 메틸갈레이트 또는 프로필갈레이트의 저분자 첨가제 5 내지 45 중량부; 및 유기용매 50 내지 90 중량부를 포함하며, 상기 저분자 첨가제의 열정 안정성으로 인해 90 ~ 250℃의 고온에서 열처리 후에도 패턴의 선폭의 변화가 없는 것을 특징으로 한다.
잉크 조성물, 임프린트 리소그래피, 롤 프린트, 고분자 수지, 첨가제

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