专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW385380B 流體供應裝置有权
简体标题：流体供应设备
公开(公告)号：TW385380B
公开(公告)日：2000-03-21
申请号：TW088100902
申请日：1999-01-21
申请人：大見忠弘 , 東京威力科創有限公司 , 富士金股份有限公司
发明人：大見忠弘 , 加賀爪哲 , 杉山一彥 , 池田信一 , 西野功二 , 川田幸司 , 皆見幸男
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D7/0635 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
摘要：防止在流體之供應開始時或切換時過度地發生的流體之過調量，可經常地控制高精度之流體。
一種流體供應裝置，其特徵為：控制流體流量之壓力流量控制器Ｃ，及開關壓力流量控制器Ｃ之二次側流體通路Ｌ的流體切換閥Ｄ，及控制壓力流量控制器Ｃ與流體切換閥Ｄ之作動的流體供應控制裝置Ｂ所構成；且將上述壓力流量控制器Ｃ設於節流口５與節流口５之上游側的控制閥１，及設於控制閥１與節流口５間的壓力檢測器３，及將從壓力檢測器３之檢測壓力Ｐ１演算作為流量Ｑ。＝ＫＰ１(但是Ｋ係常數)之流量信號Ｑ。與流量指令信號Ｑ。之相差作為控制信號Ｑ。而輸出至上述控制閥１之驅動部２的演算控制裝置６所形成，同時介經上述控制閥１之開關來調整節流口５之上游側壓力Ｐ１，俾控制節流口５之下游側之流量的構成者。
简体摘要：防止在流体之供应开始时或切换时过度地发生的流体之过调量，可经常地控制高精度之流体。一种流体供应设备，其特征为：控制流体流量之压力流量控制器Ｃ，及开关压力流量控制器Ｃ之二次侧流体通路Ｌ的流体切换阀Ｄ，及控制压力流量控制器Ｃ与流体切换阀Ｄ之作动的流体供应控制设备Ｂ所构成；且将上述压力流量控制器Ｃ设于节流口５与节流口５之上游侧的控制阀１，及设于控制阀１与节流口５间的压力检测器３，及将从压力检测器３之检测压力Ｐ１演算作为流量Ｑ。＝ＫＰ１(但是Ｋ系常数)之流量信号Ｑ。与流量指令信号Ｑ。之相差作为控制信号Ｑ。而输出至上述控制阀１之驱动部２的演算控制设备６所形成，同时介经上述控制阀１之开关来调整节流口５之上游侧压力Ｐ１，俾控制节流口５之下游侧之流量的构成者。

2. 发明专利

TW384365B 壓力式流量控制裝置有权
简体标题：压力式流量控制设备
公开(公告)号：TW384365B
公开(公告)日：2000-03-11
申请号：TW087116620
申请日：1998-10-07
申请人：富士金股份有限公司 , 東京威力科創有限公司 , 大見忠弘
发明人：大見忠弘 , 加賀爪哲 , 杉山一彥 , 土肥亮介 , 宇野富雄 , 西野功二 , 福田浩幸
IPC分类号： F16K
摘要：本發明係屬於在半導體製造裝置的氣體供給系統等所使用之壓力式流量控制裝置，係採用孔口的口徑可變型的孔口，使得流體之流量控制範圍能簡單地變更，並且能夠使壓力式流量控制裝置小形化和提高氣體的置換性，提高防止發塵性能，降低製造成本等者。
具體上，係在由孔口，和設在孔口的上游側的控制閥，和設在控制閥與孔口間之壓力檢出器，及從壓力檢出器的檢出壓力P1，將流量Q當成Q=KP1(但是K為常數)來運算，並且把流量指令信號Qs與前述運算後之流量信號Q的差值當成控制信號Qy向前述控制閥之驅動部輸出的控制裝置所構成，以將孔口之上游側壓力P1和下游側壓力P2的比保持在被控制流體之臨界壓比以下的狀態，由前述控制閥之開閉來調整孔口上游側壓力P1，而控制孔口下游側的流體流量Q之形態的壓力式流量控制裝置，前述孔口係採用直接接觸型的金屬膜片閥，且閥座和隔膜之環狀的間隙係採用可變孔口，並且藉由孔口驅動裝置來調整前述間隙之大小。
简体摘要：本发明系属于在半导体制造设备的气体供给系统等所使用之压力式流量控制设备，系采用孔口的口径可变型的孔口，使得流体之流量控制范围能简单地变更，并且能够使压力式流量控制设备小形化和提高气体的置换性，提高防止发尘性能，降低制造成本等者。具体上，系在由孔口，和设在孔口的上游侧的控制阀，和设在控制阀与孔口间之压力检出器，及从压力检出器的检出压力P1，将流量Q当成Q=KP1(但是K为常数)来运算，并且把流量指令信号Qs与前述运算后之流量信号Q的差值当成控制信号Qy向前述控制阀之驱动部输出的控制设备所构成，以将孔口之上游侧压力P1和下游侧压力P2的比保持在被控制流体之临界压比以下的状态，由前述控制阀之开闭来调整孔口上游侧压力P1，而控制孔口下游侧的流体流量Q之形态的压力式流量控制设备，前述孔口系采用直接接触型的金属膜片阀，且阀座和隔膜之环状的间隙系采用可变孔口，并且借由孔口驱动设备来调整前述间隙之大小。

3. 发明专利

TW381205B 具有壓力式流量控制裝置之氣體供應設備有权
简体标题：具有压力式流量控制设备之气体供应设备
公开(公告)号：TW381205B
公开(公告)日：2000-02-01
申请号：TW088108875
申请日：1999-05-28
申请人：富士金股份有限公司 , 東京威力科創有限公司 , 大見忠弘
发明人：大見忠弘 , 加賀爪哲 , 池田信一 , 西野功二 , 吉川和博 , 出田英二 , 上肥亮介
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D7/0635 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
摘要：本發明之課題係將在半導體製造裝置等所使用具有壓力式流量控制裝置之氣體供應設備更加小型化來降低製造成本，並且，改善過渡流量特性來防止氣體供應揭示時之氣體之越標(overshoot)現象之發生，藉提升流量控制精度或設備之可靠性，來減少半導體製品品質之不均勻並且提高半導體製品之製造效率。
本發明之解決手段，係將孔口(orifice)之上游側壓力保持成下游側壓力之約2倍以上之狀態下邊進行氣體之流量控制透過孔口對應閥對於製程供應氣體之壓力式流量控制裝置之氣體供應設備，其特徵為備有﹔從氣體供應源接受氣體之控制閥，與設於控制閥下游側之孔口對應閥，與設在上述控制閥與孔口對應閥間之壓力檢測器，與設於孔口對應閥之閥機構部下游側之孔口，與從上述壓力檢測器之檢測壓力P1將流量以Qc=KP1(但是K係常數)來加以演算，並且，將流量指令訊號Qs與演算流量Qc之差值作為控制訊號Qy而輸出於控制閥驅動部之演算控制裝置來構成氣體供應設備。
简体摘要：本发明之课题系将在半导体制造设备等所使用具有压力式流量控制设备之气体供应设备更加小型化来降低制造成本，并且，改善过渡流量特性来防止气体供应揭示时之气体之越标(overshoot)现象之发生，藉提升流量控制精度或设备之可靠性，来减少半导体制品品质之不均匀并且提高半导体制品之制造效率。本发明之解决手段，系将孔口(orifice)之上游侧压力保持成下游侧压力之约2倍以上之状态下边进行气体之流量控制透过孔口对应阀对于制程供应气体之压力式流量控制设备之气体供应设备，其特征为备有﹔从气体供应源接受气体之控制阀，与设于控制阀下游侧之孔口对应阀，与设在上述控制阀与孔口对应阀间之压力检测器，与设于孔口对应阀之阀机构部下游侧之孔口，与从上述压力检测器之检测压力P1将流量以Qc=KP1(但是K系常数)来加以演算，并且，将流量指令信号Qs与演算流量Qc之差值作为控制信号Qy而输出于控制阀驱动部之演算控制设备来构成气体供应设备。

4. 发明专利

TW463076B 壓力式流量控制裝置之流量異常檢知方法有权
简体标题：压力式流量控制设备之流量异常检知方法
公开(公告)号：TW463076B
公开(公告)日：2001-11-11
申请号：TW089116036
申请日：2000-08-09
申请人：富士金股份有限公司 , 東京威力科創股份有限公司 , 大見忠弘 , 飯田精一
发明人：大見忠弘 , 飯田精一 , 加賀爪哲 , 廣瀨潤 , 深澤和夫 , 小泉浩 , 長岡秀樹 , 宇野富雄 , 西野功二 , 池田信一 , 土肥亮介 , 出田英二
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05B23/0235 , G05B23/0256 , G05D7/0635 , Y10T137/0396 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761 , Y10T137/8326
摘要：於利用孔口(orifice)之壓力式流量控制裝置，有關邊控制流量也可用簡單構成進行檢知孔口堵塞之技術。
本發明之解決手段，係將上游側壓力Pl保持為下游側壓力P2之大約2倍以上將下游側之流量Qc以Qc= KPl(K:常數)演算，藉此演算流量Qc與設定流量 Qs之差值訊號QY以開閉控制控制閥CV之流量控制裝置FCS，提案一種從另設之檢定電路或流量設定電路輸出具有檢定振幅VO之檢定用訊號△QS，而應答於此來測定上游側壓力Pl之變動壓力△Pl之壓力振幅V，當此壓力振幅V變成較界限振幅Vt為小時告知孔口堵塞之流量異常檢知方法。
若從檢定電路或流量設定流量重疊於恒常設定流量 QSO輸出檢定用訊號△QS時，由恒常設定流量QSO邊控制流量就可檢知流量異常。
简体摘要：于利用孔口(orifice)之压力式流量控制设备，有关边控制流量也可用简单构成进行检知孔口堵塞之技术。本发明之解决手段，系将上游侧压力Pl保持为下游侧压力P2之大约2倍以上将下游侧之流量Qc以Qc= KPl(K:常数)演算，借此演算流量Qc与设置流量 Qs之差值信号QY以开闭控制控制阀CV之流量控制设备FCS，提案一种从另设之检定电路或流量设置电路输出具有检定振幅VO之检定用信号△QS，而应答于此来测定上游侧压力Pl之变动压力△Pl之压力振幅V，当此压力振幅V变成较界限振幅Vt为小时告知孔口堵塞之流量异常检知方法。若从检定电路或流量设置流量重叠于恒常设置流量 QSO输出检定用信号△QS时，由恒常设置流量QSO边控制流量就可检知流量异常。

5. 发明专利

TW445401B 平行分流式流體供應裝置與使用該裝置之流體可變型壓力式流量控制方法及流體可變型壓力式流量控制裝置有权
简体标题：平行分流式流体供应设备与使用该设备之流体可变型压力式流量控制方法及流体可变型压力式流量控制设备
公开(公告)号：TW445401B
公开(公告)日：2001-07-11
申请号：TW089107095
申请日：2000-04-15
申请人：富士金股份有限公司 , 東京威力科創股份有限公司 , 大見忠弘
发明人：大見忠弘 , 加賀爪哲 , 廣瀨潤 , 杉山一彥 , 深澤和夫 , 小泉浩 , 長岡秀樹 , 皆見幸男 , 西野功二 , 土肥亮介 , 米華克典 , 池田信一 , 山路道雄 , 森本明弘 , 宇野富雄 , 出田英二 , 松本篤志 , 上野山豊已
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D7/0658 , G05D7/0664 , Y10S438/935 , Y10T137/0396 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761 , Y10T137/86389 , Y10T137/87877 , Y10T137/87917
摘要：一種平行分流式流體供應裝置與使用該裝置之流體的可變型壓力式流量控制方法及流體可變型壓力式流量控制裝置，從壓力調整用的l個調整器平行配設複數條流路之流體供應裝置中，使各流路之流體供應的開關操作不致對其他流路之穩態供應造成過大的變動。因此，在各流路上配設流量控制用質量流控制器MFC或壓力式流量控制裝置FCS，某流路之流體供給自關閉而開啟時，構成從其流路之質量流控制器MFC動作開始僅延遲預定的延遲時間△t到達設定流量Qs。
又，利用l台壓力式流量控制裝置可高精度流量控制複數氣體種類及實現其裝置。因此，以臨界壓力比以下的條件理論性導出通過孔口的氣體流量，根據該式定義流動係數，利用該流動係數形成可對應多數之氣體種類者。
亦即，將孔口8的上游側壓力P1保持在下游壓力P2約2倍以上的狀態下，通過孔口的氣體運算流量Qc以 Qc=KP1(K為常數)運算之流量控制方法中，各種類氣體係以FF=(k/γs){2/(κ+l)}](x.1)〔κ/{(κ十l)R}〕1/2計算流動係數FF，氣體種類A的運算流量為QA時，在同一孔口、同一上游側壓力及同一上游側溫度的條件下使氣體種類B流通時，以其運算流量QvB作為QvB(EFvB/EFvA)QvA算出。其中，γS為氣體的標準狀態密度，κ為氣體的比熱比，R為氣體常數，k為未依據氣體種類之比例常數，FFvA.FFvB為氣體種類A.B的流動係數。
简体摘要：一种平行分流式流体供应设备与使用该设备之流体的可变型压力式流量控制方法及流体可变型压力式流量控制设备，从压力调整用的l个调整器平行配设复数条流路之流体供应设备中，使各流路之流体供应的开关操作不致对其他流路之稳态供应造成过大的变动。因此，在各流路上配设流量控制用质量流控制器MFC或压力式流量控制设备FCS，某流路之流体供给自关闭而打开时，构成从其流路之质量流控制器MFC动作开始仅延迟预定的延迟时间△t到达设置流量Qs。又，利用l台压力式流量控制设备可高精度流量控制复数气体种类及实现其设备。因此，以临界压力比以下的条件理论性导出通过孔口的气体流量，根据该式定义流动系数，利用该流动系数形成可对应多数之气体种类者。亦即，将孔口8的上游侧压力P1保持在下游压力P2约2倍以上的状态下，通过孔口的气体运算流量Qc以 Qc=KP1(K为常数)运算之流量控制方法中，各种类气体系以FF=(k/γs){2/(κ+l)}](x.1)〔κ/{(κ十l)R}〕1/2计算流动系数FF，气体种类A的运算流量为QA时，在同一孔口、同一上游侧压力及同一上游侧温度的条件下使气体种类B流通时，以其运算流量QvB作为QvB(EFvB/EFvA)QvA算出。其中，γS为气体的标准状态密度，κ为气体的比热比，R为气体常数，k为未依据气体种类之比例常数，FFvA.FFvB为气体种类A.B的流动系数。

6. 发明专利

TW244917B 螺栓構件鎖緊方法失效
简体标题：螺栓构件锁紧方法
公开(公告)号：TW244917B
公开(公告)日：1995-04-11
申请号：TW083105088
申请日：1994-06-03
申请人：大見忠弘 , 富士金股份有限公司
发明人：土肥亮介 , 大見忠弘 , 山路道雄 , 出田英二 , 池田信一 , 西野功二 , 長井邦雄
IPC分类号： B23P
摘要：本發明係有關於一種螺栓構件鎖緊方法，其主要係事先設定在正常鎖緊時螺栓構件對旋轉角度之鎖緊扭矩的基準範圍，將螺帽鎖緊於公螺絲構件時，則對於每一規定角度，藉扭矩檢測器檢測出其鎖緊扭矩，而藉微電腦判斷相對於旋轉角度之鎖緊扭矩是否在基準範圍內。又將該判斷結果由發光二極體以及蜂鳴器加以表示。
简体摘要：本发明系有关于一种螺栓构件锁紧方法，其主要系事先设置在正常锁紧时螺栓构件对旋转角度之锁紧扭矩的基准范围，将螺帽锁紧于公螺丝构件时，则对于每一规定角度，藉扭矩检测器检测出其锁紧扭矩，而藉微电脑判断相对于旋转角度之锁紧扭矩是否在基准范围内。又将该判断结果由发光二极管以及蜂鸣器加以表示。

7. 发明专利

TW552491B 改良型壓力式流量控制裝置有权
简体标题：改良型压力式流量控制设备
公开(公告)号：TW552491B
公开(公告)日：2003-09-11
申请号：TW091135458
申请日：2002-12-06
申请人：富士金股份有限公司 , 東京威力科創股份有限公司 , 大見忠弘
发明人：大見忠弘 , 乾秀二郎 , 酒井泰治 , 植山將宜 , 杉山一彥 , 宇野富雄 , 池田信一 , 西野功二 , 中村修 , 土肥亮介 , 松本薦諮
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D7/0635 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
摘要：本發明之技術課題為開發非臨界領域中確立高精度匹配壓縮性流體的實際流量的實驗流量式，使用此流量式高精度進行流量控制的改良型壓力式流量控制裝置。
本發明之解決手段在於提供一種改良型壓力式流量控制裝置，其以QC=KP2m(P1-P2)n表示非臨界領域(非音速域)中壓縮性流體的實驗流量式，以此QC=KP2m(P1-P2)n(K為比例常數，m及n為常數)計算通過孔口4的流體流量，同正確且高速地將流量控制於指定流量。又提供一種改良型壓力式流量控制裝置，其經常將上游側壓力P1及下游側壓力P2所得壓力比P2/P1=r與臨界值rc比較，在臨界條件(r≦rc)下以QC=KP1，在非臨界條件(r>rc)下以 Qc=KP2m(P1-P2)n運算流量，可一面對應流體的所有條件，一面正確且高速地將流量控制於指定流量。
简体摘要：本发明之技术课题为开发非临界领域中确立高精度匹配压缩性流体的实际流量的实验流量式，使用此流量式高精度进行流量控制的改良型压力式流量控制设备。本发明之解决手段在于提供一种改良型压力式流量控制设备，其以QC=KP2m(P1-P2)n表示非临界领域(非音速域)中压缩性流体的实验流量式，以此QC=KP2m(P1-P2)n(K为比例常数，m及n为常数)计算通过孔口4的流体流量，同正确且高速地将流量控制于指定流量。又提供一种改良型压力式流量控制设备，其经常将上游侧压力P1及下游侧压力P2所得压力比P2/P1=r与临界值rc比较，在临界条件(r≦rc)下以QC=KP1，在非临界条件(r>rc)下以 Qc=KP2m(P1-P2)n运算流量，可一面对应流体的所有条件，一面正确且高速地将流量控制于指定流量。

8. 实用新型

TW471583U 孔口內設閥失效
简体标题：孔口内设阀
公开(公告)号：TW471583U
公开(公告)日：2002-01-01
申请号：TW090211979
申请日：2000-07-06
申请人：富士金股份有限公司 , 大見忠弘
发明人：大見忠弘 , 出田英二 , 土肥亮介 , 西野功二 , 池田信一 , 廣瀨隆 , 山路道雄
IPC分类号： F16K
摘要：可謀求減少使用於具備在半導體製造裝置或化學品製造設備所使用之壓力式流量控制裝置之氣體供給設備等的孔口內設閥之製造成本，同時藉提高孔口之加精度及防止閥裝配時之孔口變形，提供一種可得到優異之流量控制特性的孔口內設閥。為了此，在本創作中，係由形成有連通於上方開放之閥室之氣體流入路與氣體流出路的耐熱材料製閥本體，及設於閥本體之閥室內，形成有相連通於上述閥本體之氣體流出路之氣體流出路與閥座的含成樹脂製閥座體，及可裝卸地設於閥座體之氣體流出路中之耐熱材料製孔口盤，及形成在孔口盤且縮小閥座體之氣體流出路的孔口，來構成孔口內設閥之主要部；在不銹鋼製孔口盤事先形成孔口，同時裝卸自如地裝配藉由其他加工讓孔口所形成之金屬製孔口盤與合成樹脂製閥座體，藉著經由金屬製內盤。推壓壓縮合成樹脂帶製閥座體，將兩者密狀地組製在閥本體。
简体摘要：可谋求减少使用于具备在半导体制造设备或化学品制造设备所使用之压力式流量控制设备之气体供给设备等的孔口内设阀之制造成本，同时藉提高孔口之加精度及防止阀装配时之孔口变形，提供一种可得到优异之流量控制特性的孔口内设阀。为了此，在本创作中，系由形成有连通于上方开放之阀室之气体流入路与气体流出路的耐热材料制阀本体，及设于阀本体之阀室内，形成有相连通于上述阀本体之气体流出路之气体流出路与阀座的含成树脂制阀座体，及可装卸地设于阀座体之气体流出路中之耐热材料制孔口盘，及形成在孔口盘且缩小阀座体之气体流出路的孔口，来构成孔口内设阀之主要部；在不锈钢制孔口盘事先形成孔口，同时装卸自如地装配借由其他加工让孔口所形成之金属制孔口盘与合成树脂制阀座体，借着经由金属制内盘。推压压缩合成树脂带制阀座体，将两者密状地组制在阀本体。

9. 发明专利

TW455751B 流體可變型流量控制裝置有权
简体标题：流体可变型流量控制设备
公开(公告)号：TW455751B
公开(公告)日：2001-09-21
申请号：TW088113823
申请日：1999-08-12
申请人：大見忠弘 , 東京威力科創股份有限公司 , 富士金股份有限公司
发明人：大見忠弘 , 加賀爪哲 , 廣瀨潤 , 西野功二
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D7/0658 , G05D7/0635 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
摘要：本發明之流量控制裝置係由:設成變換自如之孔口;控制閥;配設於控制閥和孔口間之壓力偵測器;運算所偵測壓力用之流量運算電路;輸出流量設定信號的流量設定電路;變換運算流量信號為切換(轉換)運算流量信號之沆量變換電路;及切換運算流量信號和流量設定信號之差做為控制信號來輸出至控制閥之驅動部的運算控制電路所構成，而以開閉控制閥來使之控制信號成為零，以控制孔口下流側之流量者。
简体摘要：本发明之流量控制设备系由:设成变换自如之孔口;控制阀;配设于控制阀和孔口间之压力侦测器;运算所侦测压力用之流量运算电路;输出流量设置信号的流量设置电路;变换运算流量信号为切换(转换)运算流量信号之沆量变换电路;及切换运算流量信号和流量设置信号之差做为控制信号来输出至控制阀之驱动部的运算控制电路所构成，而以开闭控制阀来使之控制信号成为零，以控制孔口下流侧之流量者。

10. 发明专利

TW200301414A 改良型壓力式流量控制裝置有权
简体标题：改良型压力式流量控制设备
公开(公告)号：TW200301414A
公开(公告)日：2003-07-01
申请号：TW091135458
申请日：2002-12-06
申请人：富士金股份有限公司株式會社 , 東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED , 大見忠弘 TADAHIRO OHMI
发明人：大見忠弘 TADAHIRO OHMI , 乾秀二郎 , 酒井泰治 , 植山將宜 , 杉山一彥 , 宇野富雄 , 池田信一 , 西野功二 , 中村修 , 土肥亮介 , 松本薦諮
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D7/0635 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
摘要：本發明之技術課題為開發非臨界領域中確立高精度匹配壓縮性流體的實際流量的實驗流量式，使用此流量式高精度進行流量控制的改良型壓力式流量控制裝置。本發明之解決手段在於提供一種改良型壓力式流量控制裝置，其以Qc=KP2^m(P1-P2)^n表示非臨界領域(非音速域)中壓縮性流體的實驗流量式，以此Qc=KP2^m(P1-P2)^n(K為比例常數，m及n為常數)計算通過孔口4的流體流量，可正確且高速地將流量控制於指定流量。又提供一種改良型壓力式流量控制裝置，其經常將上游側壓力P1及下游側壓力P2所得壓力比P2/P1=r與臨界值rc比較，在臨界條件(r≦rc)下以 Qc=KP1，在非臨界條件(r>rc)下以Qc=KP2^m(P1-P2)^n運算流量，可一面對應流體的所有條件，一面正確且高速地將流量控制於指定流量。
简体摘要：本发明之技术课题为开发非临界领域中确立高精度匹配压缩性流体的实际流量的实验流量式，使用此流量式高精度进行流量控制的改良型压力式流量控制设备。本发明之解决手段在于提供一种改良型压力式流量控制设备，其以Qc=KP2^m(P1-P2)^n表示非临界领域(非音速域)中压缩性流体的实验流量式，以此Qc=KP2^m(P1-P2)^n(K为比例常数，m及n为常数)计算通过孔口4的流体流量，可正确且高速地将流量控制于指定流量。又提供一种改良型压力式流量控制设备，其经常将上游侧压力P1及下游侧压力P2所得压力比P2/P1=r与临界值rc比较，在临界条件(r≦rc)下以 Qc=KP1，在非临界条件(r>rc)下以Qc=KP2^m(P1-P2)^n运算流量，可一面对应流体的所有条件，一面正确且高速地将流量控制于指定流量。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式