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1. 发明专利

TW381205B 具有壓力式流量控制裝置之氣體供應設備有权
简体标题：具有压力式流量控制设备之气体供应设备
公开(公告)号：TW381205B
公开(公告)日：2000-02-01
申请号：TW088108875
申请日：1999-05-28
申请人：富士金股份有限公司 , 東京威力科創有限公司 , 大見忠弘
发明人：大見忠弘 , 加賀爪哲 , 池田信一 , 西野功二 , 吉川和博 , 出田英二 , 上肥亮介
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D7/0635 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
摘要：本發明之課題係將在半導體製造裝置等所使用具有壓力式流量控制裝置之氣體供應設備更加小型化來降低製造成本，並且，改善過渡流量特性來防止氣體供應揭示時之氣體之越標(overshoot)現象之發生，藉提升流量控制精度或設備之可靠性，來減少半導體製品品質之不均勻並且提高半導體製品之製造效率。
本發明之解決手段，係將孔口(orifice)之上游側壓力保持成下游側壓力之約2倍以上之狀態下邊進行氣體之流量控制透過孔口對應閥對於製程供應氣體之壓力式流量控制裝置之氣體供應設備，其特徵為備有﹔從氣體供應源接受氣體之控制閥，與設於控制閥下游側之孔口對應閥，與設在上述控制閥與孔口對應閥間之壓力檢測器，與設於孔口對應閥之閥機構部下游側之孔口，與從上述壓力檢測器之檢測壓力P1將流量以Qc=KP1(但是K係常數)來加以演算，並且，將流量指令訊號Qs與演算流量Qc之差值作為控制訊號Qy而輸出於控制閥驅動部之演算控制裝置來構成氣體供應設備。
简体摘要：本发明之课题系将在半导体制造设备等所使用具有压力式流量控制设备之气体供应设备更加小型化来降低制造成本，并且，改善过渡流量特性来防止气体供应揭示时之气体之越标(overshoot)现象之发生，藉提升流量控制精度或设备之可靠性，来减少半导体制品品质之不均匀并且提高半导体制品之制造效率。本发明之解决手段，系将孔口(orifice)之上游侧压力保持成下游侧压力之约2倍以上之状态下边进行气体之流量控制透过孔口对应阀对于制程供应气体之压力式流量控制设备之气体供应设备，其特征为备有﹔从气体供应源接受气体之控制阀，与设于控制阀下游侧之孔口对应阀，与设在上述控制阀与孔口对应阀间之压力检测器，与设于孔口对应阀之阀机构部下游侧之孔口，与从上述压力检测器之检测压力P1将流量以Qc=KP1(但是K系常数)来加以演算，并且，将流量指令信号Qs与演算流量Qc之差值作为控制信号Qy而输出于控制阀驱动部之演算控制设备来构成气体供应设备。

2. 发明专利

TW385380B 流體供應裝置有权
简体标题：流体供应设备
公开(公告)号：TW385380B
公开(公告)日：2000-03-21
申请号：TW088100902
申请日：1999-01-21
申请人：大見忠弘 , 東京威力科創有限公司 , 富士金股份有限公司
发明人：大見忠弘 , 加賀爪哲 , 杉山一彥 , 池田信一 , 西野功二 , 川田幸司 , 皆見幸男
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D7/0635 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
摘要：防止在流體之供應開始時或切換時過度地發生的流體之過調量，可經常地控制高精度之流體。
一種流體供應裝置，其特徵為：控制流體流量之壓力流量控制器Ｃ，及開關壓力流量控制器Ｃ之二次側流體通路Ｌ的流體切換閥Ｄ，及控制壓力流量控制器Ｃ與流體切換閥Ｄ之作動的流體供應控制裝置Ｂ所構成；且將上述壓力流量控制器Ｃ設於節流口５與節流口５之上游側的控制閥１，及設於控制閥１與節流口５間的壓力檢測器３，及將從壓力檢測器３之檢測壓力Ｐ１演算作為流量Ｑ。＝ＫＰ１(但是Ｋ係常數)之流量信號Ｑ。與流量指令信號Ｑ。之相差作為控制信號Ｑ。而輸出至上述控制閥１之驅動部２的演算控制裝置６所形成，同時介經上述控制閥１之開關來調整節流口５之上游側壓力Ｐ１，俾控制節流口５之下游側之流量的構成者。
简体摘要：防止在流体之供应开始时或切换时过度地发生的流体之过调量，可经常地控制高精度之流体。一种流体供应设备，其特征为：控制流体流量之压力流量控制器Ｃ，及开关压力流量控制器Ｃ之二次侧流体通路Ｌ的流体切换阀Ｄ，及控制压力流量控制器Ｃ与流体切换阀Ｄ之作动的流体供应控制设备Ｂ所构成；且将上述压力流量控制器Ｃ设于节流口５与节流口５之上游侧的控制阀１，及设于控制阀１与节流口５间的压力检测器３，及将从压力检测器３之检测压力Ｐ１演算作为流量Ｑ。＝ＫＰ１(但是Ｋ系常数)之流量信号Ｑ。与流量指令信号Ｑ。之相差作为控制信号Ｑ。而输出至上述控制阀１之驱动部２的演算控制设备６所形成，同时介经上述控制阀１之开关来调整节流口５之上游侧压力Ｐ１，俾控制节流口５之下游侧之流量的构成者。

3. 发明专利

TW384365B 壓力式流量控制裝置有权
简体标题：压力式流量控制设备
公开(公告)号：TW384365B
公开(公告)日：2000-03-11
申请号：TW087116620
申请日：1998-10-07
申请人：富士金股份有限公司 , 東京威力科創有限公司 , 大見忠弘
发明人：大見忠弘 , 加賀爪哲 , 杉山一彥 , 土肥亮介 , 宇野富雄 , 西野功二 , 福田浩幸
IPC分类号： F16K
摘要：本發明係屬於在半導體製造裝置的氣體供給系統等所使用之壓力式流量控制裝置，係採用孔口的口徑可變型的孔口，使得流體之流量控制範圍能簡單地變更，並且能夠使壓力式流量控制裝置小形化和提高氣體的置換性，提高防止發塵性能，降低製造成本等者。
具體上，係在由孔口，和設在孔口的上游側的控制閥，和設在控制閥與孔口間之壓力檢出器，及從壓力檢出器的檢出壓力P1，將流量Q當成Q=KP1(但是K為常數)來運算，並且把流量指令信號Qs與前述運算後之流量信號Q的差值當成控制信號Qy向前述控制閥之驅動部輸出的控制裝置所構成，以將孔口之上游側壓力P1和下游側壓力P2的比保持在被控制流體之臨界壓比以下的狀態，由前述控制閥之開閉來調整孔口上游側壓力P1，而控制孔口下游側的流體流量Q之形態的壓力式流量控制裝置，前述孔口係採用直接接觸型的金屬膜片閥，且閥座和隔膜之環狀的間隙係採用可變孔口，並且藉由孔口驅動裝置來調整前述間隙之大小。
简体摘要：本发明系属于在半导体制造设备的气体供给系统等所使用之压力式流量控制设备，系采用孔口的口径可变型的孔口，使得流体之流量控制范围能简单地变更，并且能够使压力式流量控制设备小形化和提高气体的置换性，提高防止发尘性能，降低制造成本等者。具体上，系在由孔口，和设在孔口的上游侧的控制阀，和设在控制阀与孔口间之压力检出器，及从压力检出器的检出压力P1，将流量Q当成Q=KP1(但是K为常数)来运算，并且把流量指令信号Qs与前述运算后之流量信号Q的差值当成控制信号Qy向前述控制阀之驱动部输出的控制设备所构成，以将孔口之上游侧压力P1和下游侧压力P2的比保持在被控制流体之临界压比以下的状态，由前述控制阀之开闭来调整孔口上游侧压力P1，而控制孔口下游侧的流体流量Q之形态的压力式流量控制设备，前述孔口系采用直接接触型的金属膜片阀，且阀座和隔膜之环状的间隙系采用可变孔口，并且借由孔口驱动设备来调整前述间隙之大小。

4. 发明专利

TW446807B 半導體製造設備、半導體製造裝置及半導體製造方法失效
简体标题：半导体制造设备、半导体制造设备及半导体制造方法
公开(公告)号：TW446807B
公开(公告)日：2001-07-21
申请号：TW089113080
申请日：2000-07-01
申请人：東京威力科創有限公司 , 大見忠弘 , 大成建設股份有限公司
发明人：末永修 , 大見忠弘 , 小林貞雄
IPC分类号： F27D
CPC分类号： H01L21/67109 , H01L21/67098 , Y10S414/135 , Y10S414/14
摘要：本發明提供一種半導體製造設備，其係由以下部分所構成：潔淨室(l);半導體製造機器(12)，其係設置在該潔淨室(l)內，於使用時隨伴發熱;筐體(1l)，其係覆蓋該半導體製造機器(12)，並使前述潔淨室內的空氣導入內部;及排氣管路材料(24,25)，其係將前述筐體(ll)內的空氣排出前述潔淨室(l)，該半導體製造設備的特徵為，藉由在前述筐體(ll)內設置隔熱材料(4)，防止從前述筐體(ll)所產生的熱排放至前述潔淨室(l)內的空氣中。
简体摘要：本发明提供一种半导体制造设备，其系由以下部分所构成：洁净室(l);半导体制造机器(12)，其系设置在该洁净室(l)内，于使用时随伴发热;筐体(1l)，其系覆盖该半导体制造机器(12)，并使前述洁净室内的空气导入内部;及排气管路材料(24,25)，其系将前述筐体(ll)内的空气排出前述洁净室(l)，该半导体制造设备的特征为，借由在前述筐体(ll)内设置隔热材料(4)，防止从前述筐体(ll)所产生的热排放至前述洁净室(l)内的空气中。

5. 发明专利

TW446809B 半導體製造設備失效
简体标题：半导体制造设备
公开(公告)号：TW446809B
公开(公告)日：2001-07-21
申请号：TW089113097
申请日：2000-07-01
申请人：東京威力科創有限公司 , 大見忠弘 , 大成建設股份有限公司
发明人：末永修 , 大見忠弘 , 小林貞雄
IPC分类号： F28B , F28D
CPC分类号： H01L21/67098 , Y02P70/605 , Y02P80/156
摘要：本發明係在熱處理裝置的加熱爐周圍，設置一種冷卻水路組件(5)。該冷卻組件具有包括內側流路(51)及外側流路(52)的雙重水路，其中供應至外側流路的冷卻水，將由內側水路流出。冷卻水路組件(5)的入口及出口溫度，舉例來說，分別設為40℃及85℃，並將出口側的冷卻水(溫排水)供應至熱回收部(2)。熱回收部(2)由冷卻水回收熱能後,回收的熱能將重新應用在鍋爐水加熱等的用途。經過熱回收處理的冷卻水,將再度供應至冷卻水路組件(5)。
简体摘要：本发明系在热处理设备的加热炉周围，设置一种冷却水路组件(5)。该冷却组件具有包括内侧流路(51)及外侧流路(52)的双重水路，其中供应至外侧流路的冷却水，将由内侧水路流出。冷却水路组件(5)的入口及出口温度，举例来说，分别设为40℃及85℃，并将出口侧的冷却水(温排水)供应至热回收部(2)。热回收部(2)由冷却水回收热能后,回收的热能将重新应用在锅炉水加热等的用途。经过热回收处理的冷却水,将再度供应至冷却水路组件(5)。

6. 发明专利

TW466213B 水分產生用反應爐有权
简体标题：水分产生用反应炉
公开(公告)号：TW466213B
公开(公告)日：2001-12-01
申请号：TW089110825
申请日：2000-06-02
申请人：富士金股份有限公司 , 大見忠弘
发明人：大見忠弘 , 池田信一 , 川田幸司 , 森本明弘 , 皆見幸男 , 坪田憲士 , 本井傳晃央 , 平井暢 , 米華克典 , 平尾圭志
IPC分类号： C01B
摘要：本發明提供一種水分發生用反應爐，係以更能完全防止於水分產生用反應爐本體之內部的對氫氣之著火或逆火之發生以及白金塗層觸媒層之剝離以進一步提升水分產生用反應爐之安全性之同時，減少反應爐本體之內部空間之死角空間以謀求反應體本體之進一步小型化為主要目的者。詳言之，
使具有氣體供給口的入口側爐本體構件與具有水分氣體取出口的出口側爐本體構件相對向而組合，藉兩者之焊接而形成反應爐本體、左其內部空間設置反射體之同時在前述出口側爐本體構件之內壁面形成白金塗層觸媒層、藉由使從氣體供給口供給反應爐本體之內部空間內的氫氣及氧氣接觸白金塗層被膜以使其反應性活性化，而使氫氣與氧氣在非燃燒之狀態下進行反應以產生水。
简体摘要：本发明提供一种水分发生用反应炉，系以更能完全防止于水分产生用反应炉本体之内部的对氢气之着火或逆火之发生以及白金涂层触媒层之剥离以进一步提升水分产生用反应炉之安全性之同时，减少反应炉本体之内部空间之死角空间以谋求反应体本体之进一步小型化为主要目的者。详言之，使具有气体供给口的入口侧炉本体构件与具有水分气体取出口的出口侧炉本体构件相对向而组合，藉两者之焊接而形成反应炉本体、左其内部空间设置反射体之同时在前述出口侧炉本体构件之内壁面形成白金涂层触媒层、借由使从气体供给口供给反应炉本体之内部空间内的氢气及氧气接触白金涂层被膜以使其反应性活性化，而使氢气与氧气在非燃烧之状态下进行反应以产生水。

7. 发明专利

TW435058B 具有作為安裝上段構件之基準孔的複數下段構件之固定方法及固定用工模有权
简体标题：具有作为安装上段构件之基准孔的复数下段构件之固定方法及固定用工模
公开(公告)号：TW435058B
公开(公告)日：2001-05-16
申请号：TW087116896
申请日：1998-10-12
申请人：大見忠弘 , 富士金股份有限公司
发明人：大見忠弘 , 山路道雄 , 篠原努
IPC分类号： H05K
CPC分类号： F16K27/003 , Y10T29/49895 , Y10T29/49899 , Y10T29/49902 , Y10T29/53913 , Y10T29/53978
摘要：首先，使用二個間隔保持工模81，其係具有以相等於基準孔106間距離之設定值間隔，而在下面設置排列於左右的突起82之直方體狀本體81a，對各下段構件31、32、33前方之基準孔106，以第一間隔保持工模81之各突起82，將第二間隔保持工模81之各突起82分別嵌合於同下段構件後方之基準孔106。接著，設置分別接觸於第一間隔保持工模81之前側面，第二間隔保持工模81之後側面及兩間隔保持工模81之左右兩側面的內側面的方形框狀之直角保持工模，嵌合於二個間隔保持工模81之本體81a，用來調整直角度。並依此狀態以螺栓構件110鎖緊固定。[選擇圖]第6圖
简体摘要：首先，使用二个间隔保持工模81，其系具有以相等于基准孔106间距离之设置值间隔，而在下面设置排列于左右的突起82之直方体状本体81a，对各下段构件31、32、33前方之基准孔106，以第一间隔保持工模81之各突起82，将第二间隔保持工模81之各突起82分别嵌合于同下段构件后方之基准孔106。接着，设置分别接触于第一间隔保持工模81之前侧面，第二间隔保持工模81之后侧面及两间隔保持工模81之左右两侧面的内侧面的方形框状之直角保持工模，嵌合于二个间隔保持工模81之本体81a，用来调整直角度。并依此状态以螺栓构件110锁紧固定。[选择图]第6图

8. 发明专利

TW432267B 壓力式流量控制裝置之孔口阻塞偵知方法及偵知裝置有权
简体标题：压力式流量控制设备之孔口阻塞侦知方法及侦知设备
公开(公告)号：TW432267B
公开(公告)日：2001-05-01
申请号：TW088114058
申请日：1999-08-17
申请人：富士金股份有限公司 , 東京威力科創股份有限公司 , 大見忠弘
发明人：大見忠弘 , 加賀爪哲 , 廣瀨潤 , 西野功二 , 池田信一 , 山路道雄 , 土肥亮介
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D7/0635 , Y10T137/0396 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761 , Y10T137/8326
摘要：本發明有關於壓力式流量控制裝置之孔口阻塞偵知方法及該孔口阻塞偵知裝置。
(課題)本發明係利用孔口之流量控制裝置中，不需要分解之下藉由上游側壓力之檢出而實施孔口之阻塞之偵知(檢出)由而延長流量控制裝置之壽命及提高安全性。
(解決手段)將上游側壓力P1保持於下游側壓力P2之約2倍以上而將下游側之流量QvC以QvC=KP1(K:常數)來計算，而以此計算流量QvC與設定流量Qs之相差訊號QvY來實施控制閥(CV)之開閉控制之流量控制裝置中，其特徵為，由:記憶了該在孔口(2)沒有阻塞之條件下，由高設定流量QvSH切換至低設定流量QvSL而所測定之上游側壓力P1之基準壓力減衰數據Y(t)之記憶裝置 M，及在孔口(2)之實際條件下由高設定量量QvSH而切換至低設定流量QvSL以資測定上游側壓力P1之壓力減衰數據P(t)之上述壓力檢出器(14);及將壓力減衰數據P(t)與基準壓力減衰數據Y(t)實施對比計算之中央計算處理裝置ＣＰＵ；以及當壓力減衰數據P(t）之自基準壓力減衰數據Y（t)而離開有規定度以上時,即據以告知有阻塞之警報電路(４６)構成孔口阻塞偵出裝置。（選擇圖）第l圖。
简体摘要：本发明有关于压力式流量控制设备之孔口阻塞侦知方法及该孔口阻塞侦知设备。 (课题)本发明系利用孔口之流量控制设备中，不需要分解之下借由上游侧压力之检出而实施孔口之阻塞之侦知(检出)由而延长流量控制设备之寿命及提高安全性。 (解决手段)将上游侧压力P1保持于下游侧压力P2之约2倍以上而将下游侧之流量QvC以QvC=KP1(K:常数)来计算，而以此计算流量QvC与设置流量Qs之相差信号QvY来实施控制阀(CV)之开闭控制之流量控制设备中，其特征为，由:记忆了该在孔口(2)没有阻塞之条件下，由高设置流量QvSH切换至低设置流量QvSL而所测定之上游侧压力P1之基准压力减衰数据Y(t)之记忆设备 M，及在孔口(2)之实际条件下由高设置量量QvSH而切换至低设置流量QvSL以资测定上游侧压力P1之压力减衰数据P(t)之上述压力检出器(14);及将压力减衰数据P(t)与基准压力减衰数据Y(t)实施对比计算之中央计算处理设备ＣＰＵ；以及当压力减衰数据P(t）之自基准压力减衰数据Y（t)而离开有规定度以上时,即据以告知有阻塞之警报电路(４６)构成孔口阻塞侦出设备。（选择图）第l图。

9. 发明专利

TW381157B 襯墊及管接頭有权
简体标题：衬垫及管接头
公开(公告)号：TW381157B
公开(公告)日：2000-02-01
申请号：TW088102649
申请日：1999-02-23
申请人：大見忠弘 , 富士金股份有限公司
发明人：大見忠弘 , 山路道雄 , 篠原務 , 池田信一 , 森本明弘
IPC分类号： F16L
CPC分类号： C22C38/44 , F16L19/0212 , Y10S285/917
摘要：管接頭具有一對管狀接頭構件，和介在於兩接頭構件突合端面的圓環狀襯墊(Gasket)，和連接兩接頭構件的螺栓手段。各接頭構件係表面的畢卡斯硬度為300以上的不銹鋼製。襯墊係具有重量比鎳(Ni)12.90～15.00%，鉻(Cr)16.50～18.00% ，鉬(Mo)2.00～3.00％，碳(C)0.02％以下，矽(Si)0.30％以下，錳(Mn)0.40％以下，磷(P)0.03％以下，硫(S)0.03％以下,銅(Cu)0.25％以下，鋁(Al) O.O1％以下成份的不銹鋼製而且表面的畢卡斯硬度為90～160。[選擇圖]第1圖
简体摘要：管接头具有一对管状接头构件，和介在于两接头构件突合端面的圆环状衬垫(Gasket)，和连接两接头构件的螺栓手段。各接头构件系表面的毕卡斯硬度为300以上的不锈钢制。衬垫系具有重量比镍(Ni)12.90～15.00%，铬(Cr)16.50～18.00% ，钼(Mo)2.00～3.00％，碳(C)0.02％以下，硅(Si)0.30％以下，锰(Mn)0.40％以下，磷(P)0.03％以下，硫(S)0.03％以下,铜(Cu)0.25％以下，铝(Al) O.O1％以下成份的不锈钢制而且表面的毕卡斯硬度为90～160。[选择图]第1图

10. 发明专利

TW360758B 流體控制裝置有权
简体标题：流体控制设备
公开(公告)号：TW360758B
公开(公告)日：1999-06-11
申请号：TW087116895
申请日：1998-10-12
申请人：大見忠弘 , 富士金股份有限公司
发明人：大見忠弘 , 山路道雄 , 池田信一 , 增田尚也 , 廣瀨隆 , 橫山光祐
IPC分类号： F15B
CPC分类号： F16K27/003 , Y10T137/87885
摘要：具備配置於上段之多數流體控制構件7,8,9,10及配置於下段之多數接頭11,12,13,14,15。自左方第2個之流體控制構件8，以可從上方取出地安裝於接頭12之方塊狀本體18，一體設置1個壓力調整器19與1個壓力傳感器20。自左方第3個之流體控制構件9，以可從上方取出地安裝於接頭11,14之方塊狀本體22，以一體設置多數之開閉閥23,24。選擇圖：第1圖
简体摘要：具备配置于上段之多数流体控制构件7,8,9,10及配置于下段之多数接头11,12,13,14,15。自左方第2个之流体控制构件8，以可从上方取出地安装于接头12之方块状本体18，一体设置1个压力调整器19与1个压力传感器20。自左方第3个之流体控制构件9，以可从上方取出地安装于接头11,14之方块状本体22，以一体设置多数之开闭阀23,24。选择图：第1图

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