专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JP2014182154A Active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using the composition, pattern formation method, method for manufacturing electronic device, and electronic device 审中-公开
标题翻译：活性敏感性或辐射敏感性树脂组合物，使用组合物的耐腐蚀膜，图案形成方法，制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：JP2014182154A
公开(公告)日：2014-09-29
申请号：JP2013054397
申请日：2013-03-15
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： TANGO NAOHIRO , YOSHITOME MASAHIRO , YAMAMOTO KEI , YAMAMOTO OSAO , KATAOKA SHOHEI
IPC分类号： G03F7/075 , C08F20/10 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2041 , C08F2230/085 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0755
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of inhibiting pattern collapses within an ultrafine region (e.g., region of line width=50 nm or less) and of improving the margin of focus (DOF: Depth of Focus); a resist film using the composition; a pattern formation method; a method for manufacturing an electronic device; and an electronic device.SOLUTION: The provided active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes: (A) a resin possessing repeating units including groups generating polar groups as a result of the decomposition thereof based on the function of an acid; (B) a compound generating an acid as a result of the irradiation thereof with active rays or radiations; and (F) a compound expressed by the following general formula (1): in the general formula (1), X expresses: an organic group including at least one type selected from the group consisting of amino groups, nitrogen-containing heterocyclic groups, epoxy groups, methacryloyl groups, vinyl groups, and mercapto groups; alkyl group; cycloalkyl group; aryl group; or alkoxy group; n is an integer of 0 to 3).
摘要翻译：要解决的问题：提供能够抑制超细区域（例如，线宽= 50nm或更小的区域）内的图案塌陷并提高聚焦余量的活性射线敏感或辐射敏感性树脂组合物（DOF：焦点深度）; 使用该组合物的抗蚀剂膜; 图案形成方法; 电子设备的制造方法; 和电子装置。解决方案：提供的活性射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包括：（A）具有重复单元的树脂，其包含基于酸的功能而分解产生极性基团的基团; （B）由于用活性射线或辐射照射而产生酸的化合物; 和（F）由以下通式（1）表示的化合物：在通式（1）中，X表示：包括选自氨基，含氮杂环基，环氧基，甲基丙烯酰基，乙烯基和巯基; 烷基; 环烷基芳基; 或烷氧基; n为0〜3的整数）。

2. 发明专利

JP2013130654A Actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film and pattern forming method using said composition, and method for manufacturing electronic device and electronic device 审中-公开
标题翻译：丙烯酸敏感性或辐射敏感性树脂组合物，耐腐蚀薄膜和使用该组合物的图案形成方法，以及制造电子器件和电子器件的方法
公开(公告)号：JP2013130654A
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：JP2011278800
申请日：2011-12-20
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： YOSHITOME MASAHIRO , KATAOKA SHOHEI , SHIBUYA AKINORI , IWATO KAORU , SUGIYAMA SHINICHI , TANGO NAOHIRO , FUKUHARA TOSHIAKI , ITO JUNICHI , MATSUDA TOMOKI , TOKUGAWA YOKO
IPC分类号： G03F7/039 , C08F8/12 , C08F20/28 , G03F7/004 , G03F7/38 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray sensitive resin composition which is excellent in exposure latitude and generates little scum, a resist film formed using the composition, and a pattern forming method using the composition, and to provide a method for manufacturing an electronic device and an electronic device.SOLUTION: An actinic ray sensitive resin composition contains (A) a resin having a repeating unit represented by the following general formula (1) and a repeating unit which is decomposed by an action of an acid to generate an alkali-soluble group, and (B) a compound, represented by the following general formula (Z-1), which generates an acid by irradiation with an actinic ray. K represents a cyclic acid anhydride group, and A represents a cyclic organic group.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供曝光宽容性优异并且几乎没有浮渣的光化射线敏感性树脂组合物，使用该组合物形成的抗蚀剂膜以及使用该组合物的图案形成方法，并提供一种电子制造方法装置和电子装置。光解射线敏感性树脂组合物含有（A）具有下述通式（1）表示的重复单元的树脂和通过酸作用而分解产生碱的重复单元 - （B）由以下通式（Z-1）表示的化合物，其通过用光化射线照射产生酸。 K表示环状酸酐基，A表示环状有机基团。

3. 发明专利

JP2013083971A Active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern formation method using the same, and electronic device manufacturing method and electronic device 有权
标题翻译：活性敏感性或辐射敏感性树脂组合物，使用其的活性敏感或辐射敏感膜和图案形成方法，以及电子设备制造方法和电子设备
公开(公告)号：JP2013083971A
公开(公告)日：2013-05-09
申请号：JP2012215289
申请日：2012-09-27
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： ITO JUNICHI , SHIBUYA AKINORI , MATSUDA TOMOKI , TOKUGAWA YOKO , FUKUHARA TOSHIAKI , TANGO NAOHIRO , IWATO KAORU , YOSHITOME MASAHIRO , SUGIYAMA SHINICHI , KATAOKA SHOHEI
IPC分类号： G03F7/004 , C07C381/12 , C08F8/12 , C09K3/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/027 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C311/48 , C07C381/12 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07D279/30 , C07D307/33 , C07D327/08 , C07D333/76 , C07D335/16 , C07D339/08 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive resin composition which has excellent pattern roughness properties such as exposure latitude and LWR and less variation in performance with time, a radiation-sensitive film and a pattern formation method using the same, and an electronic device manufacturing method and an electronic device.SOLUTION: A radiation-sensitive resin composition contains a compound represented by the following general formula (1) which decomposes to generate acid under exposure of radiation and a resin which decomposes under the action of acid so as to increase solubility in alkali developer. In general formula (1), Rand Reach independently represent an aryl, and Rand Rmay be connected. Rand Reach independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, or an aryl group. Rand Rmay be also connected. Rrepresents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aralkyl group, or an alkyl carbonyl group. Rmay be connected to Ror R.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供具有优异的图案粗糙性，例如曝光宽容度和LWR以及随时间的性能变化较小的辐射敏感性树脂组合物，使用该辐射敏感性树脂组合物的图案形成方法，电子装置的制造方法和电子装置。解决方案：辐射敏感性树脂组合物含有由下列通式（1）表示的化合物，其在辐射暴露下分解产生酸，并在酸的作用下分解树脂，以增加在碱性显影剂中的溶解度。在通式（1）中，R 1 和R 2 各自独立地表示芳基，R 1 和R 2 。 R 3 和R 4 各自独立地表示氢原子，烷基，环烷基，烯基或芳基。也可以连接R 3 和R 4 。 R“表示烷基，环烷基，烯基，芳基，芳烷基或烷基羰基。可以将R 5 连接到R 3 或R 4 。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2009258506A Negative resist composition and resist pattern-forming method 审中-公开
标题翻译：负极组合物和电阻形成方法
公开(公告)号：JP2009258506A
公开(公告)日：2009-11-05
申请号：JP2008109335
申请日：2008-04-18
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： HOSHINO WATARU , YOSHITOME MASAHIRO , TARUYA SHINJI
IPC分类号： G03F7/038 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a negative resist composition which ensures an adequate bridge margin (that is, substantially avoids the occurrence of the defect that patterns connect with each other).
SOLUTION: The negative resist composition contains (A) a resin whose solubility in an alkali developer decreases by the action of an acid, (B) a cationic polymerizable compound, (C) a cationic photopolymerization initiator, and (D) a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation. A pattern-forming method using the composition is also provided.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种确保足够的桥接裕度的负的抗蚀剂组合物（即，基本上避免了图案彼此连接的缺陷的发生）。解决方案：负型抗蚀剂组合物含有（A）通过酸的作用使碱显影剂的溶解度降低的树脂，（B）阳离子聚合性化合物，（C）阳离子性光聚合引发剂，（D）化合物，其在用光化射线或辐射照射时产生酸。还提供了使用该组合物的图案形成方法。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2009237378A Negative resist composition and method for forming pattern using the same 有权
标题翻译：负极性组合物和使用其形成图案的方法
公开(公告)号：JP2009237378A
公开(公告)日：2009-10-15
申请号：JP2008084981
申请日：2008-03-27
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： HOSHINO WATARU , TARUYA SHINJI , YOSHITOME MASAHIRO
IPC分类号： G03F7/038 , C08F220/26 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a negative resist composition exhibiting excellent sensitivity, pattern profile and defocus latitude, and to provide a method for forming a pattern. SOLUTION: The negative resist composition contains (A) an alkali-soluble resin having a repeating unit (a1), containing an alkali-soluble group in organic groups having a sulfonamide structure, organic groups having sulfonimide structure, organic groups having a dicarbonylmethylene structure and organic groups having a naphthol structure, and (a2) a repeating unit having an epoxy structure; (B) a compound having two or more epoxy structures in the molecule; and (C) a photo-acid generator. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供显示出优异的灵敏度，图案形状和散焦纬度的负光刻胶组合物，并提供形成图案的方法。＆lt; P＆gt;解决方案：负光刻胶组合物含有（A）具有重复单元（a1）的碱溶性树脂，其具有磺酰胺结构的有机基团中含有碱溶性基团，具有磺酰亚胺结构的有机基团，具有磺酰亚胺结构的有机基团二羰基亚甲基结构和具有萘酚结构的有机基团，和（a2）具有环氧结构的重复单元; （B）分子中具有两个以上环氧结构的化合物; 和（C）光酸产生剂。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2009098602A Negative resist composition and a method of forming a resist pattern 审中-公开
标题翻译：负极组合和电阻形成方法
公开(公告)号：JP2009098602A
公开(公告)日：2009-05-07
申请号：JP2008074733
申请日：2008-03-21
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： HOSHINO WATARU , YOSHITOME MASAHIRO
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problems of the performance improving technique of microphotofabrication using far-ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light of 193 nm wavelength, specifically to provide a negative resist composition which, even in fine pattern formation, avoids pattern collapse and exhibits good resolution. SOLUTION: The negative resist composition includes (A) an alkali-soluble resin, (B) a compound having a conjugated diene structure, and (C) a photo-cationic polymerization initiator. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：解决的问题：为了解决使用远紫外线的微照片制造的性能改进技术，特别是193nm波长的ArF准分子激光器的问题，特别是提供一种负型抗蚀剂组合物，即使在精细图案形成中，避免图案崩溃，表现出良好的分辨率。解决方案：负型抗蚀剂组合物包括（A）碱溶性树脂，（B）具有共轭二烯结构的化合物和（C）光阳离子聚合引发剂。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2009042749A Surface treating agent for pattern formation and pattern forming method using the surface-treating agent 审中-公开
标题翻译：用于表面处理剂的图案形成和图案形成方法的表面处理剂
公开(公告)号：JP2009042749A
公开(公告)日：2009-02-26
申请号：JP2008181838
申请日：2008-07-11
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： YOSHITOME MASAHIRO
IPC分类号： G03F7/40 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface treating agent for a freezing process for performing the chemical treatment for a first resist pattern to satisfy the requirements that the first resist pattern is not dissolved in a second resist solution, the dimensions of the first resist pattern do not change, and the first resist pattern and the second resist pattern have the same dry etching resistance, in the freezing process in which after the first resist pattern is formed, in order to form a second resist pattern by forming the second resist film on the first resist pattern, chemical treatment is performed for the first resist pattern to thereby change the property of the first resist pattern not to dissolve in a second resist solution, and to provide a pattern forming method using it. SOLUTION: The surface treating agent for pattern formation contains a specified compound having an amino group and an aromatic ring, and the pattern forming method uses the surface treating agent. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了提供用于进行第一抗蚀剂图案的化学处理以满足第一抗蚀剂图案不溶解在第二抗蚀剂溶液中的要求的用于冷冻处理的表面处理剂，第一抗蚀剂图案不改变，并且第一抗蚀剂图案和第二抗蚀剂图案在形成第一抗蚀剂图案之后的冷冻处理中具有相同的耐干蚀刻性，以便通过形成第二抗蚀剂图案形成第二抗蚀剂图案在第一抗蚀剂图案上的抗蚀剂膜，对第一抗蚀剂图案进行化学处理，从而改变不溶解在第二抗蚀剂溶液中的第一抗蚀剂图案的性质，并提供使用它的图案形成方法。解决方案：用于图案形成的表面处理剂含有具有氨基和芳香环的特定化合物，并且图案形成方法使用表面处理剂。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

8. 发明专利

JP2014235179A パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス审中-公开
标题翻译：图案形成方法，丙烯酸敏感或辐射敏感性树脂组合物，丙烯酸敏感或辐射敏感膜，制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：JP2014235179A
公开(公告)日：2014-12-15
申请号：JP2013114502
申请日：2013-05-30
申请人：富士フイルム株式会社 , Fujifilm Corp
发明人： FURUYA SO , GOTO AKIYOSHI , SHIRAKAWA MICHIHIRO , YOSHITOME MASAHIRO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/322
摘要：【課題】線幅バラツキ(LWR)が小さく、更には膜べりが低減されたパターンを形成できるパターン形成方法、この方法に好適に用い得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び感活性光線性又は感放射線性膜を提供すること。また、このパターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供すること。【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解度が減少する樹脂、溶剤、及び、前記樹脂中の極性基とイオン結合を形成する成分を発生する化合物を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を基板上に塗布して感活性光線性又は感放射線性膜を形成する工程、前記感活性光線性又は感放射線性膜を露光する工程、及び、有機溶剤を含む現像液を用いて露光した前記感活性光線性又は感放射線性膜を現像し、ネガ型パターンを形成する工程を含むことを特徴とするパターン形成方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种图案形成方法，通过该图案形成方法可以以较小的线宽波动范围（LWR）和较小的膜还原程度形成图案，以提供光化学敏感或辐射敏感树脂组合物和适用于上述方法的光化射线敏感或辐射敏感膜，以及提供一种包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法和电子器件。解决方案：图案形成方法包括以下步骤：：通过在基材上施加光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，形成光化射线敏感或辐射敏感膜，其包含通过酸，溶剂的作用显示出与有机溶剂的溶解度降低的树脂和在树脂中产生与极性基团形成离子键的成分的化合物; 暴露光化射线敏感或辐射敏感膜; 以及通过使用包含有机溶剂的显影剂显影曝光的光化射线敏感或辐射敏感膜以形成负型图案。

9. 发明专利

JP2013178370A Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern formation method using said composition, and electronic device manufacturing method and electronic device 审中-公开
标题翻译：丙烯酸敏感性或辐射敏感性树脂组合物，丙烯酸类敏感性或辐射敏感性膜和使用组合物的图案形成方法，以及电子设备制造方法和电子设备
公开(公告)号：JP2013178370A
公开(公告)日：2013-09-09
申请号：JP2012041989
申请日：2012-02-28
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： MATSUDA TOMOKI , SHIBUYA AKINORI , TOKUGAWA YOKO , ITO JUNICHI , KATAOKA SHOHEI , FUKUHARA TOSHIAKI , TANGO NAOHIRO , IWATO KAORU , YOSHITOME MASAHIRO , SUGIYAMA SHINICHI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition improved in CDU and roundness and suited even for a liquid immersion process with a line width of 45 nm or less; an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern formation method which use the composition; and an electronic device manufacturing method and an electronic device.SOLUTION: An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a compound (A) represented by the specified general formula (1), and a resin (B) whose solubility in an alkaline developer is increased by the action of an acid. (The meaning of each symbol in the general formula (1) is described in the claims.)
摘要翻译：要解决的问题：提供：提高CDU和圆度的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，甚至适用于线宽为45nm以下的液浸工艺; 光化射线敏感或辐射敏感膜和使用该组合物的图案形成方法; 电子装置的制造方法和电子装置。光解射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物含有由通式（1）表示的化合物（A）和在碱性显影剂通过酸的作用而增加。（在权利要求中描述了通式（1）中每个符号的含义）。

10. 发明专利

JP2013120245A Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, method for forming pattern, method for manufacturing electronic device and electronic device using the composition 有权
标题翻译：化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物和丙烯酸类敏感性或辐射敏感性膜，形成图案的方法，使用该组合物制造电子设备的方法和电子设备
公开(公告)号：JP2013120245A
公开(公告)日：2013-06-17
申请号：JP2011267348
申请日：2011-12-06
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： TANGO NAOHIRO , KATAOKA SHOHEI , SHIBUYA AKINORI , ITO JUNICHI , MATSUDA TOMOKI , IWATO KAORU , SUGIYAMA SHINICHI , FUKUHARA TOSHIAKI , YOSHITOME MASAHIRO , TOKUGAWA YOKO
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/26 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of satisfying, in a high level, all of reducing the number of development defects (bridge defects), reducing fluctuations of a critical dimension (CD) of a pattern line width per 1°C of PEB temperature (PEB temperature dependence), and enlarging a focus latitude in a space (space-DOF (depth of focus)), and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin, a method for forming a pattern, a method for manufacturing an electronic device, and an electronic device using the above composition.SOLUTION: The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a resin having a repeating unit expressed by general formula (1A) and a repeating unit expressed by general formula (1B) that is decomposed by an acid to generate a carboxyl group, and (B) a compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation. In general formula (1A), L represents a single bond or a divalent connecting group; and Z represents a cyclic acid anhydride group.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够高水平地满足显影缺陷（桥缺陷）数量的所有降低的光化学敏感或辐射敏感性树脂组合物，减少临界尺寸的波动（ CD），PEB温度（PEB温度依赖性）每1℃的图案线宽度，以及放大空间（空间自由度（深度焦点））中的焦点纬度），并且提供光化学敏感或辐射 - 使用光化射线敏感或辐射敏感树脂的感光膜，形成图案的方法，使用上述组合物的电子器件的制造方法和电子器件。光敏性或辐射敏感性树脂组合物包含（A）具有由通式（1A）表示的重复单元的树脂和由酸分解的通式（1B）表示的重复单元以产生羧基，和（B）通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物。在通式（1A）中，L表示单键或二价连接基团; Z表示环状酸酐基。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式