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1. 发明专利

TWI691798B ＥＵＶ投影微影的照明光學單元有权
简体标题：ＥＵＶ投影微影的照明光学单元
公开(公告)号：TWI691798B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：TW104133854
申请日：2015-10-15
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：安德烈斯馬丁 , ENDRES, MARTIN , 穆勒勞夫 , 貝林史汀 , BIELING, STIG
IPC分类号： G03F7/20

2. 发明专利

TWI529499B 偏向鏡與包含此偏向鏡之用於微影之投射曝光裝置有权
简体标题：偏向镜与包含此偏向镜之用于微影之投射曝光设备
公开(公告)号：TWI529499B
公开(公告)日：2016-04-11
申请号：TW101109461
申请日：2012-03-20
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：恩基施哈姆特 , ENKISCH, HARTMUT , 穆藍德史蒂芬 , MUELLENDER, STEPHAN , 安德烈斯馬丁 , ENDRES, MARTIN
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/06 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/702 , B82Y10/00 , G02B17/06 , G02B17/0663 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70316 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/067

3. 发明专利

TWI680355B 用於投影曝光裝置的照明光學總成有权
简体标题：用于投影曝光设备的照明光学总成
公开(公告)号：TWI680355B
公开(公告)日：2019-12-21
申请号：TW104128172
申请日：2015-08-27
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：安德烈斯馬丁 , ENDRES, MARTIN , 貝林史汀 , BIELING, STIG
IPC分类号： G03F7/20

4. 发明专利

TWI497222B 用於微影之照明光學件及光學系統有权
简体标题：用于微影之照明光学件及光学系统
公开(公告)号：TWI497222B
公开(公告)日：2015-08-21
申请号：TW099106422
申请日：2010-03-05
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：安德烈斯馬丁 , ENDRES, MARTIN
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70066 , G03F7/70075 , G03F7/70108 , G03F7/70191

5. 发明专利

TWI479274B 用於ＥＵＶ微影的照射光學元件，與含有此類照射光學元件之照射系統與投射曝光裝置有权
简体标题：用于ＥＵＶ微影的照射光学组件，与含有此类照射光学组件之照射系统与投射曝光设备
公开(公告)号：TWI479274B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW098114157
申请日：2009-04-29
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：費歐卡戴米安 , FIOLKA, DAMIAN , 窩姆伯特 , WARM, BERNDT , 史坦傑渥克里斯恩 , STEIGERWALD, CHRISTIAN , 安德烈斯馬丁 , ENDRES, MARTIN , 斯圖卓勞夫 , 歐斯曼傑斯 , OSSMANN, JENS , 史卡恩韋伯勞夫 , SCHARNWEBER, RALF , 赫夫馬可斯 , HAUF, MARKUS , 丁傑烏杜 , DINGER, UDO , 渥帝斯賽夫瑞 , WALDIS, SEVERIN , 克區馬克 , KIRCH, MARC , 哈傑斯瓊琴 , HARTJES, JOACHIM
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/18
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70083

6. 发明专利

TWI691797B 投影微影的照明光學裝置有权
简体标题：投影微影的照明光学设备
公开(公告)号：TWI691797B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：TW104127656
申请日：2015-08-25
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：安德烈斯馬丁 , ENDRES, MARTIN
IPC分类号： G03F7/20

7. 发明专利

TWI603154B 微影中用於投射曝光裝置之組合反射鏡有权
简体标题：微影中用于投射曝光设备之组合反射镜
公开(公告)号：TWI603154B
公开(公告)日：2017-10-21
申请号：TW098104633
申请日：2009-02-13
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：丁傑烏杜 , DINGER, UDO , 安德烈斯馬丁 , ENDRES, MARTIN , 韋伯阿民 , WERBER, ARMIN , 慕柏傑諾伯特 , 巴哈弗羅瑞恩 , BACH, FLORIAN
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/09
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/09 , G02B26/06 , G02B26/0816 , G02B26/0833 , G02B27/0927 , G03F7/70075 , G03F7/70116

8. 发明专利

TW201610606A 用於投影微影的照明光學總成审中-公开
简体标题：用于投影微影的照明光学总成
公开(公告)号：TW201610606A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104127525
申请日：2015-08-24
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：安德烈斯馬丁 , ENDRES, MARTIN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70033 , G03F7/70075 , G03F7/70091 , G03F7/70116
摘要：本發明揭示一種用於照明一照明場的投影微影之照明光學總成，其中位於成像光學總成下游的一物場為可配置的，該照明光學總成具有一EUV光源的照明光。該照明光學總成具有一光瞳照明單元，其上該照明光撞擊並且其包含用於使用具有一預定光瞳亮度分佈的該照明光來照明該照明光束路徑內的一光瞳(29)的琢面。具體實施該光瞳照明單元，如此使該光瞳照明單元的複數個照明通道只照明該整個物場的一部份，可避免其中該光瞳照明單元的該等琢面上過高照明亮度之一照明光學總成的結果。
简体摘要：本发明揭示一种用于照明一照明场的投影微影之照明光学总成，其中位于成像光学总成下游的一物场为可配置的，该照明光学总成具有一EUV光源的照明光。该照明光学总成具有一光瞳照明单元，其上该照明光撞击并且其包含用于使用具有一预定光瞳亮度分布的该照明光来照明该照明光束路径内的一光瞳(29)的琢面。具体实施该光瞳照明单元，如此使该光瞳照明单元的复数个照明信道只照明该整个物场的一部份，可避免其中该光瞳照明单元的该等琢面上过高照明亮度之一照明光学总成的结果。

9. 发明专利

TW201546564A 用於投影微影的照明光學單元审中-公开
简体标题：用于投影微影的照明光学单元
公开(公告)号：TW201546564A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：TW104105531
申请日：2015-02-17
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：安德烈斯馬丁 , ENDRES, MARTIN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要：用以照明一物場之用於投影微影的一照明光學單元。本文中，第一傳輸光學單元用以導引從一光源所發出的照明光。照明預設琢面反射鏡係設置於第一傳輸光學單元下游且包含複數個照明預設琢面。該琢面反射鏡藉由所照明之照明預設琢面的配置而產生物場的一預設照明。這造成了照明光學單元之照明光瞳的照明，其預先設定物場中的照明角度分布。照明光瞳具有偏離圓形形式的一包絡線。照明光瞳係劃分為子光瞳區域(30)，其以逐列(Z)及/或逐行(S)方式配置而呈現。這產生了照明光學單元與設置於其下游之投影光學單元之盡可能完全填充的一出射光瞳，以在影像場中成像物場。
简体摘要：用以照明一物场之用于投影微影的一照明光学单元。本文中，第一传输光学单元用以导引从一光源所发出的照明光。照明默认琢面反射镜系设置于第一传输光学单元下游且包含复数个照明默认琢面。该琢面反射镜借由所照明之照明默认琢面的配置而产生物场的一默认照明。这造成了照明光学单元之照明光瞳的照明，其预先设置物场中的照明角度分布。照明光瞳具有偏离圆形形式的一包络线。照明光瞳系划分为子光瞳区域(30)，其以逐列(Z)及/或逐行(S)方式配置而呈现。这产生了照明光学单元与设置于其下游之投影光学单元之尽可能完全填充的一出射光瞳，以在影像场中成像物场。

10. 发明专利

TWI509365B 用於極紫外線微影的曝照光學組件有权
简体标题：用于极紫外线微影的曝照光学组件
公开(公告)号：TWI509365B
公开(公告)日：2015-11-21
申请号：TW099143173
申请日：2010-12-10
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：安德烈斯馬丁 , ENDRES, MARTIN , 多爾賽巴斯汀 , DOERN, SEBASTIAN , 貝林史汀 , BIELING, STIG , 克區馬克 , KIRCH, MARC
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B5/09 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/702

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