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1. 发明申请

WO2007118450A1 ELEKTRONENOPTISCHER KORREKTOR FÜR APLANATISCHE ABBILDUNGSSYSTEME 审中-公开
标题翻译：电子光学校正用于图像系统的消球差
公开(公告)号：WO2007118450A1
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：PCT/DE2007/000586
申请日：2007-03-31
申请人： CEOS CORRECTED ELECTRON OPTICAL SYSTEMS GMBH , UHLEMANN, Stephan , ROSE, Harald , MÜLLER, Heiko
发明人： UHLEMANN, Stephan , ROSE, Harald , MÜLLER, Heiko
IPC分类号： H01J37/153
CPC分类号： H01J37/153 , H01J2237/1534
摘要： Teilchenoptischer Korrektor zur Beseitigung sowohl des Öffnungsfehlers dritter Ordnung als auch der außeraxialen Koma dritter Ordnung unter Verwendung von Rundlinsen und Hexapolfeldern, wobei der Korrektor aus drei koaxial angeordneten Hexapolfeldern besteht, wobei zwischen benachbarten Hexapolfeldern jeweils ein Rundlinsenduplett angeordnet und derart eingestellt ist, dass dasmittlere Hexapolfeld auf die Hexapolfelder abbildet wird, und hierbei zwischen den Hexapolfeldern eine Zwischenebene zu liegen kommt und die Zwischenebenen zueinander konjugiert und die drei Hexapolfelder im Larmor-Bezugssystem gleich orientiert sind und die Stärken der drei Felder derart gewählt sind, dass der Bildfehlerkoeffizient des dreizähligen Astigmatismus zu 0 wird und dass der Korrektor zwei Hexapolfeldpaare enthält, bei denen die Felder jeden Hexapolfeldpaares antisymmetrisch zueinander erregt sind und die Paare jeweils um die beiden Zwischenebenen herum angeordnet sind, und die Orientierung der Hexapolfeldpaare um einen solchen Winkel gegen die durch die Hexapolfelder definierte Orientierung verdreht ist, dass die außeraxialen Koma 3. Ordnung korrigiert ist.
摘要翻译：用于消除两个第三阶和离轴彗差，三阶的球面像差的使用圆形透镜和六极场粒子光学校正，三同轴布置的六极场的校正器包括，被布置在每种情况下Rundlinsenduplett相邻六极场之间，并设置成使得dasmittlere六极场对六极字段将地图，以及由此而来的六极场之间撒谎，中间面和缀合中间层相互和三个六极场被拉莫尔参考系统同样取向和三个场的强度被选择为使得三倍散光像差系数变为0 并且所述校正器包含两个Hexapolfeldpaare其中字段各自Hexapolfeldpaares反兴奋彼此对称地和对周围围绕两个中间级分别设置，和H的方向 exapolfeldpaare通过这样的角度，以由该轴外彗差进行校正第三顺序六极取向限定的平面扭曲。

2. 发明申请

WO2005024881A3 PARTICLE-OPTICAL SYSTEMS, COMPONENTS AND ARRANGEMENTS 审中-公开
标题翻译：颗粒光学系统，组件和布置
公开(公告)号：WO2005024881A3
公开(公告)日：2007-05-31
申请号：PCT/US2004029079
申请日：2004-09-07
申请人： ZEISS CARL SMT AG , APPLIED MATERIALS ISRAEL , KNIPPELMEYER RAINER , KIENZLE OLIVER , KEMEN THOMAS , MUELLER HEIKO , UHLEMANN STEPHAN , HAIDER MAXIMILIAN , CASARES ANTONIO , ROGERS STEVEN
发明人： KNIPPELMEYER RAINER , KIENZLE OLIVER , KEMEN THOMAS , MUELLER HEIKO , UHLEMANN STEPHAN , HAIDER MAXIMILIAN , CASARES ANTONIO , ROGERS STEVEN
IPC分类号： G21K5/10 , G01N23/00 , H01J20060101 , H01J37/09 , H01J37/153 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/04 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/09 , H01J37/10 , H01J37/14 , H01J37/153 , H01J37/28 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/047 , H01J2237/04735 , H01J2237/04756 , H01J2237/06 , H01J2237/14 , H01J2237/2817 , H01J2237/31774
摘要： A particle-optical arrangement comprises a charged-particle source for generating a beam of charged particles; a multi-aperture plate arranged in a beam path of the beam of charged particles, wherein the multi-aperture plate has a plurality of apertures formed therein in a predetermined first array pattern, wherein a plurality of charged-particle beamlets is formed from the beam of charged particles downstream of the multi-aperture plate, and wherein a plurality of beam spots is formed in an image plane of the apparatus by the plurality of beamlets, the plurality of beam spots being arranged in a second array pattern; and a particle-optical element for manipulating the beam of charged particles and/or the plurality of beamlets; wherein the first array pattern has a first pattern regularity in a first direction, and the second array pattern has a second pattern regularity in a second direction electron-optically corresponding to the first direction, and wherein the second regularity is higher than the first regularity.
摘要翻译：粒子光学装置包括用于产生带电粒子束的带电粒子源; 布置在带电粒子束的光束路径中的多孔板，其中多孔板具有以预定的第一阵列图案形成在其中的多个孔，其中多个带电粒子子束由束形成在多孔板下游的带电粒子，并且其中通过所述多个子束在所述装置的图像平面中形成多个束斑，所述多个束斑以第二阵列图案布置; 以及用于操纵带电粒子束和/或多个子束的粒子光学元件; 其中所述第一阵列图案在第一方向上具有第一图案规则性，并且所述第二阵列图案在与所述第一方向对应的电子 - 光学上的第二方向上具有第二图案规则性，并且其中所述第二规则性高于所述第一规则性。

3. 发明申请

WO2007065388A2 ELEKTRONENOPTISCHER KORREKTOR FÜR APLANATISCHE ABBILDUNGSSYSTEME 审中-公开
标题翻译：用于平面图像系统的电子校正器
公开(公告)号：WO2007065388A2
公开(公告)日：2007-06-14
申请号：PCT/DE2006/001773
申请日：2006-10-11
申请人： CEOS CORRECTED ELECTRON OPTICAL SYSTEMS GMBH , UHLEMANN, Stephan
发明人： UHLEMANN, Stephan
IPC分类号： H01J37/153
CPC分类号： H01J37/153 , H01J2237/153
摘要： Elektronenoptischer Korrektor zur Beseitigung sowohl des Öffnungsfehlers dritter Ordnung als auch des anisotropen (azimutalen) Anteils der außeraxialen Koma dritter Ordnung unter Verwendung von Rundlinsen und Hexapolfeldern, wobei der Korrektor aus mindestens drei koaxial angeordneten Hexapolfeldern besteht, wobei zwischen benachbarten Hexapolfeldern mindestens ein Rundlinsenfeld derart angeordnet ist, dass die Hexapolfelder paarweise aufeinander abgebildet werden und die Stärken der Hexapolfelder derart gewählt sind, dass der Bildfehlerkoeffizient des dreizähligen Astigmatismus zu wird und mindestens drei Hexapolfelder im Larmor-Bezugssystem relativ gegeneinander um einen Winkel um die optische Achse verdreht sind.
摘要翻译：
用于消除两个＆Ouml的电子光学校正; ffnungsfehlers三阶和使用圆形透镜和六极场的AU ROAD eraxialen昏迷三阶的各向异性（方位角）组分，由至少三个的校正器同轴布置六极场，其中至少一个轮透镜字段被设置成使六极场成像彼此成对和圣＆AUML相邻六极场之间;六极场的强度，例如GEW＆AUML;在这样的被选择的是，三齿BEAR hligen散光像差系数和在拉莫尔至少三个六极场相对于彼此的参考框架围绕光轴旋转一个角度。

4. 发明申请

WO03052790A3 LENS ARRAY WITH A LATERALLY MOVABLE OPTICAL AXIS FOR CORPUSCULAR RAYS 审中-公开
标题翻译：具有横向可移动光轴的镜片装置用于粒子射线
公开(公告)号：WO03052790A3
公开(公告)日：2003-10-16
申请号：PCT/DE0204327
申请日：2002-11-26
申请人： CEOS GMBH , LEO ELEKTRONENMIKROSKOPIE GMBH , UHLEMANN STEPHAN , HAIDER MAXIMILAN , MUELLER HEIKO
发明人： UHLEMANN STEPHAN , HAIDER MAXIMILAN , MUELLER HEIKO
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/065 , H01J37/073 , H01J37/12 , H01J37/145 , H01J37/153 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/153 , H01J37/145 , H01J2237/3175
摘要： Disclosed is a lens array having a laterally movable axis for corpuscular rays, particularly for transmission from areas of an object surface onto the focal plane by means of electrons. The inventive array consists of a combined lens comprising a cylinder lens and a quadrupole lens provided with slit diaphragms which can be impinged upon by electric and/or magnetic fields. The optical axis of the quadrupole lens is oriented parallel to the axis of the cylinder lens and defines the optical axis of the projection, the position of which can be altered in relation to the axis of the cylinder lens. The quadrupole lens is in focus in the sector in which the cylinder lens is not in focus and is out of focus in the section in which the cylinder lens is in focus. The inventive combined lens can be operated as an immersion lens for projecting secondary electrons. The immersion field consists of at least two adjacent axially aligned fields. The first field lies between the object and the first slit diaphragm, and the second field lies between the first slit diaphragm and the second slit diaphragm. Both fields can be focused independently from each other. The potential difference between the object and the first diaphragm is comparatively small in relation to the potential difference between the first diaphragm and the second diaphragm, and the potential course between the object and the first diaphragm has to be approximately linear. The combined lens is brought into/out of focus by superposing the immersion field, the cylinder lens field, and the quadrupole field. Alternatively, the lens array can be used as a cathode lens for a photocathode with several homogenous adjacent emission areas.
摘要翻译：本发明公开了具有透镜组件，用于粒子束一个可横向移动的光轴，特别是用于传输的物面的区域由电子装置到图像平面中，具有组合的透镜，它由一个柱面透镜和一个四极透镜的具有电和/或磁场可以在狭缝光阑被作用，四极的光轴取向平行于柱面透镜的轴和限定所述图像的光轴，其位置是相对于所述柱面透镜的轴可变的。该四极透镜的聚焦发生在其中气缸镜头未聚焦的部分的地方，并聚焦在四极杆的散焦部分中，其中所述柱面透镜。根据本发明，提供的是所述组合透镜可操作为浸没透镜为二次电子的成像，浸渍箱是在从至少两个aneinunder相邻场，第一场中的对象和第一狭缝光阑，第一和第二狭缝光阑之间的第二场之间存在轴线方向存在，并且两个领域都是独立可调的。根据该提案，目的和第一相对于第一和第二相对较小，并且在物体和第一孔之间的电势分布之间的孔径光阑之间的电位差被进一步限定近似线性的。组合透镜的聚焦/散焦效应由浸没场，柱面透镜场和四极场的叠加产生。所提出的透镜装置的变体旨在用作具有多个相同的相邻发射区域的光电阴极的阴极透镜。

5. 发明申请

WO2007065382A1 KORREKTIV ZUR BESEITIGUNG DES ÖFFNUNGSFEHLERS 3. ORDNUNG UND DES AXIALEN FARBFEHLERS 1. ORDNUNG 1. GRADES 审中-公开
标题翻译：要纠正消除误差开幕3.订单和色轴误差1级1级。
公开(公告)号：WO2007065382A1
公开(公告)日：2007-06-14
申请号：PCT/DE2005/002210
申请日：2005-12-06
申请人： CEOS CORRECTED ELECTRON OPTICAL SYSTEMS GMBH , MÜLLER, Heiko , ROSE, Harald , UHLEMANN, Stephan
发明人： MÜLLER, Heiko , ROSE, Harald , UHLEMANN, Stephan
IPC分类号： H01J37/153 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/153 , H01J37/26 , H01J2237/1534
摘要： Korrektiv zur Beseitigung des Öffnungsfehlers 3. Ordnung und des axialen Farbfehlers 1. Ordnung 1. Grades bestehend aus zwei in Richtung der optischen Achse hintereinander angeordnete Korrekturstücke, wobei jedes Korrekturstück aus mehreren Quadrupolfeidern (QP) und mindestens einem Oktupolfeld(OP) besteht und jedes Korrekturstück zu seiner Mittelebene (S, S' ) symmetrisch aufgebaut ist, wobei jedes Korrekturstück aus einer ungeraden Anzahl von mindestens 5 Quadrupolfeidern (QP) und mindestens einem Oktupolfeld (OP) besteht, jedes Korrekturstück zu seiner Mittelebene symmetrisch aufgebaut ist, das mittlere Quadrupelfeld zur Mittelebene des Korrekturstückes zentriert angeordnet und elektrisch- magnetisch ist, die Quadrupolfelder der beiden Korrekturstücke antisymmetrisch sind und zwischen den Korrekturstücken ein Transferlinsensystem zur Mittelebene des Korrektivs symmetrische angeordnet ist, welches zwei Rundlinsen aufweist und die Einstellung des Transferlinsensystem so erfolgt, dass sie die Mittelebene der beiden Korrekturstücke anamorph aufeinander abbilden, wobei die Vergrößerung in dem einen Hauptschnitt das Reziproke der Vergrößerung im anderen Hauptschnitt ist, und das mittlere Quadrupolfeld von einem Oktupolfeld überlagert ist.
摘要翻译：校正，以消除球面像差3阶和1阶等级1包括两个连续布置在光轴方向的校正件的轴向色差，从几个Quadrupolfeidern（QP）的每个校正片和至少一个八极场（OP）和每个校正片对称于其中央平面（S，S“），每个校正片奇数至少5 Quadrupolfeidern（QP）的和至少一个八极场（OP），其中每个校正块是对称于其中心平面，中间四倍字段于中心平面的校正片布置为中心，电磁，两个校正件的四极透镜电场是反对称和传送透镜系统校正的中心平面是校正片之间对称地布置，其具有两个圆形透镜和变换透镜系统的调整，以便SUC GT，它们图像的两个校正件的中心平面变形彼此，在主要部分的放大倍数是在其他主要部分放大倍率和中间四极场的倒数是由八极场叠加。

6. 发明申请

WO2005024881A2 PARTICLE-OPTICAL SYSTEMS AND ARRANGEMENTS AND PARTICLE-OPTICAL COMPONENTS FOR SUCH SYSTEMS AND ARRANGEMENTS 审中-公开
标题翻译：颗粒光学系统和安排以及这种系统和安排的颗粒光学部件
公开(公告)号：WO2005024881A2
公开(公告)日：2005-03-17
申请号：PCT/US2004/029079
申请日：2004-09-07
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , APPLIED MATERIALS ISRAEL , KNIPPELMEYER, Rainer , KIENZLE, Oliver , KEMEN, Thomas , MUELLER, Heiko , UHLEMANN, Stephan , HAIDER, Maximilian , CASARES, Antonio , ROGERS, Steven
发明人： KNIPPELMEYER, Rainer , KIENZLE, Oliver , KEMEN, Thomas , MUELLER, Heiko , UHLEMANN, Stephan , HAIDER, Maximilian , CASARES, Antonio , ROGERS, Steven
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J37/04 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/09 , H01J37/10 , H01J37/14 , H01J37/153 , H01J37/28 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/047 , H01J2237/04735 , H01J2237/04756 , H01J2237/06 , H01J2237/14 , H01J2237/2817 , H01J2237/31774
摘要： A particle-optical arrangement comprises a charged-particle source for generating a beam of charged particles; a multi-aperture plate arranged in a beam path of the beam of charged particles, wherein the multi-aperture plate has a plurality of apertures formed therein in a predetermined first array pattern, wherein a plurality of charged-particle beamlets is formed from the beam of charged particles downstream of the multi-aperture plate, and wherein a plurality of beam spots is formed in an image plane of the apparatus by the plurality of beamlets, the plurality of beam spots being arranged in a second array pattern; and a particle-optical element for manipulating the beam of charged particles and/or the plurality of beamlets; wherein the first array pattern has a first pattern regularity in a first direction, and the second array pattern has a second pattern regularity in a second direction electron-optically corresponding to the first direction, and wherein the second regularity is higher than the first regularity.
摘要翻译：粒子光学装置包括用于产生带电粒子束的带电粒子源; 布置在带电粒子束的光束路径中的多孔板，其中多孔板具有以预定的第一阵列图案形成在其中的多个孔，其中多个带电粒子子束由束形成在多孔板下游的带电粒子，并且其中通过所述多个子束在所述装置的图像平面中形成多个束斑，所述多个束斑以第二阵列图案布置; 以及用于操纵带电粒子束和/或多个子束的粒子光学元件; 其中所述第一阵列图案在第一方向上具有第一图案规则性，并且所述第二阵列图案在与所述第一方向对应的电子 - 光学上的第二方向上具有第二图案规则性，并且其中所述第二规则性高于所述第一规则性。

7. 发明申请

WO2003052790A2 LINSENANORDNUNG MIT LATERAL VERSCHIEBBARER OPTISCHER ACHSE FÜR TEILCHENSTRAHLEN 审中-公开
标题翻译：具有横向滑动粒子光轴方向的镜头组件
公开(公告)号：WO2003052790A2
公开(公告)日：2003-06-26
申请号：PCT/DE2002/004327
申请日：2002-11-26
申请人： CEOS CORRECTED ELECTRON OPTICAL SYSTEMS GMBH , LEO ELEKTRONENMIKROSKOPIE GMBH , UHLEMANN, Stephan , HAIDER, Maximilan , MÜLLER, Heiko
发明人： UHLEMANN, Stephan , HAIDER, Maximilan , MÜLLER, Heiko
IPC分类号： H01J37/145
CPC分类号： H01J37/153 , H01J37/145 , H01J2237/3175
摘要： Beschrieben wird eine Linsenanordnung mit lateral verschiebbarer optischer Achse für Teilchenstrahlen, insbesondere zur Übertragung von Bereichen einer Gegenstandsebene in die Bildebene mittels Elektronen, mit einer kombinierten Linse, welche aus einer Zylinderlinse und einer Quadrupollinse besteht, die mit elektrischen und/oder magnetischen Feldern beaufschlagbare Schlitzblenden aufweisen. Dabei ist die optische Achse der Quadrupollinse parallel zur Achse der Zylinderlinse orientiert und definiert die optische Achse der Abbildung, wobei deren Position relativ zur Achse der Zylinderlinse änderbar ist. Die Fokussierung der Quadrupollinse erfolgt in dem Schnitt, in welchem die Zylinderlinse ohne Fokussierung ist, und die Defokussierung der Quadrupollinse in dem Schnitt, in welchem die Zylinderlinse fokussiert. Erfindungsgemäss ist vorgesehen, dass die kombinierte Linse als Immersionslinse zur Abbildung von Sekundärelektronen betreibbar ist, das Immersionsfeld in axialer Richtung aus wenigstens zwei aneinunder angrenzenden Feldern besteht, wobei das erste Feld zwischen Objekt und erster Schlitzblende, das zweite Feld zwischen erster und zweiter Schlitzblende anliegt und beide Felder unabhängig von einander einstellbar sind. Gemäss Vorschlag wird weiterhin die Potentialdifferenz zwischen Objekt und erster Blende relativ zu der zwischen erster und zweiter Blende vergleichsweise klein und der Potentialverlauf zwischen Objekt und erster Blende näherungsweise linear vorgegeben. Die fokussierende/defokussierende Wirkung der kombinierten Linse ergibt sich aus der Überlagerung des Immersionsfeldes, des Zylinderlinsenfeldes und des Quadrupolfeldes. Eine Variante der vorgeschlagenen Linsenanordnung ist zum Einsatz als Kathodenlinse für eine Photokathode mit mehreren gleichartigen, nebeneinanderliegenden Emissionsbereichen vorgesehen.
摘要翻译：本发明公开了具有透镜组件，用于粒子束一个可横向移动的光轴，特别是用于传输的物面的区域由电子装置到图像平面中，具有组合的透镜，它由一个柱面透镜和一个四极透镜的具有电和/或磁场可以在狭缝光阑被作用，四极的光轴取向平行于柱面透镜的轴和限定所述图像的光轴，其位置是相对于所述柱面透镜的轴可变的。该四极透镜的聚焦发生在其中气缸镜头未聚焦的部分的地方，并聚焦在四极杆的散焦部分中，其中所述柱面透镜。根据本发明，提供的是所述组合透镜可操作为浸没透镜为二次电子的成像，浸渍箱是在从至少两个aneinunder相邻场，第一场中的对象和第一狭缝光阑，第一和第二狭缝光阑之间的第二场之间存在轴线方向存在，并且这两个字段是相互独立可调的。根据该提案，目的和第一相对于第一和第二相对较小，并且在物体和第一孔之间的电势分布之间的孔径光阑之间的电位差被进一步限定近似线性的。将合并的透镜的聚焦/散焦效应是由浸渍箱，气缸透镜场和四极场的叠加给出。所提出的透镜组件的一种变型的目的是用作阴极透镜，用于与多个类似的相邻发光区的光电阴极。

8. 发明申请

WO2007065388A3 ELECTRON-OPTICAL CORRECTOR FOR AN APLANATIC IMAGING SYSTEM 审中-公开
标题翻译：电子光学校正用于图像系统的消球差
公开(公告)号：WO2007065388A3
公开(公告)日：2007-08-23
申请号：PCT/DE2006001773
申请日：2006-10-11
申请人： CEOS GMBH , UHLEMANN STEPHAN
发明人： UHLEMANN STEPHAN
IPC分类号： H01J37/153
CPC分类号： H01J37/153 , H01J2237/153
摘要： The invention relates to an electron-optical corrector for rendering superfluous both the third-order opening error and the anisotropic (azimutal) part of the extraaxial third-order coma, using round lenses and hexapole fields, the corrector consisting of at least three coaxially arranged hexapole fields. At least one round lens field is arranged between adjacent hexapole fields in such a way that the hexapole fields are imaged onto each other in pairs, and the intensities of the hexapole fields are selected in such a way that the image error coefficient of the threefold astigmatism is equal to 0, and at least three hexapole fields in the Larmor reference system are rotated in relation to each other at a certain angle about the optical axis.
摘要翻译：用于消除两个三阶球面像差，并通过使用圆形透镜和六极字段昏迷的第三阶的离轴的各向异性（方位角）成分的电子光学校正器，由至少三个同轴布置六极场，的校正器，其特征在于相邻的六极场之间，至少一个圆形透镜场被布置成使得该六极场成像彼此成对和六极场的强度被选择成使得三重散光像差系数为，并且通过绕光轴的角度对在拉莫尔参考系统彼此的至少三个六极场相对旋转。

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