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1. 发明申请

WO2005024881A2 PARTICLE-OPTICAL SYSTEMS AND ARRANGEMENTS AND PARTICLE-OPTICAL COMPONENTS FOR SUCH SYSTEMS AND ARRANGEMENTS 审中-公开
标题翻译：颗粒光学系统和安排以及这种系统和安排的颗粒光学部件
公开(公告)号：WO2005024881A2
公开(公告)日：2005-03-17
申请号：PCT/US2004/029079
申请日：2004-09-07
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , APPLIED MATERIALS ISRAEL , KNIPPELMEYER, Rainer , KIENZLE, Oliver , KEMEN, Thomas , MUELLER, Heiko , UHLEMANN, Stephan , HAIDER, Maximilian , CASARES, Antonio , ROGERS, Steven
发明人： KNIPPELMEYER, Rainer , KIENZLE, Oliver , KEMEN, Thomas , MUELLER, Heiko , UHLEMANN, Stephan , HAIDER, Maximilian , CASARES, Antonio , ROGERS, Steven
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J37/04 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/09 , H01J37/10 , H01J37/14 , H01J37/153 , H01J37/28 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/047 , H01J2237/04735 , H01J2237/04756 , H01J2237/06 , H01J2237/14 , H01J2237/2817 , H01J2237/31774
摘要： A particle-optical arrangement comprises a charged-particle source for generating a beam of charged particles; a multi-aperture plate arranged in a beam path of the beam of charged particles, wherein the multi-aperture plate has a plurality of apertures formed therein in a predetermined first array pattern, wherein a plurality of charged-particle beamlets is formed from the beam of charged particles downstream of the multi-aperture plate, and wherein a plurality of beam spots is formed in an image plane of the apparatus by the plurality of beamlets, the plurality of beam spots being arranged in a second array pattern; and a particle-optical element for manipulating the beam of charged particles and/or the plurality of beamlets; wherein the first array pattern has a first pattern regularity in a first direction, and the second array pattern has a second pattern regularity in a second direction electron-optically corresponding to the first direction, and wherein the second regularity is higher than the first regularity.
摘要翻译：粒子光学装置包括用于产生带电粒子束的带电粒子源; 布置在带电粒子束的光束路径中的多孔板，其中多孔板具有以预定的第一阵列图案形成在其中的多个孔，其中多个带电粒子子束由束形成在多孔板下游的带电粒子，并且其中通过所述多个子束在所述装置的图像平面中形成多个束斑，所述多个束斑以第二阵列图案布置; 以及用于操纵带电粒子束和/或多个子束的粒子光学元件; 其中所述第一阵列图案在第一方向上具有第一图案规则性，并且所述第二阵列图案在与所述第一方向对应的电子 - 光学上的第二方向上具有第二图案规则性，并且其中所述第二规则性高于所述第一规则性。

2. 发明申请

WO2009062728A1 VERFAHREN ZUR REPARATUR VON PHASENVERSCHIEBUNGSMASKEN 审中-公开
标题翻译：方法的修相移掩膜的
公开(公告)号：WO2009062728A1
公开(公告)日：2009-05-22
申请号：PCT/EP2008/009640
申请日：2008-11-14
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , ZIBOLD, Axel , KUSCHNERUS, Peter , KIENZLE, Oliver
发明人： ZIBOLD, Axel , KUSCHNERUS, Peter , KIENZLE, Oliver
IPC分类号： G03F1/14
CPC分类号： G03F1/72 , G03F1/84
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Reparatur von Phasenverschiebungsmasken für die Photolithographie, bei dem eine Phasen verschiebungsmaske auf das Vorhandensein von Defekten untersucht wird, und falls Defekte vorhanden sind (i) analysiert wird, welche der Defekte Abbildungseigenschaften der Phasenverschiebungsmaske beeinträchtigen, (ii) diese Defekte ausgebessert werden, (iii) die Abbildungseigenschaften der ausgebesserten Phasenverschiebungsmaske analysiert werden und die Einhaltung eines vorgegebenen Toleranzkriteriums überprüft wird, und (iv) die beiden vorangegangen Schritte (ii) und (iii) gegebenenfalls mehrfach wiederholt werden, falls die Abbildungseigenschaften nicht dem vorgegebenen Toleranzkriterium entsprechen. Bei einem solchen Verfahren werden die Abbildungseigenschaften analysiert, indem für jeden der aus zubessernden Defekte eine Prüfgröße in Abhängigkeit von Fokus und Belichtung für den Defekt und mindestens eine weitere, nicht defekte Stelle auf der Phasenverschiebungsmaske in der unmittelbaren Umgebung des Defekts bestimmt wird, und als Toleranzkriterium eine minimal zulässige Abweichung der Prüfgröße für Defekt und nicht defekte Stelle vorgegeben wird.
摘要翻译：本发明涉及一种用于相移掩模用于光刻的修复方法，其中，相移掩模被检查缺陷的存在，并且如果存在缺陷（ⅰ）进行分析，这会影响成像相移掩模的性质的缺陷，（ⅱ）这些缺陷被修复，（iii）所述修复移相掩模的成像特性进行了分析和粘附到预定的容差指标被选中，和（iv）两个前述步骤（ii）和（iii）任选地重复多次，如果不对应于预定公差标准的成像特性，在这样的过程中的成像特性被检验统计聚焦和曝光的缺陷和至少一个另外的无缺陷点上在缺陷每个zubessernden缺陷的附近的相移掩模确定，并且容差指标的功能分析检验统计量用于缺陷和无缺陷的地方的最小允许的偏差被指定。

3. 发明申请

WO2009007128A1 METHOD AND APPARATUS FOR ANALYZING A GROUP OF PHOTOLITHOGRAPHIC MASKS 审中-公开
标题翻译：用于分析一组光刻掩模的方法和装置
公开(公告)号：WO2009007128A1
公开(公告)日：2009-01-15
申请号：PCT/EP2008/005678
申请日：2008-07-11
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , KIENZLE, Oliver , RICHTER, Rigo , ROSENKRANZ, Norbert , KOBIYAMA, Yuji , SCHERÜBL, Thomas
发明人： KIENZLE, Oliver , RICHTER, Rigo , ROSENKRANZ, Norbert , KOBIYAMA, Yuji , SCHERÜBL, Thomas
IPC分类号： G03F1/00 , G03F1/14 , G03F7/20 , G01N21/95 , G03F7/00
CPC分类号： G03F1/72 , G03F1/30
摘要： The invention relates to a method for analyzing a group of at least two masks for photolithography, wherein each of the masks comprises a substructure of a total structure, which is to be introduced in a layer of the wafer in the lithographic process, and the total structure is introduced in the layer of the wafer by introducing the substructures in sequence. In this method, a first aerial image of a first one of the at least two masks is recorded, digitized and stored in a data structure. Then, a second aerial image of a second one of the at least two masks is recorded, digitized and stored in a data structure. A combination image is generated from the data of the first and second aerial images, which combination image is represented and/or evaluated.
摘要翻译：本发明涉及一种用于分析一组用于光刻的至少两个掩模的方法，其中每个掩模包括总结构的子结构，其将在光刻工艺中被引入晶片的层中，并且总共通过依次引入子结构，在晶片层中引入结构。在该方法中，将至少两个掩模中的第一个的第一空间图像记录，数字化并存储在数据结构中。然后，将至少两个掩模中的第二个的第二个空间图像记录，数字化并存储在数据结构中。从第一和第二空间图像的数据生成组合图像，该组合图像被表示和/或评估。

5. 发明公开

EP1668662A2 PARTICLE-OPTICAL SYSTEMS AND ARRANGEMENTS AND PARTICLE-OPTICAL COMPONENTS FOR SUCH SYSTEMS AND ARRANGEMENTS 有权转让
标题翻译：光学粒子系统和安排光学粒子组件这样的系统和安排
公开(公告)号：EP1668662A2
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：EP04783363.7
申请日：2004-09-07
申请人： Carl Zeiss SMT AG , Applied Materials Israel
发明人： KNIPPELMEYER, Rainer , KIENZLE, Oliver , KEMEN, Thomas , MUELLER, Heiko , UHLEMANN, Stephan , HAIDER, Maximilian , CASARES, Antonio , ROGERS, Steven
IPC分类号： H01J1/00
CPC分类号： H01J37/04 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/09 , H01J37/10 , H01J37/14 , H01J37/153 , H01J37/28 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/047 , H01J2237/04735 , H01J2237/04756 , H01J2237/06 , H01J2237/14 , H01J2237/2817 , H01J2237/31774
摘要： A particle-optical arrangement comprises a charged-particle source for generating a beam of charged particles; a multi-aperture plate arranged in a beam path of the beam of charged particles, wherein the multi-aperture plate has a plurality of apertures formed therein in a predetermined first array pattern, wherein a plurality of charged-particle beamlets is formed from the beam of charged particles downstream of the multi-aperture plate, and wherein a plurality of beam spots is formed in an image plane of the apparatus by the plurality of beamlets, the plurality of beam spots being arranged in a second array pattern; and a particle-optical element for manipulating the beam of charged particles and/or the plurality of beamlets; wherein the first array pattern has a first pattern regularity in a first direction, and the second array pattern has a second pattern regularity in a second direction electron-optically corresponding to the first direction, and wherein the second regularity is higher than the first regularity.

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