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1. 发明申请

WO2006058754A3 BEAM DELIVERY SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2006058754A3
公开(公告)日：2006-06-08
申请号：PCT/EP2005/012857
申请日：2005-12-01
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KUSS, Matthias , FIOLKA, Damian , REISINGER, Gerd , MAUL, Manfred , DAVYDENKO, Vladimir
发明人： KUSS, Matthias , FIOLKA, Damian , REISINGER, Gerd , MAUL, Manfred , DAVYDENKO, Vladimir
IPC分类号： G03F7/20
摘要： A beam delivery system (21) of a projection exposure system (1) comprises a laser (23) generating a beam (25) of laser light from a comprises a laser generating a beam of laser light from a plurality of longitudinal laser modes in a cavity, wherein light generated by a single longitudinal laser mode has an average line width λ lat, wherein the laser light of the beam has, at each of respective lateral positions of the beam, a second line width λ lat corresponding to lateral laser modes, and wherein the laser light of the beam has, when averaged over a whole cross section thereof, a line width λ b corresponding to plural lateral laser modes, and wherein λm lat b, and wherein an optical delay apparatus (27) disposed in the beam provides and optical path difference ,Δ1 wherein (I); wherein λ 0 is an average wavelength of the light of the first beam of laser light, and Δλ lat represents the second line width.

2. 发明申请

WO2005015315A2 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD FOR INTRODUCING AN IMMERSION LIQUID INTO AN IMMERSION CHAMBER 审中-公开
标题翻译：微光刻投射曝光装置和方法，用于引入浸渍于液浸ROOM
公开(公告)号：WO2005015315A2
公开(公告)日：2005-02-17
申请号：PCT/EP2004007456
申请日：2004-07-08
申请人： ZEISS CARL SMT AG , GELLRICH BERNHARD , REISINGER GERD , SCHMEREK DIETER , KUGLER JENS
发明人： GELLRICH BERNHARD , REISINGER GERD , SCHMEREK DIETER , KUGLER JENS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341
摘要： The invention relates to a projection exposure system for microlithography, said system comprising an illumination device for generating a projection light, and a projection objective comprising a plurality of optical elements such as lenses (L5) and enabling a reticle that can be arranged in an object plane of the projection objective to be imaged onto a light-sensitive surface (26) that can be arranged in an image plane of the projection objective and is applied to a carrier (30). The inventive system is also provided with an immersion device between an image-side last optical element (L5) of the projection objective and the light-sensitive surface (26), for introducing an immersion liquid (34) into an immersion chamber (50). Said immersion device comprises means (44; 66) which can prevent the appearance of gas bubbles (48) in the immersion liquid (34), affecting the imaging quality, and/or can remove existing gas bubbles (48). Said means can be, for example, an ultrasound source (66) or a degasifier (44).
摘要翻译：用于微光刻的投射曝光系统包括一个照明装置，用于产生投射光，并且具有多个光学元件，例如一个投影透镜例如透镜（L5），其可以在投射物镜的物面被布置成与可以在掩模版被设置在所述投影透镜的像面和在载体（30）施加的光敏感表面（26）可以被成像。此外，提供了用于引入的浸没液体（34）到所述投射物镜的像侧最后光学元件（L5）和感光表面（26）之间的浸没空间（50）的浸入设备。浸渍装置包括装置（44; 66），通过该能够防止在浸没液体（34）的成像质量损害气泡（48）的发生和/或可能已经被移除时发生气泡（48）。这些装置可以是，例如超声波源（66）或一个脱气装置（44）的行为。

3. 发明申请

WO2004057378A1 BESCHICHTETES OPTISCHES ELEMENT MIT KORREKTURWIRKUNG DURCH ERZEUGUNG EINER SCHICHTDICKENVARIATION ODER BRECHZAHLVARIATION IN DER BESCHICHTUNG 审中-公开
标题翻译：涂校正效果光学元件通过创建一个厚度变化或破坏数变异在涂料
公开(公告)号：WO2004057378A1
公开(公告)日：2004-07-08
申请号：PCT/EP2003/014543
申请日：2003-12-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , REISINGER, Gerd , PAZIDIS, Alexandra , GÖHNERMEIER, Aksel , DINGER, Alexander , PETASCH, Thomas , BÖHM, Thure , BÖRRET, Rainer
发明人： REISINGER, Gerd , PAZIDIS, Alexandra , GÖHNERMEIER, Aksel , DINGER, Alexander , PETASCH, Thomas , BÖHM, Thure , BÖRRET, Rainer
IPC分类号： G02B1/10
CPC分类号： G02B1/18 , C23C14/5873 , G02B1/10 , G03F7/70958
摘要： Ein optisches Element (10; 10') weist einen Elementkörper (12) und eine auf dem Elementkörper (12) aufgebrachte Beschichtung (9; 18) zur Veränderung des Reflexionsvermögens auf. In der Beschichtung werden Korrekturstrukturen (23) zur Korrektur von Abbildungsfehlern erzeugt, z.B. durch lokalen Materialabtrag oder durch lokales Verändern der Brechzahl. Falls die Beschichtung (18) eine nach aussen weisende Abschlussschicht (186) sowie eine oder mehrere zwischen der Abschlussschicht (186) und dem Elementkörper (12) angeordnete Zwischenschichten (181 bis 185) um fasst, so enthält vorzugsweise nicht die Abschlussschicht (186), sondern eine der Zwischenschichten (185) die Korrekturstrukturen (23). Das optische Element (10; 10') ist mechanisch stabiler und kontaminationsbeständiger als optische Elemente, bei denen unmittelbar von dem Elementkörper Material zur Erzielung einer Korrekturwirkung abgetragen wird.
摘要翻译：的光学元件（10; 10“）具有一个元件主体（12）和在元件主体（12）的反射率（9 18）施加的涂层，上的变化。在涂覆修正结构（23）用于成像误差，例如的校正产生通过局部去除材料或通过局部改变折射率。如果涂层（18）具有一个面向外的精加工层（186）和一个或覆盖层（186）和所述元件体之间更多（12），以便词语设置中间层（181〜185），因此优选地不包括所述帽层（186），但是中间层中的一个（185）的修正结构（23）。所述光学元件（10; 10“）是机械上更稳定和污染比其中立即从元件体材料中除去，以获得校正效果的光学元件具有抗性。

4. 发明申请

WO2009018911A1 PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY, PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, PROJECTION EXPOSURE METHOD AND OPTICAL CORRECTION PLATE 审中-公开
标题翻译：投影曝光法，投影曝光法和光学校正板投影目标
公开(公告)号：WO2009018911A1
公开(公告)日：2009-02-12
申请号：PCT/EP2008/005898
申请日：2008-07-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , LÖRING, Ulrich , REISINGER, Gerd , STICKEL, Franz-Josef , SCHNEIDER, Sonja , TRENKLER, Johann , KRAUS, Stefan , DÖRING, Gordon , GÖHNERMEIER, Aksel
发明人： LÖRING, Ulrich , REISINGER, Gerd , STICKEL, Franz-Josef , SCHNEIDER, Sonja , TRENKLER, Johann , KRAUS, Stefan , DÖRING, Gordon , GÖHNERMEIER, Aksel
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/14
CPC分类号： G03F7/70983 , G03F1/62 , G03F7/70308 , Y10T428/24612
摘要： A projection objective comprising a plurality of optical elements arranged to image a pattern from an object field in an object surface of the projection objective to an image field in an image surface of the projection objective with electromagnetic operating radiation from a wavelength band around an operating wavelength λ includes an optical correction plate. The optical correction plate has a body made from a material transparent to the operating radiation, the body having a first optical surface, a second optical surface, a plate normal substantially perpendicular to the first and second optical surface, and a thickness profile. The first surface profile and the second surface profile are similar in that the first optical surface has a non-rotationally symmetric aspheric first surface profile with a first peak-to-valley value PV1>λ; the second optical surface has a non-rotationally symmetric aspheric second surface profile with a second peak-to-valley value PV2>λ; and the plate thickness varies by less than 0.1 * (PV1+PV2V2 across the optica! correction piate. The first and second optical surface in combination may induce or correct for a dominant field aberration if the optical correction plate is installed at a position far from the object plane of the projection objective.
摘要翻译：一种投影物镜，包括多个光学元件，所述多个光学元件被布置成将来自所述投影物镜的物体表面中的物体的图案成像到所述投影物镜的图像表面中的图像场，所述投影物镜具有围绕工作波长的波长带的电磁操作辐射？包括光学校正板。光学校正板具有由对工作辐射透明的材料制成的主体，该主体具有第一光学表面，第二光学表面，基本上垂直于第一和第二光学表面的板法线以及厚度轮廓。第一表面轮廓和第二表面轮廓类似于第一光学表面具有第一峰谷值PV1>β的非旋转对称非球面第一表面轮廓; 第二光学表面具有非旋转对称的非球面第二表面轮廓，具有第二峰谷值PV2>θ; 并且板厚度变化小于0.1 *（PV1 + PV2V2跨越光学校正片）。如果光学校正板安装在远离的位置，则组合的第一和第二光学表面可以诱导或校正主要的像差投影物镜的物平面。

5. 发明申请

WO2006058754A2 PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, BEAM DELIVERY SYSTEM AND METHOD OF GENERATING A BEAM OF LIGHT 审中-公开
标题翻译：投影曝光系统，光束输送系统及生成光束的方法
公开(公告)号：WO2006058754A2
公开(公告)日：2006-06-08
申请号：PCT/EP2005012857
申请日：2005-12-01
申请人： ZEISS CARL SMT AG , KUSS MATTHIAS , FIOLKA DAMIAN , REISINGER GERD , MAUL MANFRED , DAVYDENKO VLADIMIR
发明人： KUSS MATTHIAS , FIOLKA DAMIAN , REISINGER GERD , MAUL MANFRED , DAVYDENKO VLADIMIR
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： B82Y10/00 , G03F7/70166 , G03F7/70583
摘要： A beam delivery system of a projection exposure system comprises a laser generating a beam of laser light from a plurality of longitudinal laser modes in a cavity, wherein light generated by a single longitudinal laser mode has an average line width ? lat, wherein the laser light of the beam has, at each of respective lateral positions of the beam, a second line width ? lat corresponding to lateral laser modes, and wherein the laser light of the beam has, when averaged over a whole cross section thereof, a line width ? b corresponding to plural lateral laser modes, and wherein ?m lat b, and wherein an optical delay apparatus disposed in the beam provides an optical path difference ,?1 wherein (I); wherein ? 0 is an average wavelength of the light of the first beam of laser light, and ?? lat
摘要翻译：投影曝光系统的光束传送系统包括激光器，其产生来自空腔中的多个纵向激光模式的激光光束，其中由单个纵向激光模式产生的光具有平均线宽度ΔL，其中，所述光束的激光在所述光束的各个横向位置处具有对应于横向激光模式的第二线宽度ΔLAT，并且其中所述光束的激光具有当在其整个横截面上平均时，对应于多个横向激光模式的线宽度ΔB2S，并且其中θm<θ 并且其中设置在所述光束中的光学延迟装置提供光程差，θ1其中（I）; 其中λ<0>是第一激光束的光的平均波长，Δλ>

6. 发明申请

WO2005015315A3 MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE SOWIE VERFAHREN ZUM EINBRINGEN EINER IMMERSIONSFLÜSSIGKEIT IN EINEM IMMERSIONSRAUM 审中-公开
公开(公告)号：WO2005015315A3
公开(公告)日：2005-02-17
申请号：PCT/EP2004/007456
申请日：2004-07-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GELLRICH, Bernhard , REISINGER, Gerd , SCHMEREK, Dieter , KUGLER, Jens
发明人： GELLRICH, Bernhard , REISINGER, Gerd , SCHMEREK, Dieter , KUGLER, Jens
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie umfaßt eine Beleuchtungseinrichtung zur Erzeugung von Projektionslicht und ein Projektionsobjektiv mit mehreren optischen Elementen wie z.B. Linsen (L5), mit dem ein in einer Objektebene des Projektionsobjektivs anordenbares Retikel auf eine in einer Bildebene des Projektionsobjektivs anordenbare und auf einem Träger (30) aufgebrachte lichtempfindliche Oberfläche (26) abbildbar ist. Ferner ist eine Immersionseinrichtung zum Einbringen einer Immersionsflüssigkeit (34) in einen Immersionsraum (50) zwischen einem bildseitig letzten optischen Element (L5) des Projektionsobjektivs und der lichtempfindlichen Oberfläche (26) vorgesehen. Die Immersionseinrichtung weist Mittel (44; 66) auf, durch die das Auftreten von die Abbildungsqualität beeinträchtigenden Gasblasen (48) in der Immersionsflüssigkeit (34) verhindert werden kann und/oder bereits aufgetretene Gasblasen (48) entfernt werden können. Bei diesen Mitteln kann es sich z.B. um eine Ultraschallquelle (66) oder einen Entgaser (44) handeln.

7. 发明申请

WO2005098543A1 VERFAHREN ZUR STRUKTURIERUNG EINES SUBSTRATS DURCH MEHRFACHBELEUCHTUNG 审中-公开
标题翻译：方法构建以衬底由多个照明
公开(公告)号：WO2005098543A1
公开(公告)日：2005-10-20
申请号：PCT/EP2005/003780
申请日：2005-04-11
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GÖHNERMEIER, Aksel , WEGMANN, Ulrich , REISINGER, Gerd , MAUL, Manfred , GRÄUPNER, Paul , SCHRIEVER, Martin
发明人： WEGMANN, Ulrich , REISINGER, Gerd , MAUL, Manfred , GRÄUPNER, Paul , SCHRIEVER, Martin
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70466 , G03F7/2022 , G03F7/70258 , G03F7/70266 , G03F7/706
摘要： 1. Verfahren zur Strukturierung eines Substrats durch Mehrfachbelichtung. 2.1. Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Strukturierung eines Substrats unter Verwendung von Belichtungsvorgängen eines einstellbaren optischen Systems, wobei zur Erzeugung eines Strukturbildes auf dem Substrat eine Mehrfachbelichtung verwendet wird. 2.2. Erfindungsgemäß wird für wenigstens eine der mehreren Belichtungen die Abbildungsqualität des optischen Systems durch einen jeweiligen Vermessungsschritt ermittelt und abhängig davon wenigstens ein die Abbildungsqualität beeinflussender Parameter des optischen Systems eingestellt. 2.3. Verwendung z.B. zur Strukturierung von Halbleiterwafern in Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen.
摘要翻译： 1，一种用于通过多个曝光衬底图案化的方法。 2.1。本发明涉及一种用于图案化使用可调光学系统，其中多重曝光被用来在衬底上创建的图像的结构的曝光处理的衬底的方法。 2.2。根据本发明的光学系统的成像质量由各自的测量步骤确定的，并且其中至少一组图像质量参数影响光学系统，这取决于多个曝光量中的至少一个的。 2.3。例如使用在微光刻投射曝光系统的半导体晶片的图案化。

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