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1. 发明申请

WO2005098543A1 VERFAHREN ZUR STRUKTURIERUNG EINES SUBSTRATS DURCH MEHRFACHBELEUCHTUNG 审中-公开
标题翻译：方法构建以衬底由多个照明
公开(公告)号：WO2005098543A1
公开(公告)日：2005-10-20
申请号：PCT/EP2005/003780
申请日：2005-04-11
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GÖHNERMEIER, Aksel , WEGMANN, Ulrich , REISINGER, Gerd , MAUL, Manfred , GRÄUPNER, Paul , SCHRIEVER, Martin
发明人： WEGMANN, Ulrich , REISINGER, Gerd , MAUL, Manfred , GRÄUPNER, Paul , SCHRIEVER, Martin
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70466 , G03F7/2022 , G03F7/70258 , G03F7/70266 , G03F7/706
摘要： 1. Verfahren zur Strukturierung eines Substrats durch Mehrfachbelichtung. 2.1. Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Strukturierung eines Substrats unter Verwendung von Belichtungsvorgängen eines einstellbaren optischen Systems, wobei zur Erzeugung eines Strukturbildes auf dem Substrat eine Mehrfachbelichtung verwendet wird. 2.2. Erfindungsgemäß wird für wenigstens eine der mehreren Belichtungen die Abbildungsqualität des optischen Systems durch einen jeweiligen Vermessungsschritt ermittelt und abhängig davon wenigstens ein die Abbildungsqualität beeinflussender Parameter des optischen Systems eingestellt. 2.3. Verwendung z.B. zur Strukturierung von Halbleiterwafern in Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen.
摘要翻译： 1，一种用于通过多个曝光衬底图案化的方法。 2.1。本发明涉及一种用于图案化使用可调光学系统，其中多重曝光被用来在衬底上创建的图像的结构的曝光处理的衬底的方法。 2.2。根据本发明的光学系统的成像质量由各自的测量步骤确定的，并且其中至少一组图像质量参数影响光学系统，这取决于多个曝光量中的至少一个的。 2.3。例如使用在微光刻投射曝光系统的半导体晶片的图案化。

2. 发明申请

WO2003087945A2 INTERFEROMETRISCHE MESSVORRICHTUNG UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT DERARTIGER MESSVORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：干涉测量装置和投影曝光系统，这样的测量装置
公开(公告)号：WO2003087945A2
公开(公告)日：2003-10-23
申请号：PCT/EP2003/003566
申请日：2003-04-05
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HAIDNER, Helmut
发明人： SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HAIDNER, Helmut
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B5/0221 , G02B5/0252 , G03F7/70075 , G03F7/706
摘要： Eine Messvorrichtung zur interferometrischen Vermessung eines optischen Abbildungssystems, das zur Abbildung eines an einer Maske vorgesehenen Nutzmusters in die Bildebene des Abbildungssystems vorgesehen ist, hat eine Wellenfrontquelle zur Erzeugung mindestens einer das Abbildungssystem durchlaufenden Wellenfront, ein hinter dem Abbildungssystem anordenbares Beugungsgitter zur Wechselwirkung mit der vom dem Abbildungssystem umgeformten Wellenfront und einen dem Beugungsgitter zugeordneten, ortsauflösenden Detektor zur Erfassung von interferometrischer Information. Die Wellenfrontquelle umfasst mindestens ein Messmuster (34), das zusätzlich zu dem Nutzmuster (35) an der Maske (8) ausgebildet ist.
摘要翻译：用于光学成像系统的干涉测量的测量装置提供了一种用于成像的设置在所述成像系统的图像平面的掩模有用图案具有用于产生所述成像系统中的至少一个传递的波前一个可被布置在成像系统衍射光栅相互作用与从后面的波前的源成像系统变形的波前，以及衍射光栅相关联，用于检测干涉信息，解决位置检测器。波前源包括至少一个测量模式（34）中除实用新型（35）上的掩模（8）形成。

3. 发明申请

WO2004099877A1 OPTISCHE MESSVORRICHTUNG UND BETRIEBSVERFAHREN FÜR EIN OPTISCHES ABBILDUNGSSYSTEM 审中-公开
标题翻译：光学测量装置及其操作方法将光学图像系统
公开(公告)号：WO2004099877A1
公开(公告)日：2004-11-18
申请号：PCT/EP2003/004932
申请日：2003-05-12
申请人： CARL ZEISS SMT AG , EMER, Wolfgang , WEGMANN, Ulrich , SCHRIEVER, Martin , HOCH, Rainer
发明人： EMER, Wolfgang , WEGMANN, Ulrich , SCHRIEVER, Martin , HOCH, Rainer
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G01M11/0264 , G01M11/0271 , G03F7/706 , G03F7/70875 , G03F7/70891
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf eine Messvorrichtung zur optischen, z.B. interferometrischen, Vermessung eines optischen Abbildungssystems (1), das zur Abbildung eines Nutzmusters vorgesehen ist, mit Mitteln (2, 5) zur Erzeugung von abbildungsfehlerindikativer Interferenzinformation Strahlungsinformation, mit z.B. Interferenzinformation, mit Maskenstrukturmitteln, die ein Messmuster (6) beinhalten, und mit Detektions- und Auswertemitteln (10) zur Erfassung und Auswertung der abbildungsfehlerindikativen Interferenzinformation sowie auf eine Vorrichtung zum abbildungsfehlerkorrektiven Betrieb des optischen Abbildungssystems. Erfindungsgemäß weisen die Maskenstrukturmittel (5) zusätzlich zum Messmuster (6) ein objektseitiges Aufheizbestrahlungsmuster (7) auf, das so gewählt ist, dass die Aufheizwirkung der von ihm durchgelassenen Strahlung für das zu vermessende optische Abbildungssystem innerhalb eines vorgebbaren Toleranzbereichs der Aufheizwirkung der Strahlung entspricht, die im Betrieb des optischen Abbildungssystems vom Nutzmuster durchgelassen wird. Die dadurch gewonnene abbildungsfehlerindikative Interferenzinformation Strahlungsinformation kann anschließend zur abbildungsfehlerkorrektiven Steuerung oder Regelung des optischen Abbildungssystems beim Abbilden des Nutzmusters herangezogen werden. Verwendung z.B. für Projektionsobjektive in Mikrolithographieanlagen zur Waferbelichtung.
摘要翻译：本发明涉及一种用于光学，例如一个测量装置其被设置用于生成干扰信息abbildungsfehlerindikativer用例如辐射信息成像有用的模式，装置（2,5）的光学成像系统（1）的干涉测量干扰的信息，与掩模结构单元，其包括用于检测和评估abbildungsfehlerindikativen干扰信息，以及一种用于光学成像系统的操作abbildungsfehlerkorrektiven测量模式（6）中，用检测和评估装置（10）。根据本发明，掩模图案在除了测量图案装置（5）（6）的物体侧Aufheizbestrahlungsmuster（7），其被选择为使得由他的辐射的热效应可预先确定的公差范围内的对应于测量的光学成像系统发射的辐射的光的热效应，即在从实用新型成像光学系统的操作传送。将如此得到的abbildungsfehlerindikative干扰信息辐射信息可以用于随后的成像有用的模式时abbildungsfehlerkorrektiven所述光学成像系统的控制或调节。例如使用在用于晶片曝光微光刻系统的投影透镜。

4. 发明申请

WO2003087945A3 INTERFEROMETRISCHE MESSVORRICHTUNG UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT DERARTIGER MESSVORRICHTUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2003087945A3
公开(公告)日：2003-10-23
申请号：PCT/EP2003/003566
申请日：2003-04-05
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HAIDNER, Helmut
发明人： SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HAIDNER, Helmut
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Eine Messvorrichtung zur interferometrischen Vermessung eines optischen Abbildungssystems, das zur Abbildung eines an einer Maske vorgesehenen Nutzmusters in die Bildebene des Abbildungssystems vorgesehen ist, hat eine Wellenfrontquelle zur Erzeugung mindestens einer das Abbildungssystem durchlaufenden Wellenfront, ein hinter dem Abbildungssystem anordenbares Beugungsgitter zur Wechselwirkung mit der vom dem Abbildungssystem umgeformten Wellenfront und einen dem Beugungsgitter zugeordneten, ortsauflösenden Detektor zur Erfassung von interferometrischer Information. Die Wellenfrontquelle umfasst mindestens ein Messmuster (34), das zusätzlich zu dem Nutzmuster (35) an der Maske (8) ausgebildet ist.

5. 发明申请

WO2008012022A1 OPTISCHE VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR KORREKTUR BZW. VERBESSERUNG DES ABBILDUNGSVERHALTENS EINER SOLCHEN VORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：光学装置和方法纠正或改善PICTURE行为这种装置
公开(公告)号：WO2008012022A1
公开(公告)日：2008-01-31
申请号：PCT/EP2007/006407
申请日：2007-07-19
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , HUBER, Jürgen , KERWIEN, Norbert , TOTZECK, Michael , HAUF, Markus
发明人： SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , HUBER, Jürgen , KERWIEN, Norbert , TOTZECK, Michael , HAUF, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/70041 , G03F7/70266
摘要： Eine optische Vorrichtung weist eine Lichtquelle, die Licht in Form von Lichtpulsen mit einer Pulsfrequenz abstrahlt, und mindestens ein optisches Element auf, das mit Vorrichtungen zur Anregung einer Schwingung mit einer Schwingungsfrequenz verbunden ist. Die Schwingung des optischen Elements führt zu einer zeitlich periodischen Modulation zumindest eines für die optische Abbildung relevanten Parameters des optischen Elements. Die Schwingungsfrequenz ist mittels der Vorrichtungen zur Anregung einer Schwingung des optischen Elements so einstellbar, dass sie mit der Pulsfrequenz der Lichtquelle synchronisiert ist. Es ist ein Taktgeber für die Pulsfrequenz der Lichtpulse vorgesehen, wobei mit dem Taktgeber zumindest ein Frequenzvervielfacher verbunden ist, dessen Ausgang mit den Vorrichtungen zur Anregung einer Schwingung verbunden ist. Des Weiteren wird ein Verfahren zur Korrektur bzw. Verbesserung des Abbildungsverhaltens einer optischen Vorrichtung beschrieben.
摘要翻译：一种光学器件，包括：在具有脉冲频率的光脉冲的形式发射光的光源，和其中至少一个是在振荡频率连接到用于振荡的激发光学元件。该光学元件的振动导致相关的光学元件的光学成像参数的至少一个的时间上周期性的调制。使得它由设备用于光学元件的振荡的激励的装置与所述光源的脉冲频率同步的振荡频率是可调整的。提供了一种用于在光脉冲的脉冲频率，其中至少一个倍频器连接到所述时钟，其输出被连接到所述装置用于振荡的激励一个时钟发生器。此外，用于校正或改善所述的光学器件的成像特性的方法。

6. 发明申请

WO2005031466A1 METHOD OF DETERMINING OPTICAL PROPERTIES AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM COMPRISING A WAVE FRONT DETECTION SYSTEM 审中-公开
标题翻译：确定光学特性的方法和包括波前检测系统的投影曝光系统
公开(公告)号：WO2005031466A1
公开(公告)日：2005-04-07
申请号：PCT/EP2003/010720
申请日：2003-09-26
申请人： CARL ZEISS SMT AG , LAUER, Steffen , WEGMANN, Ulrich , EMER, Wolfgang , SAKOWSKI, Harald , SCHRIEVER, Martin
发明人： LAUER, Steffen , WEGMANN, Ulrich , EMER, Wolfgang , SAKOWSKI, Harald , SCHRIEVER, Martin
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/706 , G03F7/70258
摘要： A method of determining optical properties of a projection exposure system which comprises: a beam delivery system including a light source for generating an exposure optical beam having light of a first wavelength (λ 1 ) and a second wavelength (λ 2 ), wherein a first ratio is defined as an intensity of light of λ 2 to an intensity of light of λ 1 in the exposure optical beam; the method comprising: supplying at least one measuring optical beam comprising light of at least λ 1 having wavefronts to a projection optical system; detecting wavefronts having passed the projection optical system and determining the optical properties in dependence of the detected wavefronts; wherein a second ratio of an intensity of light of λ 2 to an intensity of light of λ 1 in the measuring optical beam being incident on the detector of the wavefront detection system is less than the first ratio.
摘要翻译：一种确定投影曝光系统的光学特性的方法，包括：光束传播系统，包括用于产生具有第一波长（λ1）和第二波长（λ2）的光的曝光光束的光源，其中第一比率为定义为曝光光束中λ2的光强度与λ1的光强度; 该方法包括：向投影光学系统提供包括具有至少λ1的具有波前的光的至少一个测量光束; 检测已经通过投影光学系统的波前，并根据所检测的波前确定光学特性; 其中入射在所述波前检测系统的检测器上的所述测量光束中的λ2的光强度与λ1的光强度的第二比率小于所述第一比率。

7. 发明申请

WO2004090490A1 DIFFUSOR, WELLENFRONTQUELLE, WELLENFRONTSENSOR UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：扰流板，WAVE前方源的波前传感器和投影曝光系统
公开(公告)号：WO2004090490A1
公开(公告)日：2004-10-21
申请号：PCT/EP2003/008738
申请日：2003-08-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHRIEVER, Martin , HAIDNER, Helmut
发明人： SCHRIEVER, Martin , HAIDNER, Helmut
IPC分类号： G01J9/02
CPC分类号： G02B5/0252 , G01J9/02 , G02B5/0278 , G02B5/0284 , G03F7/70075
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf eine Wellenfrontquelle mit einer Wellenfrontbildungsstruktur (4a) und einem Diffusor mit einer Streustruktur (2b) im Strahlengang vor oder auf Höhe der Wellenfrontbildungsstruktur sowie auf einen hierfür verwendbaren Diffusor, auf einen damit ausgerüsteten Wellenfrontsensor und eine entsprechende Projektionsbelichtungsanlage. Erfindungsgemäss weist der Diffusor eine diffraktive CGH-Streustruktur mit vorgegebenem Winkelstreuprofil auf. Die erfindungsgemässe Wellenfrontquelle beinhaltet einen solchen Diffusor und/oder ein Fokussierelement mit einer reflektierenden diffraktiven Fokussierstruktur (3a) im Strahlengang auf Höhe der Streustruktur oder zwischen der Streustruktur (2b) und der Wellenfrontbildungsstruktur (4a).Verwendung z.B. bei der Wellenfrontvermessung von Projektionsobjektiven in Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen im EUV-Wellenlängenbereich.
摘要翻译：本发明涉及一种波前源与波前形成结构（4a）和与在或在波前形成结构的高度以及到目的可用扩散器前部的光束路径中的散射结构（2b）的一个扩散器，与其波前传感器和相应的投射曝光系统修改。根据本发明，具有衍射CGH散射结构的扩散器具有预定的散射角分布。结合这样的扩散器本发明的波前的源和/或具有反射衍射聚焦在光束路径结构（图3a）在散射结构的高度聚焦元件，或散射结构之间（2b）和波阵面形状的结构（图4a）。使用的例如在投影透镜中在EUV波长范围的微光刻投射曝光设备的波前测量。

8. 发明公开

EP2044487A1 OPTISCHE VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR KORREKTUR BZW. VERBESSERUNG DES ABBILDUNGSVERHALTENS EINER SOLCHEN VORRICHTUNG 有权
标题翻译：光学装置与调整OR 改进的图像性能
公开(公告)号：EP2044487A1
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：EP07786179.7
申请日：2007-07-19
申请人： Carl Zeiss SMT AG
发明人： SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , HUBER, Jürgen , KERWIEN, Norbert , TOTZECK, Michael , HAUF, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/70041 , G03F7/70266
摘要： An optical apparatus has a light source which emits light in the form of light pulses at a pulse repetition frequency and at least one optical element which is connected to apparatuses for excitation of oscillation at an oscillation frequency. The oscillation of the optical element leads to cyclic modulation in time of at least one parameter, which is relevant for optical imaging of the optical element. The oscillation frequency can be adjusted by means of the apparatuses for excitation of an oscillation of the optical element such that it is synchronized to the pulse repetition frequency of the light source. A timer is provided for the pulse repetition frequency of the light pulses, with the timer being connected to at least one frequency multiplier, whose output is connected to the apparatuses for excitation of an oscillation. Furthermore, a method is described for correction or improvement of the imaging behaviour of an optical apparatus.

9. 发明公开

EP1495369A2 INTERFEROMETRISCHE MESSVORRICHTUNG UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT DERARTIGER MESSVORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：干涉测量装置和投影曝光系统，这样的测量装置
公开(公告)号：EP1495369A2
公开(公告)日：2005-01-12
申请号：EP03718735.8
申请日：2003-04-05
申请人： Carl Zeiss SMT AG
发明人： SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HAIDNER, Helmut
IPC分类号： G03F7/20 , G01M11/02
CPC分类号： G02B5/0221 , G02B5/0252 , G03F7/70075 , G03F7/706
摘要： The invention relates to a device for the interferometric measurement of an optical imaging system which is used to image a useful model provided on a mask in the image plane of said imaging system. Said measuring device has a wave front source for producing at least one wave front which passes through the imaging system, a diffraction grid which can be arranged behind the imaging system in order to interact with the wave front which is modified by the imaging system, and a spatially resolving detector which is associated with the diffraction grid and is used to detect interferometric information. The wave front source comprises at least one measuring model (34) which is embodied on the mask (8) along with the useful model (35).

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