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    • 3. 发明授权
    • Electron beam lithography system
    • 电子束光刻系统
    • US4943729A
    • 1990-07-24
    • US284733
    • 1988-12-15
    • Kimiaki AndoMitsuo OoyamaNorio Saitou
    • Kimiaki AndoMitsuo OoyamaNorio Saitou
    • H01J37/302
    • H01J37/3026
    • An electron beam lithography system having a contour resolving circuit for resolving original pattern data which is transferred from a host computer into contour portion pattern data and inner portion pattern data in accordance with the designated dimension, for adding flag data to enable the contour portion pattern data and the inner portion pattern data to be discriminated to the resolved pattern data, and for outputting the resolved pattern data with the flag data. By adding the flag data, the contour portion pattern data and inner portion pattern data can be easily discriminated. The operation to change the electron beam irradiation dose in accordance with the contour portion pattern and inner portion pattern can be fairly easily executed. A pattern can be drawn at a high accuracy while preventing a deformation of the drawn figure due to the proximity effect. A data processing amount in the computer can be reduced. A data transfer amount from the host computer can be also reduced. Thus, an electron beam lithography system having a high throughput can be realized.
    • 一种具有轮廓分解电路的电子束光刻系统,用于根据所指定的尺寸,将从主计算机传送到轮廓部分图形数据和内部部分图形数据的原始图案数据解析,以便添加标志数据以使轮廓部分图形数据 以及要被区分为分辨图案数据的内部部分图案数据,并且用于使用标志数据输出分辨的图案数据。 通过添加标志数据,可以容易地区分轮廓部分图形数据和内部部分图案数据。 可以相当容易地执行根据轮廓部分图形和内部部分图案改变电子束照射剂量的操作。 可以以高精度绘制图案,同时防止由于邻近效应引起的绘制图形的变形。 可以减少计算机中的数据处理量。 也可以减少来自主机的数据传送量。 因此,可以实现具有高通量的电子束光刻系统。