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1. 发明申请

WO2012028569A9 PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：投影曝光装置
公开(公告)号：WO2012028569A9
公开(公告)日：2012-06-07
申请号：PCT/EP2011064796
申请日：2011-08-29
申请人： ZEISS CARL SMT GMBH , EHM DIRK HEINRICH , SCHMIDT STEFAN-WOLFGANG , DIER OLIVER
发明人： EHM DIRK HEINRICH , SCHMIDT STEFAN-WOLFGANG , DIER OLIVER
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70891 , G21K1/062 , H05B6/10
摘要： The invention relates to a projection exposure apparatus (11) for semiconductor lithography comprising optical elements (1, 18), wherein at least one of the optical elements (1) has means (2) for contact lessly producing electric currents in the optical element (1) which are suitable for heating the at least one optical element (1) at least in regions.
摘要翻译：本发明涉及一种用于半导体光刻的投影曝光装置（11），其包括光学元件（1,18），其中至少一个光学元件（1）具有用于在光学元件中较少产生电流的装置（2） 1），其适于至少在区域中加热所述至少一个光学元件（1）。

2. 发明申请

WO2009033639A3 METHOD FOR CLEANING VACUUM CHAMBERS FOR EXTREME UV LITHOGRAPHY DEVICES 审中-公开
标题翻译：用于清洁真空紫外光刻装置的真空室的方法
公开(公告)号：WO2009033639A3
公开(公告)日：2009-04-30
申请号：PCT/EP2008007384
申请日：2008-09-10
申请人： ZEISS CARL SMT AG , KRAUS DIETER , EHM DIRK HEINRICH
发明人： KRAUS DIETER , EHM DIRK HEINRICH
IPC分类号： A61L2/10 , A61L2/08 , G03F7/20
CPC分类号： A61L2/10 , A61L2/087 , A61L2202/23 , G03F7/70916
摘要： In order to be able to clean and, if appropriate, also passivate a vacuum chamber (30) efficiently from contamination, it comprises a radiation source (31), which can in particular generate high-energy radiation (32). The irradiation is carried out with gradually increasing energy. In order to protect a multilayer mirror (35) against contamination during the irradiation, a protection element (37) is provided, which is mounted in a displaceable manner on a rail (39) and can be displaced out of a basic position (P2) into a protection position (P1) in front of the multilayer mirror (35).
摘要翻译：为了能够清洁，并且如果合适，还有效地从真空室（30）中被污染，其包括辐射源（31），其可以特别地产生高能辐射（32）。照射是用逐渐增加的能量进行的。为了在照射期间保护多层反射镜（35）免受污染，提供了保护元件（37），其以可位移方式安装在轨道（39）上并且可以从基本位置（P2）移出，进入多层反射镜（35）前面的保护位置（P1）。

3. 发明申请

WO2009043578A1 ILLUMINATION SYSTEM OPTICAL ELEMENT WITH AN ELECTRICALLY CONDUCTIVE REGION 审中-公开
标题翻译：具有电导电区域的照明系统光学元件
公开(公告)号：WO2009043578A1
公开(公告)日：2009-04-09
申请号：PCT/EP2008/008350
申请日：2008-10-02
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WOLSCHRIJN, Bastiaan, Theodoor , EHM, Dirk, Heinrich , WARM, Berndt
发明人： WOLSCHRIJN, Bastiaan, Theodoor , EHM, Dirk, Heinrich , WARM, Berndt
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70141 , G03F7/70258
摘要： Optical element, comprising first regions which reflect or transmit the light falling on the optical element, and further comprising at least second regions which are in each instance separated by a distance from the first region and which at least partially surround the first region, wherein the second regions are designed to be at least in part electrically conductive and are electrically insulated from the first regions, and wherein the optical element comprises a carrier element (60) and at least two first regions in the form of mirror facets which are arranged on the carrier element, and the respective second regions (61) which are arranged with a separation from the mirror facets on the carrier element (60) are electrically insulated against the carrier element as well as against the mirror facet, and at least one mirror facet is surrounded by an electrically conductive second region.
摘要翻译：光学元件包括反射或透射落在光学元件上的光的第一区域，并且还包括至少第二区域，其至少第二区域在每个情况下与第一区域分开并且至少部分地围绕第一区域，其中，第二区域被设计为至少部分导电并且与第一区域电绝缘，并且其中光学元件包括载体元件（60）和至少两个呈镜面形式的第一区域，其布置在载体元件和与载体元件（60）上的镜面分开设置的相应的第二区域（61）与载体元件以及镜面相电绝缘，并且至少一个镜面是被导电的第二区域包围。

4. 发明申请

WO2009033639A2 METHOD FOR CLEANING VACUUM CHAMBERS AND VACUUM CHAMBERS 审中-公开
标题翻译：清洁真空室和真空室的方法
公开(公告)号：WO2009033639A2
公开(公告)日：2009-03-19
申请号：PCT/EP2008/007384
申请日：2008-09-10
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KRAUS, Dieter , EHM, Dirk Heinrich
发明人： KRAUS, Dieter , EHM, Dirk Heinrich
IPC分类号： A61L2/10 , G03F7/20 , A61L2/08
CPC分类号： A61L2/10 , A61L2/087 , A61L2202/23 , G03F7/70916
摘要： In order to be able to clean and, if appropriate, also passivate a vacuum chamber (30) efficiently from contamination, it comprises a radiation source (31), which can in particular generate high-energy radiation (32). The irradiation is carried out with gradually increasing energy. In order to protect a multilayer mirror (35) against contamination during the irradiation, a protection element (37) is provided, which is mounted in a displaceable manner on a rail (39) and can be displaced out of a basic position (P2) into a protection position (P1) in front of the multilayer mirror (35).
摘要翻译：为了能够清洁，并且如果合适，还有效地从真空室（30）中被污染，其包括辐射源（31），其可以特别地产生高能辐射（32）。照射是用逐渐增加的能量进行的。为了在照射期间保护多层反射镜（35）免受污染，提供保护元件（37），其以可移位的方式安装在轨道（39）上并且可以从基本位置（P2）移出，进入多层反射镜（35）前面的保护位置（P1）。

5. 发明申请

WO2008148516A3 REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT AND METHOD FOR OPERATING AN EUV LITHOGRAPHY DEVICE 审中-公开
标题翻译：反射光学元件和操作EUV光刻设备的方法
公开(公告)号：WO2008148516A3
公开(公告)日：2009-01-29
申请号：PCT/EP2008004400
申请日：2008-06-03
申请人： ZEISS CARL SMT AG , ASML NETHERLANDS BV , EHM DIRK HEINRICH , MOORS JOHANNES HUBERTUS JOSEPH , WOLSCHRIJN BASTIAAN THEODOOR , MUELLENDER STEPHAN
发明人： EHM DIRK HEINRICH , MOORS JOHANNES HUBERTUS JOSEPHINA , WOLSCHRIJN BASTIAAN THEODOOR , MUELLENDER STEPHAN
IPC分类号： G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G21K1/062 , B82Y10/00 , G02B5/0858 , G02B5/0891
摘要： To reduce the negative influence of metallic contamination within an EUV lithography device on the reflectivity, a reflective optical element (50) for the extreme ultraviolet and soft x-ray wavelength ranges having a reflective surface is suggested, in which the reflective surface (59) has an uppermost layer (56) made of a material of the group consisting of zinc, manganese, silver, lead, tin, and their alloys. Further material from the group consisting of zinc, manganese, silver, lead, tin, and their alloys, which would accumulate during operation of the EUV lithography device on the reflective optical element (50) is converted into volatile compounds by adding atomic hydrogen.
摘要翻译：为了减少EUV光刻装置内的金属污染对反射率的负面影响，提出了一种具有反射表面的极紫外和软X射线波长范围的反射光学元件（50），其中反射表面（59）具有由锌，锰，银，铅，锡及其合金组成的组的材料制成的最上层（56）。在EUV光刻装置在反射型光学元件（50）的操作期间积聚的来自由锌，锰，银，铅，锡及其合金组成的组的其它材料通过加入原子氢转化为挥发性化合物。

6. 发明申请

WO2008078993A3 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD OF MEASURING CONTAMINATION 审中-公开
标题翻译：地质设备和测量污染的方法
公开(公告)号：WO2008078993A3
公开(公告)日：2008-08-21
申请号：PCT/NL2007050661
申请日：2007-12-18
申请人： ASML NETHERLANDS BV , ZEISS CARL SMT AG , STORM ARNOLDUS JAN , MOORS JOHANNES HUBERTUS JOSEPH , WOLSCHRIJN BASTIAAN THEODOOR , EHM DIRK HEINRICH
发明人： STORM ARNOLDUS JAN , MOORS JOHANNES HUBERTUS JOSEPH , WOLSCHRIJN BASTIAAN THEODOOR , EHM DIRK HEINRICH
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/70058 , G03F7/70916
摘要： A lithographic apparatus that includes an illumination system configured to condition a radiation beam. The illumination system includes a plurality of optical components. The apparatus also includes a support constructed to support a patterning device. The patterning device is capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam. The apparatus further includes a substrate table constructed to hold a substrate, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate. The projection system includes a plurality of optical components. The apparatus also includes a contamination measurement unit for measuring contamination of a surface of at least one of the optical components. The contamination measurement unit is provided with a radiation sensor constructed and arranged to measure an optical characteristic of radiation received from the surface.
摘要翻译：一种光刻设备，包括配置成调节辐射束的照明系统。照明系统包括多个光学部件。该装置还包括构造成支撑图案形成装置的支撑件。图案形成装置能够在其横截面中赋予辐射束图案以形成图案化的辐射束。该装置还包括被构造成保持基板的基板台，以及配置成将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的投影系统。投影系统包括多个光学部件。该装置还包括用于测量至少一个光学部件的表面的污染物的污染测量单元。污染测量单元设置有辐射传感器，其被构造和布置成测量从表面接收的辐射的光学特性。

7. 发明申请

WO2008034582A2 OPTICAL ARRANGEMENT, IN PARTICULAR PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR EUV LITHOGRAPHY, AS WELL AS REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT WITH REDUCED CONTAMINATION 审中-公开
标题翻译：光学装置，特别是用于EUV光刻的投影曝光设备，以及具有减少的污染的反射光学元件
公开(公告)号：WO2008034582A2
公开(公告)日：2008-03-27
申请号：PCT/EP2007008113
申请日：2007-09-18
申请人： ZEISS CARL SMT AG , ASML NETHERLANDS BV , EHM DIRK HEINRICH , MUELLENDER STEPHAN , STEIN THOMAS , MOORS JOHANNES HUBERTUS JOSEPH , WOLSCHRIJN BASTIAAN THEODOOR , KRAUS DIETER , VERSLUIS RICHARD , MEIJERINK MARCUS GERHARDUS HEN
发明人： EHM DIRK HEINRICH , MUELLENDER STEPHAN , STEIN THOMAS , MOORS JOHANNES HUBERTUS JOSEPH , WOLSCHRIJN BASTIAAN THEODOOR , KRAUS DIETER , VERSLUIS RICHARD , MEIJERINK MARCUS GERHARDUS HEN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03B27/16 , B82Y10/00 , G03F7/70841 , G03F7/70883 , G03F7/70916 , G21K2201/061
摘要： The invention relates to an optical arrangement, in particular a projection exposure apparatus (1) for EUV lithography, comprising: a housing (2) that encloses an interior space (15); at least one, in particular reflective, optical element (4 to 10, 12, 14.1 to 14.6) that is arranged in the housing (2); at least one vacuum generating unit (3) for generating a vacuum in the interior space (15) of the housing (2); and at least one vacuum housing (18, 18.1 to 18.10) that is arranged in the interior space (15) of the housing (2) and that encloses at least the optical surface (17, 17.1, 17.2) of the optical element (4 to 10, 12, 14.1 to 14.5), wherein a contamination reduction unit is associated with the vacuum housing (18.1 to 18.10), which contamination reduction unit reduces the partial pressure of contaminating substances, in particular of water and/or hydrocarbons, at least in close proximity to the optical surface (17, 17.1, 17.2) in relation to the partial pressure of the contaminating substances in the interior space (15).
摘要翻译：用于EUV光刻的投影曝光装置技术领域本发明涉及一种用于EUV光刻的光学装置，尤其是投影曝光装置（1），包括：包围内部空间（15）的壳体（2）; （2）中布置的至少一个，特别是反射性光学元件（4至10,12,14.1至14.6）; 至少一个真空发生单元（3），用于在壳体（2）的内部空间（15）中产生真空; 和至少一个布置在壳体（2）的内部空间（15）中并至少包围光学元件（4）的光学表面（17,17.1,17.2）的真空壳体（18,18.1至18.10）其中污染减少单元与真空壳体（18.1至18.10）相关联，所述污染减少单元至少降低污染物质，特别是水和/或烃的分压相对于所述内部空间（15）中的污染物质的分压紧邻所述光学表面（17,17.1,17.2）。

8. 发明申请

WO2016023840A1 REFLEKTIVES OPTISCHES ELEMENT 审中-公开
标题翻译：反射光学元件
公开(公告)号：WO2016023840A1
公开(公告)日：2016-02-18
申请号：PCT/EP2015/068306
申请日：2015-08-07
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , EHM, Dirk Heinrich , BECKER, Moritz , AMENT, Irene , VON BLANCKENHAGEN, Gisela , WEBER, Jörn
发明人： EHM, Dirk Heinrich , BECKER, Moritz , AMENT, Irene , VON BLANCKENHAGEN, Gisela , WEBER, Jörn
IPC分类号： G02B5/08 , G03F7/20 , G02B27/00
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/0875 , G02B5/0891 , G02B27/0006 , G03F7/7015 , G03F7/70925 , G03F7/70958 , G03F2007/2067
摘要： Die Erfindung betrifft ein reflektives optisches Element, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage oder für eine Maskeninspektionsanlage. Ein erfindungsgemäßes reflektives optisches Element (100) weist ein Substrat (101), ein Reflexionsschichtsystem (110) und eine Defektstruktur (120) aus kanalförmigen Defekten (121) auf, welche sich von der optischen Wirkfläche (100a) oder einer dem Substrat (101) zugewandten Grenzfläche bis in das Reflexionsschichtsystem (110) hinein erstrecken und ein Austreten von Fremdatomen aus dem Reflexionsschichtsystem (110) heraus ermöglichen, wobei die kanalförmigen Defekte (121) einen für das Austreten von Fremdatomen aus dem Reflexionsschichtsystem (110) charakteristischen Diffusionskoeffizienten im Vergleich zu einem analogen Schichtaufbau ohne diese kanalförmigen Defekte um wenigstens 20% erhöhen.
摘要翻译：本发明涉及一种反射光学元件，特别是用于微光刻投射曝光系统或用于掩模检查系统。根据本发明的反射光学元件（100）包括：基板（101），反射层系统（110）和信道状缺陷的缺陷结构（120），（121），其从光学有效区域（100A）或基板（101）在延伸和从所述反射层系统（110）的杂质泄漏输出使能，面向接口到反射层系统（110），其中，所述通道形的缺陷（121）一个用于从所述反射层系统（110）特性的扩散系数的杂质的逃逸相比于增加模拟层结构没有至少这些通道状缺陷20％。

9. 发明申请

WO2013045311A1 EUV MIRROR COMPRISING AN OXYNITRIDE CAPPING LAYER HAVING A STABLE COMPOSITION, EUV LITHOGRAPHY APPARATUS, AND OPERATING METHOD 审中-公开
标题翻译：包含具有稳定组合物的氧化物覆盖层的EUV反射镜，EUV光刻设备和操作方法
公开(公告)号：WO2013045311A1
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：PCT/EP2012/068320
申请日：2012-09-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , BLANCKENHAGEN, Gisela von , EHM, Dirk Heinrich
发明人： BLANCKENHAGEN, Gisela von , EHM, Dirk Heinrich
IPC分类号： G02B5/08 , G21K1/06 , G03F7/20 , C23C16/34
CPC分类号： G03F7/702 , B82Y10/00 , C23C16/308 , G02B5/0891 , G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/067
摘要： The invention relates to a mirror (13) for use e.g. in an EUV lithography apparatus or an EUV mask metrology system, comprising: a substrate (15) and a coating (16) reflective to EUV radiation (6), said reflective coating having a capping layer (18) composed of an oxynitride, in particular composed of SiN x O Y , wherein a nitrogen proportion x in the oxynitride Ν χ Ο γ is between 0.4 and 1.4. The invention also relates to an EUV lithography apparatus comprising at least one such EUV mirror (13) and to a method for operating such an EUV lithography apparatus.
摘要翻译：本发明涉及一种镜子（13）。在EUV光刻设备或EUV掩模测量系统中，包括：基板（15）和对EUV辐射（6）反射的涂层（16），所述反射涂层具有由氮氧化物组成的覆盖层（18），特别是由SiNxOY组成，其中氮氧化物NuchiOmicrongamma中的氮比例x在0.4和1.4之间。本发明还涉及包括至少一个这样的EUV反射镜（13）的EUV光刻设备以及用于操作这样的EUV光刻设备的方法。

10. 发明申请

WO2013010806A1 OPTICAL ASSEMBLY WITH SUPPRESSION OF DEGRADATION 审中-公开
标题翻译：光学组件抑制降解
公开(公告)号：WO2013010806A1
公开(公告)日：2013-01-24
申请号：PCT/EP2012/063101
申请日：2012-07-05
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , SCHMIDT, Stefan-Wolfgang , EHM, Dirk Heinrich , WALTER, Markus
发明人： SCHMIDT, Stefan-Wolfgang , EHM, Dirk Heinrich , WALTER, Markus
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/70883 , G03F7/70891 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70983
摘要： The invention relates to an optical assembly, in particular a projection exposure apparatus for EUV lithography, comprising: a beam generating system for generating radiation (6) at an operating wavelength,at least one optical element (13, 14) which is subjected to the radiation (6) and is arranged in a residual gas atmosphere, and a feed device for feeding at least one gaseous constituent into the residual gas atmosphere in order to suppress a degradation of the surface (14a) of the optical element (14) that is induced by the radiation, wherein either a beam diameter (d) of the radiation (6) at the surface of the optical element, in particular at the surfaces of all optical elements of the optical assembly, lies above a threshold value (d c ) so that a suppression of the degradation by the gaseous constituent is effective, or the beam diameter (d) at the surface (14a) of the optical element (14) lies below the threshold value (d c ) so that a reduction of the effectiveness of the suppression of degradation occurs,and at least one further device (25, 27) for the improved suppression of the degradation of the surface (14a) is assigned to the optical element (14).The invention also relates to an associated method for operating an optical assembly.
摘要翻译：本发明涉及一种光学组件，特别是用于EUV光刻的投影曝光设备，包括：用于产生工作波长的辐射（6）的光束产生系统，至少一个光学元件（13,14）辐射（6）并且设置在残留气体气氛中，以及用于将至少一种气态成分供给到残留气体气氛中的进料装置，以便抑制光学元件（14）的表面（14a）的劣化，其特征在于光学组件的所有光学元件的表面处的辐射（6）的光束直径（d）在光学元件的表面处，特别是在阈值（dc）之上，所以光束直径（d）抑制气态组分的降解是有效的，或者光学元件（14）的表面（14a）处的光束直径（d）低于阈值（dc），使得降低 suppres 并且至少一个用于改善对表面（14a）的降解的抑制的装置（25,27）被分配给光学元件（14）。本发明还涉及一种用于操作光学组件。

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