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1. 发明申请

WO2011122590A1 フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：光电组合物和电阻图案形成方法
公开(公告)号：WO2011122590A1
公开(公告)日：2011-10-06
申请号：PCT/JP2011/057720
申请日：2011-03-28
申请人： JSR株式会社 , 川上峰規 , 松田恭彦 , 柿澤友洋
发明人：川上　峰規 , 松田　恭彦 , 柿澤　友洋
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/2041
摘要：　本発明は、［Ａ］下記式（１）で表される繰り返し単位を含み、酸解離性基を有する重合体、［Ｂ］感放射線性酸発生剤、及び［Ｃ］フッ素原子を含む重合体を含有し、上記重合体［Ａ］に含まれるフッ素原子の含有割合が、上記重合体［Ｃ］に含まれるフッ素原子の含有割合よりも小さいフォトレジスト組成物である。また、上記重合体［Ａ］１００質量部に対する上記重合体［Ｃ］の含有量が０．１質量部以上１０質量部以下であるとよい。さらに、下記式（１）において、２つのＲ２は共にトリフルオロメチル基であることが好ましい。
摘要翻译：公开了含有聚合物（A）的光致抗蚀剂组合物，其包含式（1）所示的重复单元并具有酸不稳定基团，辐射敏感性产酸剂（B）和含有氟原子的聚合物（C）; 由此聚合物（A）的氟原子含有比小于聚合物（C）的氟原子含有率。此外，聚合物（C）相对于聚合物（A）100质量份的量为0.1〜10质量份是理想的。式（1）中的两个R2均为三氟甲基也是理想的。

2. 发明申请

WO2008114644A1 レジストパターン形成方法及びそれに用いるレジストパターン不溶化樹脂組成物审中-公开
标题翻译：耐蚀图案形成方法和可剥离抗蚀剂图案的树脂组合物
公开(公告)号：WO2008114644A1
公开(公告)日：2008-09-25
申请号：PCT/JP2008/054343
申请日：2008-03-11
申请人： JSR株式会社 , 中村敦 , 永井智樹 , 安陪毅由 , 柿澤友洋
发明人：中村敦 , 永井智樹 , 安陪毅由 , 柿澤友洋
IPC分类号： G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70466 , G03F7/0035 , G03F7/0392 , G03F7/40 , H01L21/0274
摘要：　（１）第一のレジスト層にマスクを介して選択的に露光した後、現像して第一のレジストパターンを形成する工程と、（２）第一のレジストパターン上に、第一のレジストパターンを不要化することが可能なレジストパターン不溶化樹脂組成物を塗布し、ベーク又はＵＶキュア後、現像して、第一のレジストパターンを不溶化レジストパターンとする工程と、（３）不溶化レジストパターン上に第二のレジスト層を形成し、第二のレジスト層にマスクを介して選択的に露光する工程と、（４）現像して第二のレジストパターンを形成する工程と、を含むレジストパターン形成方法である。
摘要翻译：公开了形成抗蚀剂图案的方法，其包括以下步骤：（1）通过掩模选择性地将第一抗蚀剂层暴露于光并显影抗蚀剂层以形成第一抗蚀剂图案; （2）将能够使抗蚀剂图案（树脂组合物可以使第一抗蚀剂图案不溶解）的树脂组合物施加到第一抗蚀剂图案上，烘烤或UV固化组合物，并显影组合物，从而将第一抗蚀剂图案到不溶性抗蚀剂图案; （3）在不溶化抗蚀剂图案上形成第二抗蚀剂层，并通过掩模选择性地将第二抗蚀剂层曝光; 和（4）显影第二抗蚀剂层，从而形成第二抗蚀剂图案。

3. 发明申请

WO2011108665A1 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物和抗蚀剂图案形成方法
公开(公告)号：WO2011108665A1
公开(公告)日：2011-09-09
申请号：PCT/JP2011/054967
申请日：2011-03-03
申请人： JSR株式会社 , 川上峰規 , 松田恭彦 , 柿澤友洋
发明人：川上　峰規 , 松田　恭彦 , 柿澤　友洋
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/38 , G03F7/004 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/38 , G03F7/0046 , G03F7/2041
摘要：　本発明の課題は、ライン幅のばらつきの発生を抑制して、所望形状のパターンを精度良く形成することのできる化学増幅型レジストを与える感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供することである。本発明は、［Ａ］下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含み、酸解離性基を有する重合体、［Ｂ］感放射線性酸発生剤、及び、［Ｃ］フッ素原子を含む重合体を含有し、重合体［Ａ］に含まれるフッ素原子の含有率が、重合体［Ｃ］に含まれるフッ素原子の含有率よりも少ない感放射線性樹脂組成物である。（式中、Ｒ１は、水素原子、トリフルオロメチル基又は炭素数１～４のアルキル基であり、Ｒ２は、炭素数１～２０の炭化水素基又は炭素数１～２０のフッ素化炭化水素基であり、Ｑ１は、２価の連結基である。）
摘要翻译：提供了一种辐射敏感性树脂组合物，可以获得化学放大抗蚀剂，其显示线宽粗糙度降低并且确保高精度地形成所需图案形状，以及形成使用其的抗蚀剂图案的方法。辐射敏感性树脂组合物包含含有由通式（1）表示的重复单元并具有酸解离基团的聚合物[A]，辐射敏感性酸产生剂[B]和含氟聚合物[C] 其中聚合物[A]中所含的氟原子的比例小于聚合物[C]中含有的氟原子的比例。在通式（1）中，R 1表示氢原子，三氟甲基或C 1-4烷基; R2代表C1-20烃基或C1-20氟代烃基; 而Q1代表二价连接基团。

4. 发明申请

WO2010032839A1 レジストパターンコーティング剤及びレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：电阻图案涂料和电阻图案形成方法
公开(公告)号：WO2010032839A1
公开(公告)日：2010-03-25
申请号：PCT/JP2009/066418
申请日：2009-09-18
申请人： JSR株式会社 , 堀雅史 , 三田倫広 , 藤原考一 , 稗田克彦 , 山口佳一 , 柿澤友洋
发明人：堀　雅史 , 三田　倫広 , 藤原　考一 , 稗田　克彦 , 山口　佳一 , 柿澤　友洋
IPC分类号： G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0273 , G03F7/0035 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要：　水酸基を有する樹脂と、溶媒と、一般式（１）で表される基を少なくとも２つ有する化合物、一般式（２）で表される基を有する化合物、及び一般式（４）で表される基を有する化合物からなる群より選択される少なくとも２種の化合物と、を含有するレジストパターンコーティング剤である。
摘要翻译：一种抗蚀剂图案涂布剂，其包含具有羟基的树脂，溶剂和至少两种独立地选自具有至少两个由通式（1）表示的基团的化合物的化合物，具有基团的化合物由通式（2）表示的化合物和具有由通式（4）表示的基团的化合物。

5. 发明申请

WO2012036250A1 感放射線性樹脂組成物、重合体及びレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物，聚合物和形成耐火图案的方法
公开(公告)号：WO2012036250A1
公开(公告)日：2012-03-22
申请号：PCT/JP2011/071163
申请日：2011-09-15
申请人： JSR株式会社 , 松田恭彦 , 杉江紀彦 , 柿澤友洋 , 木元孝和
发明人：松田　恭彦 , 杉江　紀彦 , 柿澤　友洋 , 木元　孝和
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/18 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/004 , C08F220/30 , C08F224/00 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , Y10S430/114
摘要：　本発明は、［Ａ］同一又は異なる重合体中に、下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）と下記式（２）で表される構造単位（ＩＩ）とを有する重合体成分、［Ｂ］感放射線性酸発生剤、及び［Ｃ］環構造を有する窒素含有化合物を含有する感放射線性樹脂組成物である。下記式（１）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基である。Ｚは、Ｒ２と共に２価の単環の脂環式炭化水素基を形成する基である。Ｒ２は、炭素原子である。Ｒ３は、メチル基又はエチル基である。下記式（２）中、Ｒ４は、水素原子又はメチル基である。Ｘは、Ｒ５と共に炭素数１０以上の２価の有橋の脂環式炭化水素基を形成する基である。Ｒ５は、炭素原子である。Ｒ６は、炭素数３又は４の分岐状のアルキル基である。
摘要翻译：本发明提供一种辐射敏感性树脂组合物，其含有：[A]具有由式（1）表示的结构单元（I）的聚合物组分和由式（2）表示的结构单元（II）在相同或不同的聚合物 ; [B]辐射敏感酸产生剂; 和[C]具有环状结构的含氮化合物。在式（1）中，R 1表示氢原子或甲基; Z表示与R2一起形成二价单环脂肪族烃基的基团， R2是碳原子; 并且R 3是甲基或乙基。在式（2）中，R 4是氢原子或甲基; X是与R5一起形成C10或更多个二价桥连脂环烃基的基团; R5是碳原子; R6是C3或C4支链烷基。

6. 发明申请

WO2012008546A1 感放射線性樹脂組成物、重合体及びレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：辐射敏感树脂组合物，聚合物和电阻图案形成方法
公开(公告)号：WO2012008546A1
公开(公告)日：2012-01-19
申请号：PCT/JP2011/066147
申请日：2011-07-14
申请人： JSR株式会社 , 柿澤友洋 , 川上峰規 , 木元孝和 , 田中希佳 , 成岡岳彦 , 中川大樹
发明人：柿澤　友洋 , 川上　峰規 , 木元　孝和 , 田中　希佳 , 成岡　岳彦 , 中川　大樹
IPC分类号： G03F7/039 , C08F20/28
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F2220/1841 , C08F2220/1875 , G03F7/2041 , C08F2220/1883 , C08F2220/281 , C08F2220/283 , C08F220/22
摘要：　本発明の感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有し、アルカリ不溶性又はアルカリ難溶性であり、酸の作用によりアルカリ可溶性となる重合体（Ａ）、及び、感放射線性酸発生剤（Ｂ）を含有する。（Ｒ１は、水素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基又は炭素数１～３のアルキル基であり、Ｒ２０は、炭素数１～５の（ｎａ＋２）価の炭化水素基であり、Ｘは、単結合又は下記（ａ－１）、（ａ－２）、（ａ－３）及び（ａ－４）からなる群より選ばれる少なくとも１つの２価の基であり、ｎａは、０～３の整数であり、ｎｂは、０～１０の整数であり、ｎａ＋ｎｂ ≧１である。）
摘要翻译：所公开的辐射敏感性树脂组合物具有由通式（1）表示的重复单元，不具有或低碱溶性，并且含有（A）当经受酸的作用时变成碱溶性的聚合物，（B ）辐射敏感酸产生器。（R1是氢原子，氟原子，三氟甲基或C1-3烷基，R20是C1-5（na + 2）价烃，X是单键或至少一个选自由（a-1），（a-2），（a-3）和（a-4）组成的组，na为1-3的整数，nb为1-10的整数，na + nb = 1）。

7. 发明申请

WO2011037246A1 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、及び、重合体审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物，耐光图案形成方法和聚合物
公开(公告)号：WO2011037246A1
公开(公告)日：2011-03-31
申请号：PCT/JP2010/066758
申请日：2010-09-28
申请人： JSR株式会社 , 佐藤光央 , 柿澤友洋
发明人：佐藤　光央 , 柿澤　友洋
IPC分类号： G03F7/039 , C08F20/34 , H01L21/027
CPC分类号： C08F20/34 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要：　断面形状に優れたレジストパターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位（Ｉ）を有し、分子中にフッ素原子を含む重合体と、（Ｂ）酸解離性基を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の重合体と、（Ｃ）感放射線性酸発生剤と、を含有する感放射線性樹脂組成物。（一般式（１）中、Ｒ１は水素原子など、Ｘ１及びＲ２は単結合など、Ｒ３は水素原子など、Ｒ４は酸解離性基である。）
摘要翻译：公开了能够形成具有优异横截面形状的抗蚀剂图案的辐射敏感性树脂组合物。辐射敏感性树脂组合物包含（A）具有由通式（1）表示的重复单元（I）并且在其分子中含有氟原子的聚合物，（B）碱不溶性或弱碱溶性聚合物，其具有酸不稳定组，（C）辐射敏感性酸产生剂。（通式（1）中，R 1表示氢原子等; X 1和R 2独立地表示单键等; R 3表示氢原子等，R 4表示酸不稳定基团。

8. 发明申请

WO2010047340A1 レジストパターンコーティング剤及びそれを用いるレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：电阻图案涂料和耐蚀图案使用相同的方法
公开(公告)号：WO2010047340A1
公开(公告)日：2010-04-29
申请号：PCT/JP2009/068093
申请日：2009-10-21
申请人： JSR株式会社 , 矢田勇二 , 庵野祐亮 , 柿澤友洋 , 堀雅史 , 三田倫広 , 若松剛史
发明人：矢田　勇二 , 庵野　祐亮 , 柿澤　友洋 , 堀　雅史 , 三田　倫広 , 若松　剛史
IPC分类号： G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0273 , G03F7/0035 , G03F7/0037 , G03F7/40
摘要：　第一の感放射線性樹脂組成物を用いて、基板上に第一のレジストパターンを形成する工程（１）と、第一のレジストパターンをレジストパターンコーティング剤により処理する工程（２）と、第二の感放射線性樹脂組成物を用いて、レジストパターンコーティング剤によって処理された基板上に第二のレジストパターンを形成する工程（３）と、を含むレジストパターン形成方法の工程（２）で用いられる、水酸基を有する樹脂と、炭素数が３～１０の分岐アルキルアルコールを３０質量％以上含む溶媒と、を含有するレジストパターンコーティング剤である。
摘要翻译：含有具有羟基的树脂的抗蚀剂图案涂布剂和含有不少于30质量％的具有3-10个碳原子的支链烷基醇的溶剂。抗蚀剂图案涂布剂用于抗蚀剂图案形成方法的步骤（2）中，该方法包括：步骤（1），其中使用第一辐射敏感树脂组合物在基板上形成第一抗蚀剂图案; 步骤（2），其中所述第一抗蚀剂图案用抗蚀剂图案涂布剂进行处理; 以及使用第二辐射敏感性树脂组合物在已经用抗蚀剂图案涂布剂处理的基板上形成第二抗蚀剂图案的步骤（3）。

9. 发明申请

WO2008143301A1 パターン形成方法及びそれに用いる樹脂組成物审中-公开
标题翻译：方法中使用的图案形成方法和树脂组合物
公开(公告)号：WO2008143301A1
公开(公告)日：2008-11-27
申请号：PCT/JP2008/059386
申请日：2008-05-21
申请人： JSR株式会社 , 中村敦 , 下川努 , 高橋純一 , 安陪毅由 , 永井智樹 , 柿澤友洋
发明人：中村敦 , 下川努 , 高橋純一 , 安陪毅由 , 永井智樹 , 柿澤友洋
IPC分类号： G03F7/40 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0035 , G03F7/0397 , G03F7/40 , H01L21/0273 , Y10S430/106
摘要：　（１）第一のレジスト層を選択的に露光した後、現像して第一のパターンを形成する工程と、（２）第一のパターン上に、ベークすることで現像液に対して不溶化又は難溶化する水酸基を有する樹脂、及び溶媒を含有する所定の樹脂組成物を塗布し、ベーク後、洗浄して第二のパターンを形成する工程と、（３）第二のパターンを、全面露光又は選択的に露光することによって部分的に現像液に可溶にした後、現像して、穴及び溝の少なくともいずれかが第二のパターンに形成された第三のパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法である。
摘要翻译：本发明提供了一种图案形成方法，包括（1）选择性地暴露第一抗蚀剂层，然后使曝光的第一抗蚀剂层显影以形成第一图案的步骤，（2）涂覆含有树脂的预定树脂组合物的步骤含有羟基，其在烘烤时可使树脂在显影溶液和溶剂中不溶或微溶于第一图案，烘烤涂层，并洗涤烘烤的涂层以形成第二图案，和（3）使第二图案经受整个图像曝光或选择性曝光以使第二图案部分地溶解在显影液中的步骤，然后显影该图案以形成包括形成在第二图案中的孔和槽中的至少一个的第三图案。

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