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81. 发明申请

WO2017053812A1 METHOD AND SYSTEM FOR FOCUS ADJUSTMENT A MULTI-BEAM SCANNING ELECTRON MICROSCOPY SYSTEM 审中-公开
标题翻译：聚焦扫描电子显微系统聚焦调整方法与系统
公开(公告)号：WO2017053812A1
公开(公告)日：2017-03-30
申请号：PCT/US2016/053466
申请日：2016-09-23
申请人： KLA-TENCOR CORPORATION
发明人： MCCORD, Mark A. , KNIPPELMEYER, Rainer , MASNAGHETTI, Douglas , SIMMONS, Richard R. , YOUNG, Scott A
IPC分类号： G02B21/20 , H01J37/317
CPC分类号： G02B21/20 , H01J37/21 , H01J37/28 , H01J2237/1205 , H01J2237/1532 , H01J2237/216 , H01J2237/221
摘要： A scanning electron microscopy system is disclosed. The system includes a multi-beam scanning electron microscopy (SEM) sub-system. The SEM sub-system includes a multi-beam electron source configured to form a plurality of electron beams, a sample stage configured to secure a sample, an electron-optical assembly to direct the electron beams onto a portion of the sample, and a detector assembly configured to simultaneously acquire multiple images of the surface of the sample. The system includes a controller configured to receive the images from the detector assembly, identify a best focus image of images by analyzing one or more image quality parameters of the images, and direct the multi-lens array to adjust a focus of one or more electron beams based on a focus of an electron beam corresponding with the identified best focus image.
摘要翻译：公开了一种扫描电子显微镜系统。该系统包括多光束扫描电子显微镜（SEM）子系统。 SEM子系统包括被配置为形成多个电子束的多光束电子源，被配置为固定样本的样品台，将电子束引导到样品的一部分上的电子 - 光学组件，以及检测器组件被配置为同时获取样品表面的多个图像。该系统包括被配置为从检测器组件接收图像的控制器，通过分析图像的一个或多个图像质量参数来识别图像的最佳聚焦图像，并且引导多透镜阵列调整一个或多个电子的焦点基于与所识别的最佳聚焦图像相对应的电子束的焦点的光束。

82. 发明申请

WO2014136381A1 電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム照射装置、調整方法、および電子ビーム露光装置审中-公开
标题翻译：电子束辐射装置，多电子束辐射装置，调整方法和电子束曝光装置
公开(公告)号：WO2014136381A1
公开(公告)日：2014-09-12
申请号：PCT/JP2014/000636
申请日：2014-02-06
申请人：株式会社クレステック
发明人：小島　明
IPC分类号： H01L21/027 , H01J37/153 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/073 , H01J37/3177 , H01J2237/06375 , H01J2237/065 , H01J2237/1205 , H01J2237/1534 , H01J2237/31781
摘要：　面電子ビーム源からの電子ビームが描画する像の像面湾曲を低減し、かつ、歪曲収差を補正する。複数の電子ビーム発生源が配列された面電子ビーム源と、複数の電子ビーム発生源のそれぞれに対応してそれぞれ設けられた複数のコンデンサレンズを有するコンデンサレンズアレイと、複数の電子ビーム発生源からの複数の電子ビームがコンデンサレンズアレイを介して入射され、複数の電子ビームによる像を縮小する電子レンズと、を備え、複数の電子ビーム発生源のうち、中心から遠い第１電子ビーム発生源は中心から近い第２電子ビーム発生源と比較して高いエネルギーで電子を放出し、複数のコンデンサレンズのうち、第１電子ビーム発生源に対応する第１コンデンサレンズは、第２電子ビーム発生源に対応する第２コンデンサレンズと比較して焦点距離を長くする電子ビーム照射装置を提供する。
摘要翻译：为了减小来自平面电子束源的电子束形成的图像的场曲率，并且具有正确的变形，提供了一种电子束照射装置，其设置有：多个电子束产生源被布置在其中的平面电子束源 ; 聚光透镜阵列，其具有分别设置成对应于所述多个电子束产生源的多个聚光透镜; 以及电子透镜，多个电子束产生源的多个电子束经由聚光透镜阵列入射，并且使由多个电子束形成的图像缩小。在多个电子束产生源中，远离中心的第一电子束产生源以比靠近中心的第二电子束产生源更高的能量发射电子，并且在多个聚光透镜中，焦距对应于第一电子束产生源的第一聚光透镜被制成比对应于第二电子束产生源的第二聚光透镜更长。

83. 发明申请

WO2013047688A1 静電レンズおよびそれを用いた荷電粒子ビーム装置审中-公开
标题翻译：静电镜和充电颗粒光束装置使用相同
公开(公告)号：WO2013047688A1
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：PCT/JP2012/074947
申请日：2012-09-27
申请人：京セラ株式会社
发明人：野口　幸雄
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/28 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/12 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J3/18 , H01J37/28 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/03 , H01J2237/1205
摘要：本発明は、電子線の照射精度を高めつつ、スループットを高める要求に応える静電レンズを提供するものである。本発明の一形態に係る静電レンズ（４）は、電子線（Ｅ）がそれぞれ通過する複数の第１スルーホール（Ｔ１）が形成された絶縁板（１０）と、複数の第１スルーホール（Ｔ１）それぞれの内壁に形成された複数の電極（１１）と、絶縁板（１０）上に形成され、電極（１１）それぞれに電気的に接続した複数の配線（１２）とを有する基板（６）を備え、複数の電極（１１）は、電気的に互いに独立している。
摘要翻译：本发明提供一种静电透镜，其可以支持在增加辐射电子束的精度的同时提高吞吐量的请求。静电透镜（4）的一个实施例设置有：具有绝缘板（10）的基板（6），多个通过电子束（E）通过的多个第一通孔（T1）形成于该绝缘板 ; 形成在所述多个第一通孔（T1）的每一个的内壁上的多个电极（11）。以及形成在绝缘板（10）上并电连接到每个电极（11）的多个布线（12）。多个电极（11）彼此电独立。

84. 发明申请

WO2012124324A1 CHARGED PARTICLE BEAM LENS AND EXPOSURE APPARATUS USING THE SAME 审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束和曝光装置使用它
公开(公告)号：WO2012124324A1
公开(公告)日：2012-09-20
申请号：PCT/JP2012/001781
申请日：2012-03-14
申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA , KATO, Takahisa , SETOMOTO, Yutaka
发明人： KATO, Takahisa , SETOMOTO, Yutaka
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/12 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J3/18 , H01J37/3177 , H01J2237/04924 , H01J2237/1205 , H01J2237/1207
摘要： An electrostatic charged particle beam lens includes an electrode including a flat plate having a first surface having a normal line extending in a direction of an optical axis and a second surface opposite to the first surface, the electrode having a through-hole extending from the first surface to the second surface. When an opening cross section is defined as a cross section of the through-hole taken along a plane perpendicular to the normal line and a representative diameter is defined as a diameter of a circle obtained by performing regression analysis of the opening cross section, a representative diameter of the opening cross section in a first region that is on the first surface side and a representative diameter of the opening cross section in a second region that is on the second surface side are each larger than a representative diameter of the opening cross section in a third region that is a region in the electrode disposed between the first surface and the second surface.
摘要翻译：静电带电粒子束透镜包括：电极，其包括平板，该平板具有沿光轴方向延伸的法线的第一表面和与该第一表面相对的第二表面，该电极具有从第一表面延伸的通孔表面到第二表面。当开口横截面被定义为沿着垂直于法线的平面截取的通孔的横截面，并且代表性直径被定义为通过对开口横截面进行回归分析而获得的圆的直径时，代表在第一表面侧的第一区域中的开口横截面的直径和位于第二表面侧的第二区域中的开口横截面的代表性直径分别大于开口横截面的代表性直径第三区域，其是设置在第一表面和第二表面之间的电极中的区域。

85. 发明申请

WO2012041464A1 PARTICLE-OPTICAL SYSTEMS AND ARRANGEMENTS AND PARTICLE-OPTICAL COMPONENTS FOR SUCH SYSTEMS AND ARRANGEMENTS 审中-公开
标题翻译：颗粒光学系统和安排以及这种系统和安排的颗粒光学部件
公开(公告)号：WO2012041464A1
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/EP2011/004777
申请日：2011-09-23
申请人： APPLIED MATERIALS ISRAEL Ltd. , CARL ZEISS SMT GMBH , ZEIDLER, Dirk , KEMEN, Thomas , ANGER, Pascal , CASARES, Antonio , RIEDESEL, Christof
发明人： ZEIDLER, Dirk , KEMEN, Thomas , ANGER, Pascal , CASARES, Antonio , RIEDESEL, Christof
IPC分类号： H01J37/09
CPC分类号： H01J37/09 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/21 , H01J37/28 , H01J37/3177 , H01J2237/0453 , H01J2237/0458 , H01J2237/0492 , H01J2237/1205
摘要： The present invention concerns a charged-particle multi-beamlet system that comprises a source of charged particles (301); a first multi-aperture plate (320) having plural apertures disposed in a charged particle beam path of the system downstream of the source; a first multi-aperture selector plate (313) having plural apertures; a carrier (340), wherein the first multi-aperture selector plate is mounted on the carrier; and an actuator (350) configured to move the carrier such that the first multi-aperture selector plate is disposed in the charged particle beam path of the system downstream of the source in a first mode of operation of the system, and such that the first multi-aperture selector plate is disposed outside of the charged particle beam path in a second mode of operation of the system. The source, the first multi-aperture plate and the carrier of the system are arranged such that a first number of charged particle beamlets is generated at a position downstream of both the first multi-aperture plate and the first multi-aperture selector plate in the first mode of operation, and that a second number of charged particle beamlets is generated at the position in the second mode of operation, wherein the first number of beamlets differs from the second number of beamlets.
摘要翻译：本发明涉及一种带电粒子多子束系统，其包括带电粒子源（301）; 第一多孔板（320），其具有设置在所述源的下游的所述系统的带电粒子束路径中的多个孔; 具有多个孔的第一多孔选择板（313）载体（340），其中所述第一多孔径选择器板安装在所述载体上; 以及构造成移动所述载体的致动器（350），使得所述第一多孔径选择器板在所述系统的第一操作模式中被布置在所述源的下游的系统的带电粒子束路径中，并且使得所述第一多孔径选择器板在系统的第二操作模式中设置在带电粒子束路径的外部。源极，第一多孔板和系统的载体被布置成使得在第一多孔径板和第一多孔径选择器板的下游位置处产生第一数量的带电粒子子束第一操作模式，并且在第二操作模式的位置处产生第二数量的带电粒子子束，其中第一数量的子束与第二数量的子束不同。

86. 发明申请

WO2011089439A3 A MINIATURE LOW- ENERGY ELECTRON BEAM GENERATOR 审中-公开
标题翻译：微型低能量电子束发生器
公开(公告)号：WO2011089439A3
公开(公告)日：2011-11-17
申请号：PCT/GB2011050103
申请日：2011-01-21
申请人： NFAB LTD , EASTHAM DEREK
发明人： EASTHAM DEREK
IPC分类号： H01J37/141 , G01Q60/00 , H01J37/143 , H01J37/28 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/28 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/1416 , H01J37/143 , H01J37/3174 , H01J2237/1205 , H01J2237/1405 , H01J2237/2804
摘要： According to one aspect of the invention for which protection is sought, there is provided an electron beam generator (100, 200) comprising: an electron source (104, 204) for generating a beam (120, 220) of electrons from an emission site of the source; means for accelerating the electrons; and focussing means for focussing the electrons onto a surface of a sample provided in an image plane, wherein the electron beam is arranged to pass through a plurality of apertures between the source and the image plane, each aperture having a diameter greater than that of the electron beam at the point at which the beam passes through the aperture, the generator being operable to image directly electrons from the emission site onto the image plane, the focussing means comprising a microscale lens (150, 250) comprising a lens element arranged to generate a magnetic field thereby to focus the electron beam onto the image plane, the lens element having a lens aperture therethrough through which in use electrons to be focussed are passed.
摘要翻译：根据寻求保护的本发明的一个方面，提供了一种电子束发生器（100,200），包括：用于从发射位置产生电子束（120,220）的电子源（104,204）的来源; 用于加速电子的手段; 以及用于将电子聚焦到设置在图像平面中的样品的表面上的聚焦装置，其中电子束被布置成穿过源和图像平面之间的多个孔，每个孔的直径大于电子束在光束穿过孔的点处，该发生器可操作以将来自发射位点的电子直接成像到图像平面上，聚焦装置包括微透镜（150,250），该微米透镜包括透镜元件，该透镜元件被布置成产生磁场，从而将电子束聚焦到图像平面上，透镜元件具有透镜孔，通过该透镜孔可以通过要聚焦的电子。

87. 发明申请

WO2008090380A1 IMPROVED PARTICLE BEAM GENERATOR 审中-公开
标题翻译：改进颗粒光束发生器
公开(公告)号：WO2008090380A1
公开(公告)日：2008-07-31
申请号：PCT/GB2008/050050
申请日：2008-01-24
申请人： NFAB Limited , EASTHAM, Derek Anthony
发明人： EASTHAM, Derek Anthony
IPC分类号： H01J37/12
CPC分类号： H01J37/073 , B82Y15/00 , H01J37/065 , H01J37/12 , H01J37/28 , H01J2237/03 , H01J2237/0492 , H01J2237/062 , H01J2237/06341 , H01J2237/1205 , H01J2237/1207
摘要： A particle beam generator comprising particle extraction means disposed adjacent a particle source and operable to extract particles from such a source into an extraction aperture of the extraction means to form a particle beam, particle accelerating means operable to accelerate the extracted particles to increase the energy of the beam, and focussing means operable to focus the particle beam, each of said extraction means, accelerating means and focussing means being arranged in sequence and having apertures therethrough and in alignment to define a passageway through which the particles are constrained to move, characterised in that the extraction means comprises a lens structure comprising at least a pair of electrodes separated by a layer of insulating material allowing the application of different potentials to each of the lens structure electrodes, one of said electrodes comprising an extraction plate having an extraction aperture formed therein, by means of which extraction plate particles may be drawn from the particle source and through the extraction aperture by means of a potential difference between the source and said extraction plate.
摘要翻译：一种粒子束发生器，其包括与颗粒源相邻设置的颗粒提取装置，可操作以将颗粒从这种源提取到提取装置的提取孔中以形成粒子束，粒子加速装置可操作以加速提取的颗粒以增加能量所述光束和聚焦装置可操作以聚焦所述粒子束，所述提取装置，加速装置和聚焦装置中的每一个按顺序布置并且具有穿过其中的孔并且对齐以限定颗粒被约束以移动的通道，其特征在于所述提取装置包括透镜结构，所述透镜结构包括至少一对电极，所述至少一对电极由绝缘材料层隔开，允许对每个所述透镜结构电极施加不同的电位，所述电极中的一个包括在其中形成有提取孔的提取板，通过其提取平台 e颗粒可以通过源和所述提取板之间的电位差从颗粒源和抽出孔中抽出。

88. 发明申请

WO2004081910A3 APPARATUS FOR GENERATING A PLURALITY OF BEAMLETS 审中-公开
标题翻译：用于产生大量光束的装置
公开(公告)号：WO2004081910A3
公开(公告)日：2005-03-31
申请号：PCT/NL2004000174
申请日：2004-03-10
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP BV , KRUIT PIETER
发明人： KRUIT PIETER
IPC分类号： G09G20060101 , H01J3/02 , H01J3/07 , H01J3/14 , H01J3/26 , H01J37/063 , H01J37/317
CPC分类号： H01J3/07 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/063 , H01J37/12 , H01J37/153 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/1205 , H01J2237/151 , H01J2237/1536 , H01J2237/26 , H01J2237/31774
摘要： The invention relates to an apparatus for generating a plurality of charged particle beamlets, comprising a charged particle source for generating a diverging charged particle beam, a converging means for refracting said diverging charged particle beam and a lens array comprising a plurality of lenses, wherein said lens array is located between said charged particle source and said converging means. In this way, it is possible to reduce aberrations of the converging means.
摘要翻译：本发明涉及一种用于产生多个带电粒子束的装置，包括用于产生发散带电粒子束的带电粒子源，用于折射所述发散带电粒子束的会聚装置和包括多个透镜的透镜阵列，其中所述透镜阵列位于所述带电粒子源和所述会聚装置之间。以这种方式，可以减小会聚装置的像差。

89. 发明申请

WO2004081910A2 APPARATUS FOR GENERATING A PLURALITY OF BEAMLETS 审中-公开
标题翻译：用于产生大量光束的装置
公开(公告)号：WO2004081910A2
公开(公告)日：2004-09-23
申请号：PCT/NL2004/000174
申请日：2004-03-10
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. , KRUIT, Pieter
发明人： KRUIT, Pieter
IPC分类号： G09G
CPC分类号： H01J3/07 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/063 , H01J37/12 , H01J37/153 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/1205 , H01J2237/151 , H01J2237/1536 , H01J2237/26 , H01J2237/31774
摘要： The invention relates to an apparatus for generating a plurality of charged particle beamlets, comprising a charged particle source for generating a diverging charged particle beam, a converging means for refracting said diverging charged particle beam and a lens array comprising a plurality of lenses, wherein said lens array is located between said charged particle source and said converging means. In this way, it is possible to reduce aberrations of the converging means.
摘要翻译：本发明涉及一种用于产生多个带电粒子束的装置，包括用于产生发散带电粒子束的带电粒子源，用于折射所述发散带电粒子束的会聚装置和包括多个透镜的透镜阵列，其中所述透镜阵列位于所述带电粒子源和所述会聚装置之间。以这种方式，可以减小会聚装置的像差。

90. 发明申请

WO2004066333A2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG VON KORPUSKULARSTRAHLSYSTEMEN 审中-公开
标题翻译：方法和设备用于生产KORPUSKULARSTRAHLSYSTEMEN
公开(公告)号：WO2004066333A2
公开(公告)日：2004-08-05
申请号：PCT/EP2004/000559
申请日：2004-01-23
申请人： NAWOTEC GMBH , KOOPS, Hans, Wilfried, Peter
发明人： KOOPS, Hans, Wilfried, Peter
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J37/317 , H01J9/02 , H01J2237/1205 , H01J2237/31735
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Korpuskularstrahlsystemen (10-10 "", 12-12"), bei dem auf einem ersten Substrat (14) mindestens ein erstes Korpuskularstrahlsystem (10-10 "") mittels Rechnergeführter korpuskularstrahlinduzierter Deposition und auf mindestens einem zweiten Substrat (16) mindestens ein zweites Korpuskularstrahlsystem (12-12 ") von dem mindestens einen ersten Korpuskularstrahlsystem (10-10 "") mittels Rechnergeführter korpuskularstrahlinduzierter Deposition erzeugt wird. Mit dem erfindungsgemässen Verfahren können eine Vielzahl von Korpuskularstrahlsystemen in relativ kurzer Zeit produziert werden.
摘要翻译：本发明涉及一种用于Korpuskularstrahlsystemen的制备（10-10“”和12-12“），其中在第一衬底（14）的至少一个第一粒子束系统（10-10”“）通过计算机的装置上引导korpuskularstrahlinduzierter沉积和至少一个 “至少一个第一粒子束系统的（10-10所述第二衬底（16）的至少一个第二粒子束系统（12-12）”制造的“）通过计算机来引导korpuskularstrahlinduzierter沉积。用本发明的方法在相对短的时间各种Korpuskularstrahlsystemen均可生产。

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