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61. 发明申请

US20140255831A1 METHOD AND APPARATUS FOR PROTECTING A SUBSTRATE DURING PROCESSING BY A PARTICLE BEAM 审中-公开
标题翻译：用于在颗粒加工过程中保护基材的方法和装置
公开(公告)号：US20140255831A1
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：US14200264
申请日：2014-03-07
申请人： Carl Zeiss SMS GmbH
发明人： Thorsten Hofmann , Tristan Bret , Petra Spies , Nicole Auth , Michael Budach , Dajana Cujas
IPC分类号： G03F1/72
CPC分类号： G03F1/72
摘要： The invention refers to a method and apparatus for protecting a substrate during a processing by at least one particle beam. The method comprises the following steps: (a) applying a locally restrict limited protection layer on the substrate; (b) etching the substrate and/or a layer arranged on the substrate by use of the at least one particle beam and at least one gas; and/or (c) depositing material onto the substrate by use of the at least one particle beam and at least one precursor gas; and (d) removing the locally limited protection layer from the substrate.
摘要翻译：本发明涉及用于通过至少一个粒子束在处理期间保护衬底的方法和装置。该方法包括以下步骤：（a）在基板上施加局部限制的有限保护层; （b）通过使用至少一个粒子束和至少一种气体来蚀刻衬底和/或布置在衬底上的层; 和/或（c）通过使用所述至少一个粒子束和至少一种前体气体将材料沉积到所述衬底上; 和（d）从衬底去除局部限制的保护层。

62. 发明授权

US08769709B2 Apparatus and method for analyzing and modifying a specimen surface 有权
标题翻译：用于分析和修改试样表面的装置和方法
公开(公告)号：US08769709B2
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：US13954617
申请日：2013-07-30
申请人： Carl Zeiss SMS GmbH
发明人： Christof Baur , Klaus Edinger , Thorsten Hofmann , Gabriel Baralia
IPC分类号： G01Q10/00
CPC分类号： G01Q10/00 , G01Q70/06 , G01Q80/00 , G03F1/72 , G03F1/82
摘要： The invention refers to a probe assembly for a scanning probe microscope which comprises at least one first probe-adapted for analyzing a specimen, at least one second probe adapted for modifying the specimen and at least one motion element associated with the probe assembly and adapted for scanning one of the probes being in a working position across a surface of the specimen so that the at least one first probe interacts with the specimen whereas the at least one second probe is in a neutral position in which it does not interact with the specimen and to bring the at least one second probe into a position so that the at least one second probe can modify a region of the specimen analyzed with the at least one first probe.
摘要翻译：本发明涉及一种用于扫描探针显微镜的探针组件，其包括至少一个适用于分析样本的第一探针，至少一个适于修改样本的第二探针和与该探针组件相关联的至少一个运动元件，扫描探针中的一个位于穿过试样的表面的工作位置，使得至少一个第一探针与试样相互作用，而至少一个第二探针处于其不与试样相互作用的中性位置，以使至少一个第二探针进入位置，使得至少一个第二探针可以修改用至少一个第一探针分析的样本的区域。

63. 发明申请

US20140007306A1 APPARATUS AND METHOD FOR ANALYZING AND MODIFYING A SPECIMEN SURFACE 有权
标题翻译：用于分析和修改样本表面的装置和方法
公开(公告)号：US20140007306A1
公开(公告)日：2014-01-02
申请号：US13954617
申请日：2013-07-30
申请人： Carl Zeiss SMS GmbH
发明人： Christof Baur , Klaus Edinger , Thorsten Hofmann , Gabriel Baralia
IPC分类号： G01Q10/00
CPC分类号： G01Q10/00 , G01Q70/06 , G01Q80/00 , G03F1/72 , G03F1/82
摘要： The invention refers to a probe assembly for a scanning probe microscope which comprises at least one first probe-adapted for analyzing a specimen, at least one second probe adapted for modifying the specimen and at least one motion element associated with the probe assembly and adapted for scanning one of the probes being in a working position across a surface of the specimen so that the at least one first probe interacts with the specimen whereas the at least one second probe is in a neutral position in which it does not interact with the specimen and to bring the at least one second probe into a position so that the at least one second probe can modify a region of the specimen analyzed with the at least one first probe.
摘要翻译：本发明涉及一种用于扫描探针显微镜的探针组件，其包括至少一个适用于分析样本的第一探针，至少一个适于修改样本的第二探针和与该探针组件相关联的至少一个运动元件，扫描探针中的一个位于穿过试样的表面的工作位置，使得至少一个第一探针与试样相互作用，而至少一个第二探针处于其不与试样相互作用的中性位置，以使至少一个第二探针进入位置，使得至少一个第二探针可以修改用至少一个第一探针分析的样本的区域。

64. 发明申请

US20130321609A1 MICROSCOPE AND METHOD FOR CHARACTERIZING STRUCTURES ON AN OBJECT 有权
标题翻译：用于表征对象结构的微观方法和方法
公开(公告)号：US20130321609A1
公开(公告)日：2013-12-05
申请号：US13908192
申请日：2013-06-03
申请人： Carl Zeiss AG , Carl Zeiss SMS GmbH
发明人： Holger Seitz , Thomas Frank , Thomas Trautzsch , Norbert Kerwien
IPC分类号： G02B21/00 , G02B21/36
CPC分类号： G02B21/0016 , G02B21/06 , G02B21/361 , G02B21/364 , G02B21/365
摘要： A microscope includes an illumination unit for illuminating a mask at a predetermined non-axial illumination angle, an imaging unit for imaging an aerial image of the mask within a predetermined defocus region, and an imaging field stop, in which as a result of the lateral displacement of the aerial image depending on the position within the defocus region and on the non-axial illumination angle, the opening of the imaging field stop is dimensioned such that the aerial image is either completely encompassed or circumferentially cut within the defocus region.A method for characterizing a mask having a structure includes illuminating the mask at at least one illumination angle using monochromatic illumination radiation such that a diffraction image of the structure is created, recording the diffraction image, establishing the intensities of the maxima of the adjacent orders of diffraction, and establishing an intensity ratio of the intensities.
摘要翻译：显微镜包括用于以预定的非轴向照明角度照射掩模的照明单元，用于在预定的散焦区域内对掩模的空间图像进行成像的成像单元和成像场停止，其中作为横向取决于散焦区域内的位置和非轴向照射角度的空间图像的位移，成像场停止件的开口的尺寸被设计成使得空间图像在散焦区域内完全包围或周向切割。用于表征具有结构的掩模的方法包括：使用单色照射辐射以至少一个照明角度照射掩模，使得产生该结构的衍射图像，记录衍射图像，建立相邻阶数的最大值的强度衍射，并建立强度的强度比。

65. 发明申请

US20130293962A1 IRRADIATION MODULE FOR A MEASURING APPARATUS 有权
标题翻译：用于测量装置的辐射模块
公开(公告)号：US20130293962A1
公开(公告)日：2013-11-07
申请号：US13872356
申请日：2013-04-29
申请人： CARL-ZEISS SMS GMBH
发明人： Dietmar Schnier
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/18
CPC分类号： G03F7/70133 , G02B5/1861 , G03F1/84 , G03F7/70775
摘要： An irradiation module for a measuring apparatus is provided. The irradiation module is light-conductive, is configured as a cohesive body and comprises a beam-splitting surface arranged within the irradiation module for splitting an incoming measuring beam into two partial beams. Furthermore, the irradiation module comprises an optical diffraction grating for interaction with a first of the two partial beams and a reflection surface for reflecting the second partial beam.
摘要翻译：提供了一种用于测量装置的照射模块。照射模块是导光的，被构造为内聚体，并且包括布置在照射模块内的分束表面，用于将进入的测量光束分成两个部分光束。此外，照射模块包括用于与两个部分光束中的第一个相互作用的光学衍射光栅和用于反射第二部分光束的反射表面。

66. 发明申请

WO2011012267A1 VERGRÖSSERNDE ABBILDENDE OPTIK SOWIE METROLOGIESYSTEM MIT EINER DERARTIGEN ABBILDENDEN OPTIK 审中-公开
标题翻译：与这样的成像光学器件放大成像光学和测量系统
公开(公告)号：WO2011012267A1
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：PCT/EP2010/004519
申请日：2010-07-23
申请人： Carl Zeiss SMS GmbH , MANN, Hans-Jürgen
发明人： MANN, Hans-Jürgen
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G02B5/08 , F21V7/00 , G02B17/0663 , G03F7/70233
摘要： Eine vergrößernde abbildende Optik (1) hat mindestens vier Spiegel (M1 bis M4), die ein Objektfeld (2) in einer Objektebene (3) in ein Bildfeld (4) in einer Bildebene (5) abbilden. Ein Betrag des Petzvalradius des Bildfeldes (4) ist größer als 500 mm. Es resultiert eine abbildende Optik, bei der eine Inspektion auch größerer Maskenabschnitte von Lithographiemasken, die bei der Projektionsbelichtung zur Herstellung hochintegrierter Halbleiterbauteile eingesetzt werden, mit ausreichender Abbildungsqualität möglich ist.
摘要翻译：的放大成像光学系统（1）具有至少四个反射镜（M1至M4），其在图像平面（5）跟踪对象字段（2）中的对象平面（3）成图像场（4）。像场（4）的佩兹伐半径的量是大于500毫米。其结果是成像光学系统，其中光刻掩模，其在投影曝光于高度集成的半导体部件的制造中使用的即使是大掩模部分的检查，可以以足够的图像质量。

67. 发明申请

WO2011012266A1 VERGRÖSSERNDE ABBILDENDE OPTIK SOWIE METROLOGIESYSTEM MIT EINER DERARTIGEN ABBILDENDEN OPTIK 审中-公开
标题翻译：与这样的成像光学器件放大成像光学和测量系统
公开(公告)号：WO2011012266A1
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：PCT/EP2010/004518
申请日：2010-07-23
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , MANN, Hans-Jürgen
发明人： MANN, Hans-Jürgen
IPC分类号： G02B21/00 , G03F7/20 , G02B17/06
CPC分类号： G02B17/0657 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/24 , G03F1/84 , G21K7/00
摘要： Eine vergrößernde abbildende Optik (1) hat mindestens vier Spiegel (M1 bis M4), die ein Objektfeld (2) in einer Objektebene (3) in ein Bildfeld (4) in einer Bildebene (5) abbilden. Ein Verhältnis T/ß aus einer Baulänge (T) einerseits und einem Abbildungsmaßstab (ß) andererseits ist kleiner als 4,9 mm. Es resultiert eine vergrößernde abbildende Optik, deren Handhabbarkeit insbesondere beim Einsatz in einem Metrologiesystem verbessert ist.
摘要翻译：的放大成像光学系统（1）具有至少四个反射镜（M1至M4），其在图像平面（5）跟踪对象字段（2）中的对象平面（3）成图像场（4）。从一方面的长度（T）和在另一方面的成像比例（SS）的比率T / SS比4.9毫米小。这给出了一个放大的成像光学系统，其可操作性在计量系统中使用时得到改善，特别是。

68. 发明申请

WO2011012265A1 DETERMINATION OF THE RELATIVE POSITION OF TWO STRUCTURES 审中-公开
标题翻译：确定两个结构的相对位置
公开(公告)号：WO2011012265A1
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：PCT/EP2010/004517
申请日：2010-07-23
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , ARNZ, Michael , SEIDEL, Dirk
发明人： ARNZ, Michael , SEIDEL, Dirk
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/00
CPC分类号： G03F7/70633 , G03F7/70625
摘要： A method is provided for determining the position of a first structure (8a) relative to a second structure (8b) or a part thereof, said method having the steps of: a) providing a first picture (Fl) having a multiplicity of pixels and which contains the first structure, b) providing a second picture (F2) having a multiplicity of pixels and which contains the second structure, c) forming an optimization function with the displacement of the two pictures relative to one another as parameter, the optimization function overlying the two pictures and masking the overlay such that in a determination of an extreme value of the optimization function a contribution is made only by the region of the overlay that corresponds to the second structure or the part thereof, d) ascertaining the extreme value of the optimization function and determining the optimal value of the displacement based on the extreme value of the optimization function, and e) determining the position of the first structure relative to the second structure or a part thereof with the optimal displacement value ascertained in step d).
摘要翻译：提供一种用于确定第一结构（8a）相对于第二结构（8b）或其一部分的位置的方法，所述方法具有以下步骤：a）提供具有多个像素的第一图像（F1）和其包含第一结构，b）提供具有多个像素并且包含第二结构的第二图像（F2），c）形成具有两个图像相对于彼此的位移的优化函数作为参数，优化函数覆盖两个图片并掩盖覆盖层，使得在确定优化函数的极值时，仅通过对应于第二结构或其部分的覆盖区域进行贡献，d）确定最优值优化函数，并根据优化函数的极值确定位移的最优值，以及e）确定第一结构关系的位置具有在步骤d）中确定的最佳位移值的第二结构或其一部分。

69. 发明申请

WO2010124791A1 METHOD AND CALIBRATION MASK FOR CALIBRATING A POSITION MEASURING APPARATUS 审中-公开
标题翻译：用于校准位置测量装置的方法和校准面板
公开(公告)号：WO2010124791A1
公开(公告)日：2010-11-04
申请号：PCT/EP2010/002236
申请日：2010-04-10
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , KERWIEN, Norbert , HETZLER, Jochen
发明人： KERWIEN, Norbert , HETZLER, Jochen
IPC分类号： G03F1/14 , G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7019 , G03F1/42 , G03F7/70516 , G03F9/7011
摘要： A method for calibrating an apparatus (10) for the position measurement of measurement structures (14) on a lithography mask (12) comprises the following steps: qualifying a calibration mask (40) comprising diffractive structures (42) arranged thereon by determining positions of the diffractive structures (42) with respect to one another by means of interferometric measurement, determining positions of measurement structures (14) arranged on the calibration mask (40) with respect to one another by means of the apparatus, and calibrating the apparatus (10) by means of the positions determined for the measurement structures (14) and also the positions determined for the diffractive structures (42).
摘要翻译：一种用于校准用于光刻掩模（12）上的测量结构（14）的位置测量的装置（10）的方法包括以下步骤：通过确定位于所述光刻掩模（12）上的位置来确定包括衍射结构（42）的校准掩模（40）通过干涉测量相对于彼此的衍射结构（42），通过所述装置确定布置在校准掩模（40）上的测量结构（14）的位置，并校准装置（10））通过为测量结构（14）确定的位置以及为衍射结构（42）确定的位置。

70. 发明申请

WO2009127368A1 METHOD FOR ANALYZING MASKS FOR PHOTOLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：用于分析胶片的方法
公开(公告)号：WO2009127368A1
公开(公告)日：2009-10-22
申请号：PCT/EP2009/002668
申请日：2009-04-09
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , STROESSNER, Ulrich , SCHERUEBL, Thomas
发明人： STROESSNER, Ulrich , SCHERUEBL, Thomas
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70666 , G03F7/705 , G03F7/70608
摘要： The invention relates to a method for analyzing masks for photolithography. In this method, an aerial image of the mask for a first focus setting is generated and stored in an aerial image data record. The aerial image data record is transferred to an algorithm that simulates a photolithographic wafer exposure on the basis of this data record. In this case, the simulation is carried out for a plurality of mutually different energy doses. Then, at a predetermined height from the wafer surface, contours which separate regions with photoresist from those regions without photoresist are in each case determined. The result, that is to say the contours, are stored for each of the energy doses in each case in a contour data record with the energy dose as a parameter. Finally, the contour data records are combined to form a three-dimensional multicontour data record with the reciprocal of the energy dose as a third dimension, and, on the basis of the transitions from zero to values different than zero in the contours, a three-dimensional profile of the reciprocal of the energy dose depending on the position on the mask is generated. This profile, the so-called effective aerial image, is output or stored or automatically evaluated. The same can also occur with sections through said profile.
摘要翻译：本发明涉及一种用于分析光刻掩模的方法。在该方法中，生成用于第一焦点设置的掩模的空间图像并将其存储在空中图像数据记录中。将空间图像数据记录转移到基于该数据记录模拟光刻晶片曝光的算法。在这种情况下，对多个相互不同的能量剂量进行模拟。然后，在距离晶片表面的预定高度处，分别确定了与光致抗蚀剂区域分开的区域。在能量剂量作为参数的轮廓数据记录中，在每种情况下，为每个能量剂量存储结果，也就是说轮廓。最后，轮廓数据记录被组合以形成具有作为第三维度的能量剂量的倒数的三维多轨道数据记录，并且基于在轮廓中从零到不同于零的值的过渡，三产生根据掩模上的位置的能量剂量的倒数的三维轮廓。该配置文件，即所谓的有效航空图像，被输出或存储或自动评估。通过所述剖面也可能发生同样的情况。

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