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41. 发明专利

TW200719102A 雷射光.紫外光照射周邊曝光裝置及其方法(一) 失效
简体标题：激光光.紫外光照射周边曝光设备及其方法(一)
公开(公告)号：TW200719102A
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：TW095137694
申请日：2006-10-13
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人： 持晴康 , 佐藤博明 , 池田泰人 , 森昌人
IPC分类号： G03F , H01L
摘要：【課題】提供一種雷射光、紫外光照射周邊曝光裝置,將一個台座的移動速度決定成適當的速度。【解決手段】雷射光、紫外光照射周邊曝光裝置包括保持基板的台座(2)、以相對於保持在該台座上的基板面正交的垂直線的垂直旋轉的旋轉方向、沿上述移動路徑的直線方向以及與上述直線方向正交的正交方向上移動上述台座的移動搬運機構(3)、於該移動搬運機構的移動路徑上設於基板的上方的位置並照射雷射光的雷射光單元(5)、從照射口照射包含紫外光的光線至周邊區域的紫外光照射單元(9)、以及配合一第一速度或一第二速度其中之一而控制上述移動搬運機構的控制裝置(20),該第一速度為在照射雷射光時使台座移動的速度,該第二速度為照射包含紫外光的光線時使台座移動的速度。
简体摘要：【课题】提供一种激光光、紫外光照射周边曝光设备,将一个台座的移动速度决定成适当的速度。【解决手段】激光光、紫外光照射周边曝光设备包括保持基板的台座(2)、以相对于保持在该台座上的基板面正交的垂直线的垂直旋转的旋转方向、沿上述移动路径的直线方向以及与上述直线方向正交的正交方向上移动上述台座的移动搬运机构(3)、于该移动搬运机构的移动路径上设于基板的上方的位置并照射激光光的激光光单元(5)、从照射口照射包含紫外光的光线至周边区域的紫外光照射单元(9)、以及配合一第一速度或一第二速度其中之一而控制上述移动搬运机构的控制设备(20),该第一速度为在照射激光光时使台座移动的速度,该第二速度为照射包含紫外光的光线时使台座移动的速度。

42. 发明专利

TW200538857A 曝光裝置审中-公开
简体标题：曝光设备
公开(公告)号：TW200538857A
公开(公告)日：2005-12-01
申请号：TW094104288
申请日：2005-02-15
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：水口信一郎 , 伊勢勝
IPC分类号： G03B , G03F
摘要：一種曝光裝置，用簡易的構造防止感光性樹脂的揮發物質造成複眼透鏡表面的污染。〔解決手段〕一種曝光裝置，具備一具有光源21、反射鏡41及複眼透鏡42的光源室2，以及一經由區隔板6與該光源室2做區隔的曝光室3，其特徵為包括：一收納上述複眼透鏡42的框體7以及一將冷卻風送至收納於上述框體7內的複眼透鏡42的調溫單元51。上述框體7具有形成於對應來自上述光源21的照射光的上述複眼透鏡42的入射光路及出射光路的位置上形成的開口部71、72、形成於與該開口部71、72的開口方向正交的位置上的給氣口73、以及形成於面向該給氣口73的位置上的排氣口74，在上述區隔板6上，在對應於上述照射光之光路的位置上，設有使上述照射光穿透的透光元件61。
简体摘要：一种曝光设备，用简易的构造防止感光性树脂的挥发物质造成复眼透镜表面的污染。〔解决手段〕一种曝光设备，具备一具有光源21、反射镜41及复眼透镜42的光源室2，以及一经由区隔板6与该光源室2做区隔的曝光室3，其特征为包括：一收纳上述复眼透镜42的框体7以及一将冷却风送至收纳于上述框体7内的复眼透镜42的调温单元51。上述框体7具有形成于对应来自上述光源21的照射光的上述复眼透镜42的入射光路及出射光路的位置上形成的开口部71、72、形成于与该开口部71、72的开口方向正交的位置上的给气口73、以及形成于面向该给气口73的位置上的排气口74，在上述区隔板6上，在对应于上述照射光之光路的位置上，设有使上述照射光穿透的透光组件61。

43. 发明专利

TWI239549B 短弧放電燈以及光源裝置 SHORT ARE ELECTRIC DISCHARGE LAMP AND LIGHT SOURCE EQUIPMENT 失效
简体标题：短弧放电灯以及光源设备 SHORT ARE ELECTRIC DISCHARGE LAMP AND LIGHT SOURCE EQUIPMENT
公开(公告)号：TWI239549B
公开(公告)日：2005-09-11
申请号：TW092102767
申请日：2003-02-11
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：橫井 MINORU YOKOI , 宮澤正明 MASAAKI MIYAZAWA , 桑宏 HIROSHI KUWABATA , 藤森昭芳 AKIYOSHI FUJIMORI
IPC分类号： H01J , F21S , F21V
CPC分类号： H01J61/523
摘要：一種放電燈不會因放電燈不良連接方向之位置而缺乏冷卻空氣，以及一固定材料包括於金屬蓋，使不正確的燈具之極性連接、損壞、破裂可以被改善，再者，一光源裝置包括放電燈連接至一燈具，在燈具伴隨著高光利用之放電燈其冷卻能力並無需增加，進而可使得裝置的尺寸可減小以達到較小的用電量。一短弧放電燈1包括：一金屬蓋固定部14，設置於放電燈1之金屬蓋11的尾端；一位置連接部，設置於至少一金屬蓋固定部14的圓周；以及複數個開孔11a和11b，以不相對的方式設置於金屬蓋11的側面。
简体摘要：一种放电灯不会因放电灯不良连接方向之位置而缺乏冷却空气，以及一固定材料包括于金属盖，使不正确的灯具之极性连接、损坏、破裂可以被改善，再者，一光源设备包括放电灯连接至一灯具，在灯具伴随着高光利用之放电灯其冷却能力并无需增加，进而可使得设备的尺寸可减小以达到较小的用电量。一短弧放电灯1包括：一金属盖固定部14，设置于放电灯1之金属盖11的尾端；一位置连接部，设置于至少一金属盖固定部14的圆周；以及复数个开孔11a和11b，以不相对的方式设置于金属盖11的侧面。

44. 发明专利

TW200928604A 繪圖裝置及繪圖方法审中-公开
简体标题：绘图设备及绘图方法
公开(公告)号：TW200928604A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：TW097136864
申请日：2008-09-25
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：奧山隆志 TAKASHI OKUYAMA
IPC分类号： G03F , G02B , H01L
摘要：由簡單的構造提高繪圖處理速度的同時形成高精度的圖案。在DMD中規定出6個部分調變區域D1-D6,根據對應於一個部分調變區域的寬度的曝光間距RS而進行step & repeat多重曝光動作。在各曝光動作中,根據光柵(raster)資料(繪圖資料)而設定控制微面鏡的曝光ON區域MON,將部分調變區域的微面鏡全體設定為OFF狀態的曝光OFF區域MOFF。由位於曝光ON區域MON的部分調變區域的微面鏡使光線照射至基板SW。而且,在每次曝光動作時更新構成曝光ON區域MON、曝光OFF區域MOFF的部分調變區域的組合,變更曝光ON區域MON、曝光OFF區域MOFF而使曝光ON區域MON循環移動。
简体摘要：由简单的构造提高绘图处理速度的同时形成高精度的图案。在DMD中规定出6个部分调制区域D1-D6,根据对应于一个部分调制区域的宽度的曝光间距RS而进行step & repeat多重曝光动作。在各曝光动作中,根据光栅(raster)数据(绘图数据)而设置控制微面镜的曝光ON区域MON,将部分调制区域的微面镜全体设置为OFF状态的曝光OFF区域MOFF。由位于曝光ON区域MON的部分调制区域的微面镜使光线照射至基板SW。而且,在每次曝光动作时更新构成曝光ON区域MON、曝光OFF区域MOFF的部分调制区域的组合,变更曝光ON区域MON、曝光OFF区域MOFF而使曝光ON区域MON循环移动。

45. 发明专利

TW200903186A 繪圖裝置审中-公开
简体标题：绘图设备
公开(公告)号：TW200903186A
公开(公告)日：2009-01-16
申请号：TW097114853
申请日：2008-04-23
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：清水修一 SHIMIZU, SHUICHI , 松田政昭 MATSUDA, MASAAKI , 森田亮 MORITA, AKIRA
IPC分类号： G03F , G03B
摘要：使清淨滾輪接觸工作台上之工件之表面時,防止因為清淨滾輪接觸工件而發生的在工作台上之工件的偏離或剝離。形成於繪圖工作台13表面之多數抽引口,通過抽引管V,由分別所對應之抽引泵P進行抽引。利用壓力檢測器S檢測該抽引管V內之真空度。繪圖工作台驅動馬達18,係可使繪圖工作台13往復移動於從待機位置至超過由繪圖光學系之繪圖位置的位置。清淨單元上下移動驅動用氣缸43,使清淨滾輪49於機械手5及繪圖光學系之間,相對於繪圖工作台13進行上下移動。控制部6,只有在由壓力檢測器S檢測到之真空度超過特定値時,相對於清淨單元上下移動驅動用氣缸43,使該清淨滾輪49下降並接觸於繪圖工作台13,並在該狀態下,來讓該繪圖工作台移動。
简体摘要：使清净滚轮接触工作台上之工件之表面时,防止因为清净滚轮接触工件而发生的在工作台上之工件的偏离或剥离。形成于绘图工作台13表面之多数抽引口,通过抽引管V,由分别所对应之抽引泵P进行抽引。利用压力检测器S检测该抽引管V内之真空度。绘图工作台驱动马达18,系可使绘图工作台13往复移动于从待机位置至超过由绘图光学系之绘图位置的位置。清净单元上下移动驱动用气缸43,使清净滚轮49于机械手5及绘图光学系之间,相对于绘图工作台13进行上下移动。控制部6,只有在由压力检测器S检测到之真空度超过特定値时,相对于清净单元上下移动驱动用气缸43,使该清净滚轮49下降并接触于绘图工作台13,并在该状态下,来让该绘图工作台移动。

46. 发明专利

TW200900875A 繪圖裝置审中-公开
简体标题：绘图设备
公开(公告)号：TW200900875A
公开(公告)日：2009-01-01
申请号：TW097112775
申请日：2008-04-09
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：奧山隆志
IPC分类号： G03F , G02B
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/70275
摘要：【【課題】】在增加使用DMD元件的繪圖速度而提高生產性的情形中,縮短DMD元件的微型反射鏡的切換時間而提高生產性。【【解決方式】】繪圖裝置(100)係包括:DMD元件(41),具有陣列狀配置的複數個微型反射鏡M;光源(10),對於微型反射鏡M供給曝光光線;偏壓電壓控制部(83),施加使微型反射鏡M設定於第一狀態的第一電壓,使曝光光線朝被曝光面(CB)導引,且施加使反射元件設定於第二狀態的零電壓,曝光光線不到達被曝光面。
简体摘要：【【课题】】在增加使用DMD组件的绘图速度而提高生产性的情形中,缩短DMD组件的微型反射镜的切换时间而提高生产性。【【解决方式】】绘图设备(100)系包括:DMD组件(41),具有数组状配置的复数个微型反射镜M;光源(10),对于微型反射镜M供给曝光光线;偏压电压控制部(83),施加使微型反射镜M设置于第一状态的第一电压,使曝光光线朝被曝光面(CB)导引,且施加使反射组件设置于第二状态的零电压,曝光光线不到达被曝光面。

47. 发明专利

TW200846267A 基板搬運裝置审中-公开
简体标题：基板搬运设备
公开(公告)号：TW200846267A
公开(公告)日：2008-12-01
申请号：TW097114611
申请日：2008-04-22
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：水口信一郎 SHINICHIRO MIZUGUCHI , 石田肇 HAJIME ISHIDA , 松田政昭 MASAAKI MATSUDA
IPC分类号： B65H , H05K , G03F , B65G
摘要：【【課題】】提供一種基板搬運裝置,不用將基板的預備位置決定機構設置於搬入台、曝光台,卻可在搬運至曝光台之前進行基板的預備位置決定,且銷的設置位置調整也簡化作為課題。【【解決方式】】基板搬運裝置包括:預備位置決定機構2,押動上述搬入台30上的基板W的端面,進行預備位置決定;以及搬運機構20,將此預備位置決定機構藉由支持本體12支持,且將預備位置決定完成的的基板吸著保持而搬運至上述曝光台40;其中上述預備位置決定機構係,具有被支持在上述支持本體的驅動裝置6、以及藉由此驅動裝置驅動而押動上述基板的端面的押動裝置3;上述驅動裝置係,具有圓筒形的磁性軸體7、使此磁性軸體在軸周圍轉動的轉動裝置8、以及與藉由此轉動裝置轉動的磁性軸體的周面相對而設置的直線狀的第一縱長磁性體9A和第二縱長磁性體9B。
简体摘要：【【课题】】提供一种基板搬运设备,不用将基板的预备位置决定机构设置于搬入台、曝光台,却可在搬运至曝光台之前进行基板的预备位置决定,且销的设置位置调整也简化作为课题。【【解决方式】】基板搬运设备包括:预备位置决定机构2,押动上述搬入台30上的基板W的端面,进行预备位置决定;以及搬运机构20,将此预备位置决定机构借由支持本体12支持,且将预备位置决定完成的的基板吸着保持而搬运至上述曝光台40;其中上述预备位置决定机构系,具有被支持在上述支持本体的驱动设备6、以及借由此驱动设备驱动而押动上述基板的端面的押动设备3;上述驱动设备系,具有圆筒形的磁性轴体7、使此磁性轴体在轴周围转动的转动设备8、以及与借由此转动设备转动的磁性轴体的周面相对而设置的直线状的第一纵长磁性体9A和第二纵长磁性体9B。

48. 发明专利

TW200842513A 曝光描圖裝置审中-公开
简体标题：曝光描图设备
公开(公告)号：TW200842513A
公开(公告)日：2008-11-01
申请号：TW097102455
申请日：2008-01-23
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：李德 DUK LEE , 石川淳 JUN ISHIKAWA
IPC分类号： G03F , G02B
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/7005 , G03F7/70208 , G03F7/70275 , G03F7/70291
摘要：【【課題】】提供一種曝光繪圖裝置,在確保高運轉率的同時,以簡易的照明光學系統分離成複數個光束。【【解決方式】】曝光繪圖裝置(100)係包括:光源(10),照射紫外線;照明光學系統(30),將來自光源的光束成形為平行光;有孔構件(20、120),被配置於來自照明光學系統的平行光中,具有分離成第一光束和第二光束的第一窗及第二窗;第一導光裝置及第二導光裝置(37-1~37-8、137-1~137-8),導引在有孔構件被分離的平行光的第一光束及第二光束;第一及第二空間光調變裝置(41),將在第一導光裝置及第二導光裝置被導引的第一光束及第二光束做空間調變;以及第一及第二投影光學系統(60),將在這些第一及第二空間光調變裝置被空間調變的第一光束和第二光束導引至被曝光體。
简体摘要：【【课题】】提供一种曝光绘图设备,在确保高运转率的同时,以简易的照明光学系统分离成复数个光束。【【解决方式】】曝光绘图设备(100)系包括:光源(10),照射紫外线;照明光学系统(30),将来自光源的光束成形为平行光;有孔构件(20、120),被配置于来自照明光学系统的平行光中,具有分离成第一光束和第二光束的第一窗及第二窗;第一导光设备及第二导光设备(37-1~37-8、137-1~137-8),导引在有孔构件被分离的平行光的第一光束及第二光束;第一及第二空间光调制设备(41),将在第一导光设备及第二导光设备被导引的第一光束及第二光束做空间调制;以及第一及第二投影光学系统(60),将在这些第一及第二空间光调制设备被空间调制的第一光束和第二光束导引至被曝光体。

49. 发明专利

TW200830061A 曝光資料產生裝置 EXPOSURE DATA GENERATING APPARATUS 审中-公开
简体标题：曝光数据产生设备 EXPOSURE DATA GENERATING APPARATUS
公开(公告)号：TW200830061A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：TW096144749
申请日：2007-11-26
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：奧山隆志 TAKASHI OKUYAMA
IPC分类号： G03F , H05K
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70508
摘要：一種曝光資料產生裝置,其包含有一第一記憶,一第二記憶,與一曝光資料記憶。第一記憶以位元映對格式將繪圖資料儲存作為供曝光用之第一資料。第二記憶儲存第二資料,其在行方向上資料單位依據第一資料而被轉換為每一胞之資訊之一解析度單位。曝光資料記憶儲存曝光資料,其係為於每一行單元上利用第三資料的叢發傳輸所獲得的光域資料。第二資料被重新安排並轉換成為該第三資料,而在行方向上第二資料的每一胞之資料的安排被改變為一列方向。該胞構成了依據曝光資料而執行曝光的一數位微型鏡裝置的一個顯示單元。
简体摘要：一种曝光数据产生设备,其包含有一第一记忆,一第二记忆,与一曝光数据记忆。第一记忆以比特映对格式将绘图数据存储作为供曝光用之第一数据。第二记忆存储第二数据,其在行方向上数据单位依据第一数据而被转换为每一胞之信息之一分辨率单位。曝光数据记忆存储曝光数据,其系为于每一行单元上利用第三数据的丛发传输所获得的光域数据。第二数据被重新安排并转换成为该第三数据,而在行方向上第二数据的每一胞之数据的安排被改变为一列方向。该胞构成了依据曝光数据而运行曝光的一数码微型镜设备的一个显示单元。

50. 发明专利

TW200805006A 基板曝光裝置及基板曝光方法审中-公开
简体标题：基板曝光设备及基板曝光方法
公开(公告)号：TW200805006A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：TW096104086
申请日：2007-02-05
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：田端秀敏
IPC分类号： G03F , G01B
摘要：【【課題】】本發明提供出一種基板的曝光裝置與曝光方法,推定基板的端面而不需要給予負荷而預定位的機構,對大型且薄的基板進行高精度的曝光。【【解決手段】】基板的曝光裝置包括一曝光用光學系22;一曝光台l6;一燒框19,經由透光板支持光罩;一第一攝影裝置27,對各整合標記M1、M2做攝影;一第二攝影裝置23,通過上述透光板,對上述基板的至少二邊做攝影;一該第二攝影裝置用的照明裝置;以及一控制裝置25,經由該照明裝置及上述第二攝影裝置而解析所拍攝的影像,為了使上述基板與上述光罩的各整合標記24進入上述第一攝影裝置的視野內,而控制上述曝光台使上述基板進行預定位,同時解析由上述第一攝影裝置所拍攝的影像,控制上述曝光台而整合上述基板的整合標記與上述光罩的整合標記。
简体摘要：【【课题】】本发明提供出一种基板的曝光设备与曝光方法,推定基板的端面而不需要给予负荷而预定位的机构,对大型且薄的基板进行高精度的曝光。【【解决手段】】基板的曝光设备包括一曝光用光学系22;一曝光台l6;一烧框19,经由透光板支持光罩;一第一摄影设备27,对各集成标记M1、M2做摄影;一第二摄影设备23,通过上述透光板,对上述基板的至少二边做摄影;一该第二摄影设备用的照明设备;以及一控制设备25,经由该照明设备及上述第二摄影设备而解析所拍摄的影像,为了使上述基板与上述光罩的各集成标记24进入上述第一摄影设备的视野内,而控制上述曝光台使上述基板进行预定位,同时解析由上述第一摄影设备所拍摄的影像,控制上述曝光台而集成上述基板的集成标记与上述光罩的集成标记。

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