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1. 发明专利

TW200719094A 雷射光.紫外光照射周邊曝光裝置及其方法(二) 失效
简体标题：激光光.紫外光照射周边曝光设备及其方法(二)
公开(公告)号：TW200719094A
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：TW095137696
申请日：2006-10-13
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人： 持晴康 , 佐藤博明 , 池田泰人 , 森昌人
IPC分类号： G03F , H01L
摘要：【課題】提供一種雷射光、紫外光照射周邊曝光裝置,即使識別標記形成於周邊區域的位置也可對應。【解決手段】本裝置1包括保持基板(W)的台座(2)、攝影裝置(4)、支持台座的移動搬運機構(3)、設於移動搬運機構的移動通路上的雷射光單元(5)、從照射口將包含紫外光的光照射至基板的周邊區域的紫外光照射單元(9)以及根據由上述攝影裝置所取得的影像資料而進行上述基板的整合,控制上述移動搬運機構,使同時進行以雷射光對識別標記做曝光以及以包含紫外光的光線做周邊曝光的控制裝置(20)。
简体摘要：【课题】提供一种激光光、紫外光照射周边曝光设备,即使识别标记形成于周边区域的位置也可对应。【解决手段】本设备1包括保持基板(W)的台座(2)、摄影设备(4)、支持台座的移动搬运机构(3)、设于移动搬运机构的移动通路上的激光光单元(5)、从照射口将包含紫外光的光照射至基板的周边区域的紫外光照射单元(9)以及根据由上述摄影设备所取得的影像数据而进行上述基板的集成,控制上述移动搬运机构,使同时进行以激光光对识别标记做曝光以及以包含紫外光的光线做周边曝光的控制设备(20)。

2. 发明专利

TW200719092A 周邊曝光裝置及其方法(一) 失效
简体标题：周边曝光设备及其方法(一)
公开(公告)号：TW200719092A
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：TW095137669
申请日：2006-10-13
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人： 持晴康 , 佐藤博明 , 池田泰人 , 森昌人
IPC分类号： G03F , H01L
摘要：【課題】提供一種周邊曝光裝置及方法,提生產能並將污染基板表面的原因降至最小。【解決手段】周邊曝光裝置以包含紫外光的光照射基板(W)的周邊區域而曝光,其包括:一紫外光照射單元(9)、一照度量測部(11)以及一照度量測部移動機構。紫外光照射單元係設於基板上方的位置,從形成框體的矩形的照射口(9m)經由照射用透鏡(9e)將包含紫外光的光照射至基板的周邊區域,照度量測部(11)係設於紫外光照射單元,而量測紫外光的照度,照度量測部移動機構係使照度量測部移動至面向紫外光照射單元的照射口的面對位置以及從照射口退出的退避位置。
简体摘要：【课题】提供一种周边曝光设备及方法,提生产能并将污染基板表面的原因降至最小。【解决手段】周边曝光设备以包含紫外光的光照射基板(W)的周边区域而曝光,其包括:一紫外光照射单元(9)、一照度量测部(11)以及一照度量测部移动机构。紫外光照射单元系设于基板上方的位置,从形成框体的矩形的照射口(9m)经由照射用透镜(9e)将包含紫外光的光照射至基板的周边区域,照度量测部(11)系设于紫外光照射单元,而量测紫外光的照度,照度量测部移动机构系使照度量测部移动至面向紫外光照射单元的照射口的面对位置以及从照射口退出的退避位置。

3. 发明专利

TW200719093A 周邊曝光裝置及其方法(二) 审中-公开
简体标题：周边曝光设备及其方法(二)
公开(公告)号：TW200719093A
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：TW095137671
申请日：2006-10-13
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人： 持晴康 , 佐藤博明 , 池田泰人 , 森昌人
IPC分类号： G03F , H01L
摘要：【課題】提供一種周邊曝光裝置及方法,可對應識別標記形成於周邊區域等的位置,將污染基板表面的原因降至最小。【解決手段】周邊曝光裝置包括一紫外光照射單元(9)以及一照射區域調整遮板機構(10)。紫外光照射單元(9)在移動路徑上,從照射口經由照射用透鏡將包含紫外光的光照射至基板的周邊區域,照射區域調整遮板機構(10)係根據基板的移動速度,控制成覆蓋上述照射口(9m)至少一部分而遮蔽識別標記控制。
简体摘要：【课题】提供一种周边曝光设备及方法,可对应识别标记形成于周边区域等的位置,将污染基板表面的原因降至最小。【解决手段】周边曝光设备包括一紫外光照射单元(9)以及一照射区域调整遮板机构(10)。紫外光照射单元(9)在移动路径上,从照射口经由照射用透镜将包含紫外光的光照射至基板的周边区域,照射区域调整遮板机构(10)系根据基板的移动速度,控制成覆盖上述照射口(9m)至少一部分而屏蔽识别标记控制。

4. 发明专利

TW200719102A 雷射光.紫外光照射周邊曝光裝置及其方法(一) 失效
简体标题：激光光.紫外光照射周边曝光设备及其方法(一)
公开(公告)号：TW200719102A
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：TW095137694
申请日：2006-10-13
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人： 持晴康 , 佐藤博明 , 池田泰人 , 森昌人
IPC分类号： G03F , H01L
摘要：【課題】提供一種雷射光、紫外光照射周邊曝光裝置,將一個台座的移動速度決定成適當的速度。【解決手段】雷射光、紫外光照射周邊曝光裝置包括保持基板的台座(2)、以相對於保持在該台座上的基板面正交的垂直線的垂直旋轉的旋轉方向、沿上述移動路徑的直線方向以及與上述直線方向正交的正交方向上移動上述台座的移動搬運機構(3)、於該移動搬運機構的移動路徑上設於基板的上方的位置並照射雷射光的雷射光單元(5)、從照射口照射包含紫外光的光線至周邊區域的紫外光照射單元(9)、以及配合一第一速度或一第二速度其中之一而控制上述移動搬運機構的控制裝置(20),該第一速度為在照射雷射光時使台座移動的速度,該第二速度為照射包含紫外光的光線時使台座移動的速度。
简体摘要：【课题】提供一种激光光、紫外光照射周边曝光设备,将一个台座的移动速度决定成适当的速度。【解决手段】激光光、紫外光照射周边曝光设备包括保持基板的台座(2)、以相对于保持在该台座上的基板面正交的垂直线的垂直旋转的旋转方向、沿上述移动路径的直线方向以及与上述直线方向正交的正交方向上移动上述台座的移动搬运机构(3)、于该移动搬运机构的移动路径上设于基板的上方的位置并照射激光光的激光光单元(5)、从照射口照射包含紫外光的光线至周边区域的紫外光照射单元(9)、以及配合一第一速度或一第二速度其中之一而控制上述移动搬运机构的控制设备(20),该第一速度为在照射激光光时使台座移动的速度,该第二速度为照射包含紫外光的光线时使台座移动的速度。

5. 发明专利

TW200719101A 雷射光曝光裝置及其方法失效
简体标题：激光光曝光设备及其方法
公开(公告)号：TW200719101A
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：TW095137692
申请日：2006-10-13
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人： 持晴康 , 佐藤博明 , 池田泰人 , 森昌人
IPC分类号： G03F , H01L
摘要：【課題】提供一種雷射光曝光裝置及方法,識別標記不會變形,又在複數個雷射照射單元中光路長不會不同。【解決手段】雷射曝光裝置(5)包括一光路長調整單元(6)以及複數個雷射照射單元(7)。光路長調整單元(6)調整從雷射光源(5a)至基板的雷射光路長,雷射照射單元(7)在基板的移動路徑上,設於基板的上方,以光路長調整單元調整光路長的雷射光照射基板。
简体摘要：【课题】提供一种激光光曝光设备及方法,识别标记不会变形,又在复数个激光照射单元中光路长不会不同。【解决手段】激光曝光设备(5)包括一光路长调整单元(6)以及复数个激光照射单元(7)。光路长调整单元(6)调整从激光光源(5a)至基板的激光光路长,激光照射单元(7)在基板的移动路径上,设于基板的上方,以光路长调整单元调整光路长的激光光照射基板。

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