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1. 发明专利

TW200823490A 曝光裝置审中-公开
简体标题：曝光设备
公开(公告)号：TW200823490A
公开(公告)日：2008-06-01
申请号：TW096141702
申请日：2007-11-05
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：奧山隆志 TAKASHI OKUYAMA
IPC分类号： G02B , B41J , G03F , H04N
摘要：【【課題】】提供不會將電路構成作為複雜化、考慮藉由DMD被照射的位置而製作曝光資料的裝置。【【解決手段】】曝光裝置1係具備製作基於作為在曝光用中被使用的向量資料的繪製資料而被製作的網格資料的曝光資料的控制部10,且具備被使用在曝光用、具有基於曝光資料被驅動的DMD的曝光部15,並具備具有藉由DMD被照射的繪製區域23,以及位置檢測部22的繪製部20,其中位置檢測部22具有PD群,其具有檢測出有關於藉由DMD被照射的位置的情報的發光二極體。控制部10係考慮有關於藉由位置檢測部22而被檢測出的位置的情報,製作曝光資料。
简体摘要：【【课题】】提供不会将电路构成作为复杂化、考虑借由DMD被照射的位置而制作曝光数据的设备。【【解决手段】】曝光设备1系具备制作基于作为在曝光用中被使用的矢量数据的绘制数据而被制作的网格数据的曝光数据的控制部10,且具备被使用在曝光用、具有基于曝光数据被驱动的DMD的曝光部15,并具备具有借由DMD被照射的绘制区域23,以及位置检测部22的绘制部20,其中位置检测部22具有PD群,其具有检测出有关于借由DMD被照射的位置的情报的发光二极管。控制部10系考虑有关于借由位置检测部22而被检测出的位置的情报,制作曝光数据。

2. 发明专利

TW200907602A 光微影系統 PHOTOLITHOGRAPHY SYSTEM 审中-公开
简体标题：光微影系统 PHOTOLITHOGRAPHY SYSTEM
公开(公告)号：TW200907602A
公开(公告)日：2009-02-16
申请号：TW097130030
申请日：2008-08-07
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：奧山隆志 TAKASHI OKUYAMA , 小林義則 YOSHINORI KOBAYASHI
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70508 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/704
摘要：光微影系統包括了至少一空間光調製器、一掃描機構、複數記憶體、一資料處理器與一曝光控制器。至少一空間光調製器包括了規則排列之複數光調製元件。掃描機構係規劃用以相對於一目標物件而沿著一給定掃描方向移動至一曝光區域,曝光區域被定義為空間光調製器之一投影區域。複數記憶體係規劃用以對應於複數空間曝光區域,複數空間曝光區域係經由區分曝光區域而定義,複數記憶體係指定為第一記憶體至第N記憶體。資料處理器係根據一曝光之時序而連續地將曝光資料寫入各記憶體之中。曝光控制器係基於曝光區域之相對位置而控制複數光調製元件。舉例而言,複數記憶體係以串聯方式而彼此相互連接。資料處理器係將最新產生曝光資料寫入第一記憶體且將儲存在第一記憶體至第N-1記憶體中之曝光資料分別轉移至第二記憶體至第N記憶體。
简体摘要：光微影系统包括了至少一空间光调制器、一扫描机构、复数内存、一数据处理器与一曝光控制器。至少一空间光调制器包括了守则排列之复数光调制组件。扫描机构系规划用以相对于一目标对象而沿着一给定扫描方向移动至一曝光区域,曝光区域被定义为空间光调制器之一投影区域。复数内存系规划用以对应于复数空间曝光区域,复数空间曝光区域系经由区分曝光区域而定义,复数内存系指定为第一内存至第N内存。数据处理器系根据一曝光之时序而连续地将曝光数据写入各内存之中。曝光控制器系基于曝光区域之相对位置而控制复数光调制组件。举例而言,复数内存系以串联方式而彼此相互连接。数据处理器系将最新产生曝光数据写入第一内存且将存储在第一内存至第N-1内存中之曝光数据分别转移至第二内存至第N内存。

3. 发明专利

TW200928604A 繪圖裝置及繪圖方法审中-公开
简体标题：绘图设备及绘图方法
公开(公告)号：TW200928604A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：TW097136864
申请日：2008-09-25
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：奧山隆志 TAKASHI OKUYAMA
IPC分类号： G03F , G02B , H01L
摘要：由簡單的構造提高繪圖處理速度的同時形成高精度的圖案。在DMD中規定出6個部分調變區域D1-D6,根據對應於一個部分調變區域的寬度的曝光間距RS而進行step & repeat多重曝光動作。在各曝光動作中,根據光柵(raster)資料(繪圖資料)而設定控制微面鏡的曝光ON區域MON,將部分調變區域的微面鏡全體設定為OFF狀態的曝光OFF區域MOFF。由位於曝光ON區域MON的部分調變區域的微面鏡使光線照射至基板SW。而且,在每次曝光動作時更新構成曝光ON區域MON、曝光OFF區域MOFF的部分調變區域的組合,變更曝光ON區域MON、曝光OFF區域MOFF而使曝光ON區域MON循環移動。
简体摘要：由简单的构造提高绘图处理速度的同时形成高精度的图案。在DMD中规定出6个部分调制区域D1-D6,根据对应于一个部分调制区域的宽度的曝光间距RS而进行step & repeat多重曝光动作。在各曝光动作中,根据光栅(raster)数据(绘图数据)而设置控制微面镜的曝光ON区域MON,将部分调制区域的微面镜全体设置为OFF状态的曝光OFF区域MOFF。由位于曝光ON区域MON的部分调制区域的微面镜使光线照射至基板SW。而且,在每次曝光动作时更新构成曝光ON区域MON、曝光OFF区域MOFF的部分调制区域的组合,变更曝光ON区域MON、曝光OFF区域MOFF而使曝光ON区域MON循环移动。

4. 发明专利

TW200830061A 曝光資料產生裝置 EXPOSURE DATA GENERATING APPARATUS 审中-公开
简体标题：曝光数据产生设备 EXPOSURE DATA GENERATING APPARATUS
公开(公告)号：TW200830061A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：TW096144749
申请日：2007-11-26
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：奧山隆志 TAKASHI OKUYAMA
IPC分类号： G03F , H05K
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70508
摘要：一種曝光資料產生裝置,其包含有一第一記憶,一第二記憶,與一曝光資料記憶。第一記憶以位元映對格式將繪圖資料儲存作為供曝光用之第一資料。第二記憶儲存第二資料,其在行方向上資料單位依據第一資料而被轉換為每一胞之資訊之一解析度單位。曝光資料記憶儲存曝光資料,其係為於每一行單元上利用第三資料的叢發傳輸所獲得的光域資料。第二資料被重新安排並轉換成為該第三資料,而在行方向上第二資料的每一胞之資料的安排被改變為一列方向。該胞構成了依據曝光資料而執行曝光的一數位微型鏡裝置的一個顯示單元。
简体摘要：一种曝光数据产生设备,其包含有一第一记忆,一第二记忆,与一曝光数据记忆。第一记忆以比特映对格式将绘图数据存储作为供曝光用之第一数据。第二记忆存储第二数据,其在行方向上数据单位依据第一数据而被转换为每一胞之信息之一分辨率单位。曝光数据记忆存储曝光数据,其系为于每一行单元上利用第三数据的丛发传输所获得的光域数据。第二数据被重新安排并转换成为该第三数据,而在行方向上第二数据的每一胞之数据的安排被改变为一列方向。该胞构成了依据曝光数据而运行曝光的一数码微型镜设备的一个显示单元。

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