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1. 发明专利

TW200839464A 曝光繪圖裝置审中-公开
简体标题：曝光绘图设备
公开(公告)号：TW200839464A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：TW096148914
申请日：2007-12-20
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：李德 DUK LEE , 山下大輔 DAISUKE YAMASHITA , 松田政昭 MASAAKI MATSUDA , 石川淳 JUN ISHIKAWA
IPC分类号： G03F , G02B
CPC分类号： G02B13/143 , G03F7/70208 , G03F7/70283 , G03F7/70291
摘要：【【課題】】提供一種曝光繪圖裝置,搭載著少數光源和複數個空間光調變元件,確保高的運轉率,且可做溫度管理。【【解決方式】】曝光繪圖裝置(100)係包括:光源(10),照射紫外線;第一照明光學系統(30),使來自光源的光束成行為平行光;有孔構件(20),設有用於將來自第一照明光學系統的光束分離成矩形的第一光束和矩形的第二光束的第一矩形窗(21)及第二矩形窗(21);第一及第二空間光調變裝置(41),將在有孔構件被分離的第一光束及第二光束做空間調變;以及投影光學系統(60),將在這些第一及第二空間光調變裝置(41)被空間調變的第一光束和第二光束導引至被曝光體。
简体摘要：【【课题】】提供一种曝光绘图设备,搭载着少数光源和复数个空间光调制组件,确保高的运转率,且可做温度管理。【【解决方式】】曝光绘图设备(100)系包括:光源(10),照射紫外线;第一照明光学系统(30),使来自光源的光束成行为平行光;有孔构件(20),设有用于将来自第一照明光学系统的光束分离成矩形的第一光束和矩形的第二光束的第一矩形窗(21)及第二矩形窗(21);第一及第二空间光调制设备(41),将在有孔构件被分离的第一光束及第二光束做空间调制;以及投影光学系统(60),将在这些第一及第二空间光调制设备(41)被空间调制的第一光束和第二光束导引至被曝光体。

2. 发明专利

TW200846267A 基板搬運裝置审中-公开
简体标题：基板搬运设备
公开(公告)号：TW200846267A
公开(公告)日：2008-12-01
申请号：TW097114611
申请日：2008-04-22
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：水口信一郎 SHINICHIRO MIZUGUCHI , 石田肇 HAJIME ISHIDA , 松田政昭 MASAAKI MATSUDA
IPC分类号： B65H , H05K , G03F , B65G
摘要：【【課題】】提供一種基板搬運裝置,不用將基板的預備位置決定機構設置於搬入台、曝光台,卻可在搬運至曝光台之前進行基板的預備位置決定,且銷的設置位置調整也簡化作為課題。【【解決方式】】基板搬運裝置包括:預備位置決定機構2,押動上述搬入台30上的基板W的端面,進行預備位置決定;以及搬運機構20,將此預備位置決定機構藉由支持本體12支持,且將預備位置決定完成的的基板吸著保持而搬運至上述曝光台40;其中上述預備位置決定機構係,具有被支持在上述支持本體的驅動裝置6、以及藉由此驅動裝置驅動而押動上述基板的端面的押動裝置3;上述驅動裝置係,具有圓筒形的磁性軸體7、使此磁性軸體在軸周圍轉動的轉動裝置8、以及與藉由此轉動裝置轉動的磁性軸體的周面相對而設置的直線狀的第一縱長磁性體9A和第二縱長磁性體9B。
简体摘要：【【课题】】提供一种基板搬运设备,不用将基板的预备位置决定机构设置于搬入台、曝光台,却可在搬运至曝光台之前进行基板的预备位置决定,且销的设置位置调整也简化作为课题。【【解决方式】】基板搬运设备包括:预备位置决定机构2,押动上述搬入台30上的基板W的端面,进行预备位置决定;以及搬运机构20,将此预备位置决定机构借由支持本体12支持,且将预备位置决定完成的的基板吸着保持而搬运至上述曝光台40;其中上述预备位置决定机构系,具有被支持在上述支持本体的驱动设备6、以及借由此驱动设备驱动而押动上述基板的端面的押动设备3;上述驱动设备系,具有圆筒形的磁性轴体7、使此磁性轴体在轴周围转动的转动设备8、以及与借由此转动设备转动的磁性轴体的周面相对而设置的直线状的第一纵长磁性体9A和第二纵长磁性体9B。

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