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41. 发明授权

KR100854590B1 금속 배선용 구리 합금과 이를 포함하는 액정표시장치용 어레이기판 및 그 제조방법 有权
标题翻译：金属线用Cu合金，使用其的液晶显示装置用阵列基板及其制造方法
公开(公告)号：KR100854590B1
公开(公告)日：2008-08-27
申请号：KR1020010081637
申请日：2001-12-20
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 황용섭 , 채기성
IPC分类号： C22C9/00
CPC分类号： H01L29/458 , G02F1/136286 , G02F2001/136295 , H01L21/28008 , H01L29/4908
摘要： 본 발명에서는, 금속 배선을 이루는 재질로써, 순수 구리(Cu) 금속물질에 인듐(In)이 일정 함량 포함된 구리-인듐으로 이루어진 금속 배선용 구리 합금을 제공하므로써, 첫째, 기존의 구리 합금에 비해 보다 낮은 비저항값을 가지며, 열처리 중에도 비저항값이 일정하게 유지되므로 신뢰성 있는 액정표시장치용 배선 재료로 이용할 수 있고, 둘째, 순수 금속에 비해 내화학성이 향상되어, 패터닝을 위한 사진식각 공정을 용이하게 진행할 수 있으며, 세째, 액정표시장치이외의 전자기기 제품에도 다양하게 적용하여, 제품 경쟁력을 높일 수 있는 장점을 가진다.

42. 发明公开

KR1020060044262A 박막 패터닝 장치 및 그를 이용한 칼라필터 어레이 기판의제조방법 有权
标题翻译：薄膜图案装置及使用其制造彩色滤色片阵列基板的方法
公开(公告)号：KR1020060044262A
公开(公告)日：2006-05-16
申请号：KR1020040092132
申请日：2004-11-11
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 채기성 , 조규철 , 황용섭 , 김진욱 , 이창희
IPC分类号： G02F1/1335
CPC分类号： G02F1/133514 , G02F1/1303 , G02F1/133345 , G02F2001/133519
摘要： 본 발명은 포토리소그래피 공정을 사용하지 않고 패터닝 공정을 수행할 수 있는 박막 패터닝 장치 및 그를 이용한 칼라필터 어레이 기판의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 칼라필터 어레이 기판의 제조방법은 기판 상에 화소영역을 구획하는 블랙 매트릭스를 형성하는 단계와; 상기 화소영역별로 해당 색의 컬러필터를 형성하는 단계와; 상기 컬러필터가 형성된 기판 상에 투명수지를 코팅하는 단계와; 상기 투명 수지가 형성된 기판 상부에 홈과 돌기를 가지는 소프트 몰드를 정렬하는 단계와; 상기 소프트 몰드로 상기 투명수지를 성형하여 오버코트층을 형성함과 동시에 상기 화소영역마다 액정의 배열방향이 다수개로 조정되도록 리브를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

43. 发明授权

KR100548780B1 패턴형성방법 및 이를 이용한 전기소자 제조방법 失效
标题翻译：金属图案制作方法及其电器制造方法
公开(公告)号：KR100548780B1
公开(公告)日：2006-02-06
申请号：KR1020030023051
申请日：2003-04-11
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 채기성 , 조규철 , 황용섭
IPC分类号： G02F1/13
摘要： 본 발명에 따른 패턴형성방법은 기판상에 식각대상층을 형성하는 단계와, 상기 식각대상층 위에 비정질상태 ITO(Indium Tin Oxide)층을 형성하는 단계와, 상기 비정질상태 ITO층의 일부 영역을 결정화하는 단계와, 상기 비정질상태 ITO층을 식각하여 결정화된 ITO패턴을 형성하는 단계와, 상기 결정화된 ITO패턴으로 식각대상층을 블로킹한 상태에서 상기 식각대상층을 식각하는 단계로 구성된다.
패턴, ITO, 비정질, 결정, 식각, 액정표시소자, 반도체소자

44. 发明公开

KR1020050060946A 액정표시소자 및 그 제조방법 有权
标题翻译：液晶显示装置及其制造方法
公开(公告)号：KR1020050060946A
公开(公告)日：2005-06-22
申请号：KR1020030092685
申请日：2003-12-17
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 채기성 , 김유진 , 황용섭 , 홍성진
IPC分类号： G02F1/136
摘要： 본 발명은 제조공정을 단순화할 수 있는 액정표시소자의 패턴형성방법에 관한 것으로, 기판 위에 a-ITO(amorphous indium tin oxide)층을 형성하는 단계와, 패턴이 형성될 영역을 제외한 나머지 영역을 블로킹한 상태에서 광을 조사하여 a-ITO층의 일부 영역을 결정화하여 p-ITO(poly indium tin oxide)층을 형성하는 단계와, 상기 a-ITO 및 p-ITO(poly indium tin oxide)층을 식각액에 작용시켜, a-ITO층을 식각하는 단계를 포함하여 이루어지는 패턴형성방법을 제공한다.

45. 发明公开

KR1020050023163A 레지스트 제거용 조성물 有权
标题翻译：作为电极电路或显示装置的金属线形成铜箔的光刻胶去除组合物
公开(公告)号：KR1020050023163A
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：KR1020030059628
申请日：2003-08-27
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 채기성 , 조규철 , 권오남 , 이경묵 , 황용섭 , 김성배 , 장석창 , 윤석일
IPC分类号： G03F7/32
摘要： PURPOSE: Provided is a solvent composition for removing photoresist used in patterning copper film for electronic circuit or display device having excellent removal of the photoresist remained on top portion of the patterned copper film. CONSTITUTION: The solvent composition comprises 10-30wt.% of at least one selected from N-methylethanolamine, diethylethanolamine and dimethylethanolamine; 10-80wt.% of glycol ether solvent; 9.5-50wt.% of polar solvent; and 0.5-10wt.% of corrosion-resistant agent. The photoresist film(40) is formed by vapor-depositing copper on substrate(10) to form a first metallic layer(11) and coating the photoresist on top portion of the first metallic layer(11). On top side of the photoresist film(40), mask(M) having permeable part(E) to pass light through and shield part(F) to block light is formed. After then, high energy activation ray radiates over top portion of the mask(M) to expose the photoresist film(40)match with the permeable part(E). After completing the exposure, the photoresist film is under development, thereby obtaining the pattern of copper film.
摘要翻译：目的：提供一种用于去除用于电子电路的铜膜图案的显影剂的溶剂组合物或具有优异去除残留在图案化铜膜的顶部上的光致抗蚀剂的显示装置。构成：溶剂组合物包含10-30重量％的选自N-甲基乙醇胺，二乙基乙醇胺和二甲基乙醇胺中的至少一种; 乙二醇醚溶剂10-80wt％; 9.5-50重量％极性溶剂; 和0.5-10重量％的耐腐蚀剂。光致抗蚀剂膜（40）通过在基板（10）上气相沉积铜形成第一金属层（11）并在第一金属层（11）的顶部上涂覆光致抗蚀剂而形成。在光致抗蚀剂膜（40）的顶侧，形成具有使光通过的屏蔽部（E）的透光部（E）和屏蔽部（F）遮挡光的掩模（M）。之后，高能激活光线辐射在掩模（M）的顶部上，以使光致抗蚀剂膜（40）与可渗透部分（E）相匹配。曝光完成后，光致抗蚀剂膜正在显影中，从而获得铜膜图案。

46. 发明公开

KR1020040062090A 액정표시장치용 어레이기판 제조방법 有权
标题翻译：制造液晶显示器阵列基板的方法
公开(公告)号：KR1020040062090A
公开(公告)日：2004-07-07
申请号：KR1020020088412
申请日：2002-12-31
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 채기성 , 조규철 , 황용섭
IPC分类号： G02F1/136
CPC分类号： G02F1/136286 , G02F2001/13629
摘要： PURPOSE: A method for manufacturing an array substrate of an LCD(liquid crystal display) is provided to form a gate line and a data line using copper. CONSTITUTION: A copper compound and copper are deposited on a substrate(100). The copper layer and copper compound layer are simultaneously patterned to form a gate line(112) and a gate electrode(110) connected to the gate line. A gate insulating layer(114) is formed on the overall surface of the substrate including the gate line and gate electrode. An amorphous silicon layer and a doped amorphous silicon layer are formed on the gate insulating layer and patterned to form an active layer(116) and an ohmic contact layer(118). A copper compound and copper are deposited on the overall surface of the substrate and simultaneously patterned to form source and drain electrodes(122,124) on the ohmic contact layer and a data line(126) that is connected to the source electrode and intersects the gate line to define a pixel region. A passivation layer(130) is formed on the overall surface of the substrate and patterned to form a contact hole exposing the drain electrode. A pixel electrode(136) connected to the drain electrode is formed on the pixel region.
摘要翻译：目的：提供一种用于制造LCD（液晶显示器）的阵列基板的方法以形成使用铜的栅极线和数据线。构成：将铜化合物和铜沉积在基底（100）上。铜层和铜化合物层同时构图以形成连接到栅极线的栅极线（112）和栅电极（110）。在包括栅极线和栅电极的基板的整个表面上形成栅绝缘层（114）。在栅极绝缘层上形成非晶硅层和掺杂的非晶硅层，并将其图案化以形成有源层（116）和欧姆接触层（118）。铜化合物和铜沉积在衬底的整个表面上并且同时被图案化以在欧姆接触层上形成源电极和漏电极（122,124）和连接到源电极并与栅极线相交的数据线（126）以定义像素区域。钝化层（130）形成在衬底的整个表面上并被图案化以形成暴露漏电极的接触孔。连接到漏电极的像素电极（136）形成在像素区域上。

47. 发明公开

KR1020040060601A 구리용 레지스트 제거용 조성물 有权
标题翻译：铜的电阻去除组合物
公开(公告)号：KR1020040060601A
公开(公告)日：2004-07-06
申请号：KR1020020087408
申请日：2002-12-30
申请人： 엘지디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 조규철 , 채기성 , 권오남 , 이경묵 , 황용섭 , 김성배 , 장석창
IPC分类号： G03F7/42
CPC分类号： C11D3/2068 , C11D1/22 , C11D7/263 , C11D7/34 , C11D11/0047
摘要： PURPOSE: A resist-removing composition for copper, a preparation method of an array substrate for a liquid crystal display using the composition and a preparation method of a copper wire pattern using the composition are provided, to remove resist for patterning a copper wire with preventing the corrosion of copper. CONSTITUTION: The resist-removing composition comprises 0.1-10 wt% of an alkylbenzene sulfonate; 10-99 wt% of a glycol ether compound; and 0.5-5 wt% of a corrosion inhibitor. Preferably the alkylbenzene sulfonate is at least one selected from the group consisting of benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, dodecylbenzene sulfonic acid, tetrapropylbenzene sulfonic acid and phenol sulfonic acid; the glycol ether compound is at least one selected from the group consisting of ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol, ethyl ether, ethylene glycol butyl ether, diethylene glycol methyl ether, diethylene glycol ethyl ether and diethylene glycol propyl ether; and the corrosion inhibitor is a mixture of a triazole-based compound and an antioxidizing agent, a mercapto-containing compound, or a mixture of a triazole-based compound, an antioxidizing agent and a mercapto-containing compound.
摘要翻译：目的：提供一种用于铜的抗蚀剂除去组合物，使用该组合物的液晶显示器阵列基板的制备方法和使用该组合物的铜线图案的制备方法，以除去预防铜线图案化的抗蚀剂铜的腐蚀。构成：抗蚀剂去除组合物包含0.1-10重量％的烷基苯磺酸盐; 10-99重量％的二醇醚化合物; 和0.5-5重量％的腐蚀抑制剂。优选地，烷基苯磺酸盐是选自苯磺酸，甲苯磺酸，十二烷基苯磺酸，四丙基苯磺酸和苯酚磺酸中的至少一种; 乙二醇醚化合物是选自乙二醇甲醚，乙二醇，乙醚，乙二醇丁醚，二甘醇甲醚，二乙二醇乙醚，二乙二醇丙醚中的至少一种; 防腐剂是三唑类化合物和抗氧化剂，含巯基化合物，三唑类化合物，抗氧化剂和含巯基化合物的混合物的混合物。

48. 发明授权

KR100438015B1 구리용 레지스트 제거용 조성물 有权
标题翻译： 구리용레지스트제거용조성
公开(公告)号：KR100438015B1
公开(公告)日：2004-06-30
申请号：KR1020010062527
申请日：2001-10-10
申请人： 엘지디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 채기성 , 황용섭 , 조규철 , 권오남 , 이경묵 , 김병욱 , 이상대 , 유종순
IPC分类号： C23F1/10
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D7/263 , C11D7/3218 , C11D7/3263 , C11D7/3281 , C11D7/5013 , G03F7/425 , Y10S134/902
摘要： A composition for removing a copper-compatible resist includes about 10% to about 30% by weight of an amine compound, about 10% to about 80% by weight of a glycolether compound, and about 10% to about 80% by weight of a polar solvent.
摘要翻译：用于除去铜相容性抗蚀剂的组合物包含约10重量％至约30重量％的胺化合物，约10重量％至约80重量％的乙二醇醚化合物和约10重量％至约80重量％的极性溶剂。

49. 发明公开

KR1020030058789A 구리 또는 구리/티타늄 식각액 有权
标题翻译：铜或铜/锡蚀刻溶液
公开(公告)号：KR1020030058789A
公开(公告)日：2003-07-07
申请号：KR1020010089324
申请日：2001-12-31
申请人： 솔브레인 주식회사 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 조규철 , 채기성 , 황용섭 , 권오남 , 이경묵 , 백귀종 , 이태형
IPC分类号： G02F1/13
CPC分类号： H01L21/32134 , C23F1/18 , C23F1/26 , Y10S436/80
摘要： PURPOSE: A copper or copper/titanium etching solution is provided to realize taper etching of a metal layer and uniform patterns of the etching, thereby preventing defective bonding of the metal layer with other constructing layers. CONSTITUTION: An etching solution wetly etches a copper single layer or copper/titanium double layers which are gate, source and drain electrodes in a lump. The etching solution contains 3-7wt% of Oxone, 0.1-0.5 wt% of hydrogen fluoride(HF), 0-0.1wt% of ammonium fluoride, 0.1-1wt% of deoxidating agent or weak oxidizing agent, 0.1-0.2wt% of etching speed mitigative(salicylic acid), 0.1-0.5wt% of KHF2, and water.
摘要翻译：目的：提供铜或铜/钛蚀刻溶液以实现金属层的锥形蚀刻和均匀的蚀刻图案，从而防止金属层与其它构造层的接合不良。构成：蚀刻溶液湿润地蚀刻作为栅极，源极和漏极电极的铜单层或铜/钛双层。蚀刻溶液含有3-7wt％的Oxone，0.1-0.5wt％的氟化氢（HF），0-0.1wt％的氟化铵，0.1-1wt％的脱氧剂或弱氧化剂，0.1-0.2wt％的蚀刻速度缓和（水杨酸），0.1-0.5重量％的KHF2和水。

50. 发明授权

KR101055190B1 액정표시패널의 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101055190B1
公开(公告)日：2011-08-08
申请号：KR1020040026736
申请日：2004-04-19
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 채기성 , 황용섭
IPC分类号： G02F1/1335
摘要： 본 발명은 공정을 단순화함과 아울러 비용을 절감할 수 있는 액정표시패널의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 액정표시패널의 제조방법은 기판 상에 블랙 매트릭스를 형성하는 단계와; 상기 블랙 매트릭스에 의해 구획된 영역에 컬러필터를 형성하는 단계와; 상기 컬러필터 상에 유기물을 도포한 후 상기 유기물을 소프트 몰드로 성형하여 평탄화층 및 스페이서를 동시에 형성하는 단계를 포함하며, 상기 유기물은 상기 평탄화층 및 스페이서의 높이를 합한 두께로 도포되며, 상기 소프트 몰드는 폴리디메틸실록세인(Poly dimethyl siloxane), 폴리 우레탄(Polyurethane)을 이용하는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 한다.

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