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1. 发明授权

KR101174767B1 금속배선 식각용액을 이용한 액정표시장치의 제조방법 有权
标题翻译：使用金属层的蚀刻剂制造液晶显示装置的方法
公开(公告)号：KR101174767B1
公开(公告)日：2012-08-17
申请号：KR1020050020107
申请日：2005-03-10
申请人： 엘지디스플레이 주식회사 , 솔브레인 주식회사
发明人： 백귀종 , 이태형 , 조규철 , 채기성 , 권오남 , 황용섭
IPC分类号： C09K13/08
摘要： 본발명은구리/몰리브데늄(합금)막으로구성된금속배선을식각하기위한금속배선식각용액을이용한액정표시장치의제조방법을제공하는데그 목적이있는것으로, 이와같은목적을달성하기위한본 발명의금속배선식각용액은조성물총 중량을기준으로, 12 내지 35 중량%의과산화수소, 0.5 내지 5 중량 %의황산염, 0.5 내지 5 중량%의인산염, 0.001 내지 0.5 중량%의조성물에플르오르이온을제공할수 있는불화물, 0.1 내지 5 중량%의수용성고리형아민화합물, 0.1 내지 5 중량%의킬레이트제및 전체조성물총 중량이 100 중량%가되도록하는탈이온수를포함하는것을특징으로한다.

2. 发明公开

KR1020030058789A 구리 또는 구리/티타늄 식각액 有权
标题翻译：铜或铜/锡蚀刻溶液
公开(公告)号：KR1020030058789A
公开(公告)日：2003-07-07
申请号：KR1020010089324
申请日：2001-12-31
申请人： 솔브레인 주식회사 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 조규철 , 채기성 , 황용섭 , 권오남 , 이경묵 , 백귀종 , 이태형
IPC分类号： G02F1/13
CPC分类号： H01L21/32134 , C23F1/18 , C23F1/26 , Y10S436/80
摘要： PURPOSE: A copper or copper/titanium etching solution is provided to realize taper etching of a metal layer and uniform patterns of the etching, thereby preventing defective bonding of the metal layer with other constructing layers. CONSTITUTION: An etching solution wetly etches a copper single layer or copper/titanium double layers which are gate, source and drain electrodes in a lump. The etching solution contains 3-7wt% of Oxone, 0.1-0.5 wt% of hydrogen fluoride(HF), 0-0.1wt% of ammonium fluoride, 0.1-1wt% of deoxidating agent or weak oxidizing agent, 0.1-0.2wt% of etching speed mitigative(salicylic acid), 0.1-0.5wt% of KHF2, and water.
摘要翻译：目的：提供铜或铜/钛蚀刻溶液以实现金属层的锥形蚀刻和均匀的蚀刻图案，从而防止金属层与其它构造层的接合不良。构成：蚀刻溶液湿润地蚀刻作为栅极，源极和漏极电极的铜单层或铜/钛双层。蚀刻溶液含有3-7wt％的Oxone，0.1-0.5wt％的氟化氢（HF），0-0.1wt％的氟化铵，0.1-1wt％的脱氧剂或弱氧化剂，0.1-0.2wt％的蚀刻速度缓和（水杨酸），0.1-0.5重量％的KHF2和水。

3. 发明公开

KR1020060099089A 금속배선 식각용액을 이용한 액정표시장치의 제조방법 有权
标题翻译：用于蚀刻金属层的金属层的蚀刻和使用该金属层的金属层的方法和使用蚀刻剂来制造液晶显示装置的方法
公开(公告)号：KR1020060099089A
公开(公告)日：2006-09-19
申请号：KR1020050020107
申请日：2005-03-10
申请人： 엘지디스플레이 주식회사 , 솔브레인 주식회사
发明人： 백귀종 , 이태형 , 조규철 , 채기성 , 권오남 , 황용섭
IPC分类号： C09K13/08
摘要： 본 발명은 구리/몰리브데늄(합금)막으로 구성된 금속배선을 식각하기 위한 금속배선 식각용액 및 이를 이용한 금속배선 식각방법과 상기 식각용액을 이용한 액정표시장치의 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있는 것으로, 이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 금속배선 식각용액은 조성물 총 중량을 기준으로, 12 내지 35 중량%의 과산화수소, 0.5 내지 5 중량 %의 황산염, 0.5 내지 5 중량%의 인산염, 0.001 내지 0.5 중량%의 조성물에 플르오르 이온을 제공할 수 있는 불화물, 0.1 내지 5 중량%의 수용성 고리형 아민 화합물, 0.1 내지 5 중량%의 킬레이트제 및 전체 조성물 총 중량이 100 중량%가 되도록 하는 탈이온수를 포함하는 것을 특징으로 한다.

4. 发明授权

KR100456373B1 구리 또는 구리/티타늄 식각액 有权
标题翻译： 구리또는구리/티타늄식각액
公开(公告)号：KR100456373B1
公开(公告)日：2004-11-09
申请号：KR1020010089324
申请日：2001-12-31
申请人： 솔브레인 주식회사 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 조규철 , 채기성 , 황용섭 , 권오남 , 이경묵 , 백귀종 , 이태형
IPC分类号： G02F1/13
CPC分类号： H01L21/32134 , C23F1/18 , C23F1/26 , Y10S436/80
摘要： An etching solution for etching one of a copper single metal layer and a copper (Cu)/titanium (Ti) double metal layer that serves as one of a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode of a thin film transistor for a liquid crystal display (LCD) device includes oxone, fluoric compounds, one of a reducing agent and a weak oxidizing agent, an etching rate restrainer, KHF 2 , and water.
摘要翻译：一种蚀刻液，用于蚀刻作为用于（a）的薄膜晶体管的栅电极，源电极和漏电极之一的铜单金属层和铜（Cu）/钛（Ti）双金属层之一液晶显示器（LCD）装置包括过硫酸氢钾，含氟化合物，还原剂和弱氧化剂中的一种，蚀刻速率限制器，KHF＆lt; SUB＆gt; 2＆lt; SUB＆gt;和水。

5. 发明授权

KR101165868B1 소프트몰드와 그 제조방법 有权
标题翻译：软模具及其制造
公开(公告)号：KR101165868B1
公开(公告)日：2012-07-13
申请号：KR1020050057547
申请日：2005-06-30
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 이창희 , 채기성 , 조규철 , 김진욱
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명에 따른 소프트 몰드는 따른 크기가 작은 패턴과; 크기가 크고 넓은 패턴과; 상기 크기가 크고 넓은 패턴은 상기 크기가 작은 패턴보다 단면의 높이가 작게 구비된 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 이루기 위한 수단으로 소프트몰드 제조하는 방법은 하프톤 마스크를 마련하는 단계와; 마스터기판 상에 감광성막을 형성하는 단계와; 상기 하프톤 마스크를 사용하여 상기 감광성막을 노광하여 경화시키는 단계와; 상기 노광된 감광성막에 미경화영역을 식각하여 마스터몰드를 성하는 단계와; 상기 마스터몰드에 소프트몰드 재료를 도포하는 단계와; 상기 소프트몰드 재료를 경화하는 단계와; 상기 경화된 소프트몰드 재료를 마스터몰드에서 탈착시켜 소프트몰드를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명은 소프트몰드에 의해 형성된 패턴의 신뢰성 있게 형성할 수 있어 소프트몰드의 간소한 패턴공정을 수행할 수 있게 된다.

6. 发明授权

KR100939560B1 액정표시장치용 어레이기판과 제조방법 有权
标题翻译：液晶显示装置用阵列基板及其制造方法
公开(公告)号：KR100939560B1
公开(公告)日：2010-01-29
申请号：KR1020030043947
申请日：2003-06-30
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 조원호 , 조규철 , 이규태 , 강진규 , 정병화 , 김진영
IPC分类号： G02F1/136
CPC分类号： G02F1/13439 , G02F1/1368 , H01L27/12 , H01L27/124 , H01L27/1248 , H01L29/458 , H01L29/4908
摘要： 본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로 특히, 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 특징은 어레이기판에 첫 번째로 구성되는 층인 게이트 배선과 게이트 전극은 구리합금(Cu-alloy)층과 몰리브덴(Mo)층의 이중층으로 구성하고, 상기 게이트 배선 및 게이트 전극의 상부에 구성되는 데이터 배선과 소스 및 드레인 전극은 몰리브덴 층과 구리합금층 순서로 적층한 이중층으로 구성하는 것이다.
이와 같은 적층 구조는 200℃ 이상의 열을 가하게 되면, 상기 구리합금층으로부터 이것의 둘레로 상기 구리(Cu)와 합금된 금속이 확산되는 현상이 발생하게 된다.
상기 구리합금층 주변으로 확산된 확산층은 절연막과의 접촉특성이 양호함으로 구리합금층의 밀착특성을 개선하는 기능을 한다.
또한, 상기 구리 합금층과 적층된 몰리브덴층은 반도체층과 구리 합금층이 직접 접촉하는 것을 방지하여, 구리성분과 실리콘 성분이 반응하는 것을 막는 기능을 한다.
따라서, 동작특성이 개선된 대면적 액정패널을 제작할 수 있는 장점이 있다.
摘要翻译：液晶显示器用阵列基板及其制造方法技术领域本发明涉及液晶显示器，尤其涉及液晶显示器用阵列基板及其制造方法。

7. 发明授权

KR100863727B1 횡전계 방식 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법 有权
标题翻译：用于横向电场型液晶显示装置的阵列基板及其制造方法
公开(公告)号：KR100863727B1
公开(公告)日：2008-10-16
申请号：KR1020020015137
申请日：2002-03-20
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 채기성 , 조규철
IPC分类号： G02F1/1343 , G02F1/136
摘要： 본 발명은 횡전계 방식 액정표시장치에 관한 것으로 특히, 저 저항배선을 사용한 대면적 고정세(高精細)횡전계 방식 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명을 요약하면, 어레이배선을 저 저항 금속인 알루미늄(Al)과 배리어(barrier) 금속층을 포함한 3층구조로 구성한다.
이와 같이 하면, 고화질의 고정세(高精細)횡전계방식 액정표시장치를 제작할 수 있다.
摘要翻译：本发明涉及一种特别是，阵列面板以及使用该横向电场型的液晶显示装置上的导线固定3的低电阻的大面积的制造方法（高精细）横向电场型的液晶显示装置。

8. 发明授权

KR100843959B1 액정표시소자용 어레이기판 및 그 제조방법 有权
标题翻译：液晶显示装置阵列基板及其制作方法
公开(公告)号：KR100843959B1
公开(公告)日：2008-07-03
申请号：KR1020010085967
申请日：2001-12-27
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 조규철 , 채기성
IPC分类号： G02F1/1333
摘要： 본 발명은 게이트절연막의 과식각을 방지할 수 있는 액정표시소자용 어레이기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 액정표시소자용 어레이기판은 스캐닝신호가 공급되며, 기판 상에 형성되는 게이트라인과, 게이트라인과 교차되며 데이터신호가 공급되는 데이터라인과, 게이트라인에 연결되는 게이트전극과, 기판 상에 게이트라인과 게이트전극을 덮는 게이트절연막과, 게이트절연막 상에 형성되는 반도체층과, 게이트절연막 상에 형성되는 소스전극, 드레인전극 및 스토리지전극과, 데이터라인, 소스전극, 드레인전극 및 스토리지전극을 덮는 보호층과, 스토리지전극 및 보호층을 관통하는 스토리지접촉홀과, 드레인전극 및 보호층을 관통하는 드레인접촉홀과, 스토리지접촉홀을 통해 스토리지전극과 측면 접촉되며, 드레인접촉홀을 통해 드레인전극과 측면 접촉되는 화소전극을 구비한다.

9. 发明授权

KR100800327B1 마이크로렌즈를 갖는 액정표시장치의 제조방법 有权
标题翻译：具有微透镜的液晶显示器的制造方法
公开(公告)号：KR100800327B1
公开(公告)日：2008-02-01
申请号：KR1020000086924
申请日：2000-12-30
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 조규철 , 채기성
IPC分类号： G02F1/136
摘要： 본 발명은 별도의 기판 합착 공정 없이 광효율을 향상시킬 수 있도록 한 마이크로렌즈를 갖는 액정표시장치의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 마이크로렌즈를 갖는 액정표시장치의 제조방법은 박막트랜지스터의 게이트금속패턴을 덮도록 기판 상에 게이트절연막을 전면 형성하는 단계와,상기 박막트랜지스터를 덮도록 상기 게이트절연막 상에 보호막을 전면 형성하는 단계를 포함하고, 상기 게이트절연막 및 상기 보호막 중 적어도 어느 하나의 표면은 주기적인 볼록렌즈 형태로 패터닝된 마이크로렌즈를 포함한다. 그리고 상기 마이크로렌즈를 형성하는 단계는 상기 게이트절연막 및 상기 보호막 중 적어도 어느 하나에 포토레지스트를 전면 도포하는 단계와, 상기 포토레지스트 상에 마스크를 정렬하고 상기 마스크를 통하여 상기 포토레지스트를 노광 및 현상하여 8㎛이하 폭의 포토레지스트패턴을 형성하는 단계와, 상기 포토레지스트패턴이 형성된 상기 게이트절연막 및 상기 보호막 중 적어도 어느 하나를 식각하는 단계를 포함하며, 상기 마이크로렌즈의 형상에 대응하여 상기 게이트절연막 및 상기 보호막의 재료의 식각비를 조절하는 것을 특징으로 한다..

10. 发明公开

KR1020070070712A 액정표시소자의 제조방법 有权
标题翻译：用于制造平板显示装置的APDPARATUS及其制造方法和平板显示装置及其制造方法
公开(公告)号：KR1020070070712A
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：KR1020050133533
申请日：2005-12-29
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 이창희 , 채기성 , 조규철 , 김진욱
IPC分类号： G02F1/136
CPC分类号： B29C59/026 , B29C43/021 , B29L2011/0016 , G02F1/13394
摘要： An apparatus for fabricating a flat panel display device, a method for fabricating the same, a flat panel display device, and a method for fabricating the same are provided to simplify a manufacturing process of the flat panel display device while forming a planarization layer with uniform thickness by forming thin film patterns by a patterning process using a soft mold instead of a photolithography process. A device spreads an organic material on a substrate(180). A soft mold(234) has a base plane(234b) corresponding to an area where a first thin film pattern(150) is formed, a protruded part(234c) protruded from the base plane for deciding thickness of the first thin film pattern, and a groove(234a) depressed from the base plane and corresponding to an area where a second thin film pattern(152) having an area smaller than an area of the first thin film pattern, is formed. A device forms an organic layer having double steps by pressurizing the organic material.
摘要翻译：提供一种用于制造平板显示装置的装置，其制造方法，平板显示装置及其制造方法，以简化平板显示装置的制造工艺，同时形成均匀的平坦化层通过使用软模而不是光刻工艺的图案化工艺来形成薄膜图案。一种器件将有机材料铺展在衬底（180）上。软模具（234）具有对应于形成有第一薄膜图案的区域的基面（234b），从基面突出的用于决定第一薄膜图案的厚度的突出部（234c）以及从底面凹陷并对应于具有小于第一薄膜图案的面积的区域的第二薄膜图案（152）的区域的凹槽（234a）。装置通过加压有机材料形成具有双重步骤的有机层。

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