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    • 2. 发明授权
    • 소프트몰드와 그 제조방법
    • 软模具及其制造
    • KR101165868B1
    • 2012-07-13
    • KR1020050057547
    • 2005-06-30
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 이창희채기성조규철김진욱
    • H01L21/027
    • 본 발명에 따른 소프트 몰드는 따른 크기가 작은 패턴과; 크기가 크고 넓은 패턴과; 상기 크기가 크고 넓은 패턴은 상기 크기가 작은 패턴보다 단면의 높이가 작게 구비된 것을 특징으로 한다.
      또한, 본 발명의 이루기 위한 수단으로 소프트몰드 제조하는 방법은 하프톤 마스크를 마련하는 단계와; 마스터기판 상에 감광성막을 형성하는 단계와; 상기 하프톤 마스크를 사용하여 상기 감광성막을 노광하여 경화시키는 단계와; 상기 노광된 감광성막에 미경화영역을 식각하여 마스터몰드를 성하는 단계와; 상기 마스터몰드에 소프트몰드 재료를 도포하는 단계와; 상기 소프트몰드 재료를 경화하는 단계와; 상기 경화된 소프트몰드 재료를 마스터몰드에서 탈착시켜 소프트몰드를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
      따라서, 본 발명은 소프트몰드에 의해 형성된 패턴의 신뢰성 있게 형성할 수 있어 소프트몰드의 간소한 패턴공정을 수행할 수 있게 된다.
    • 3. 发明授权
    • 액정표시장치용 어레이기판과 제조방법
    • 液晶显示装置用阵列基板及其制造方法
    • KR100939560B1
    • 2010-01-29
    • KR1020030043947
    • 2003-06-30
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 조원호조규철이규태강진규정병화김진영
    • G02F1/136
    • G02F1/13439G02F1/1368H01L27/12H01L27/124H01L27/1248H01L29/458H01L29/4908
    • 본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로 특히, 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법에 관한 것이다.
      본 발명의 특징은 어레이기판에 첫 번째로 구성되는 층인 게이트 배선과 게이트 전극은 구리합금(Cu-alloy)층과 몰리브덴(Mo)층의 이중층으로 구성하고, 상기 게이트 배선 및 게이트 전극의 상부에 구성되는 데이터 배선과 소스 및 드레인 전극은 몰리브덴 층과 구리합금층 순서로 적층한 이중층으로 구성하는 것이다.
      이와 같은 적층 구조는 200℃ 이상의 열을 가하게 되면, 상기 구리합금층으로부터 이것의 둘레로 상기 구리(Cu)와 합금된 금속이 확산되는 현상이 발생하게 된다.
      상기 구리합금층 주변으로 확산된 확산층은 절연막과의 접촉특성이 양호함으로 구리합금층의 밀착특성을 개선하는 기능을 한다.
      또한, 상기 구리 합금층과 적층된 몰리브덴층은 반도체층과 구리 합금층이 직접 접촉하는 것을 방지하여, 구리성분과 실리콘 성분이 반응하는 것을 막는 기능을 한다.
      따라서, 동작특성이 개선된 대면적 액정패널을 제작할 수 있는 장점이 있다.
    • 液晶显示器用阵列基板及其制造方法技术领域本发明涉及液晶显示器,尤其涉及液晶显示器用阵列基板及其制造方法。
    • 5. 发明授权
    • 액정표시소자용 어레이기판 및 그 제조방법
    • 液晶显示装置阵列基板及其制作方法
    • KR100843959B1
    • 2008-07-03
    • KR1020010085967
    • 2001-12-27
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 조규철채기성
    • G02F1/1333
    • 본 발명은 게이트절연막의 과식각을 방지할 수 있는 액정표시소자용 어레이기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.
      본 발명에 따른 액정표시소자용 어레이기판은 스캐닝신호가 공급되며, 기판 상에 형성되는 게이트라인과, 게이트라인과 교차되며 데이터신호가 공급되는 데이터라인과, 게이트라인에 연결되는 게이트전극과, 기판 상에 게이트라인과 게이트전극을 덮는 게이트절연막과, 게이트절연막 상에 형성되는 반도체층과, 게이트절연막 상에 형성되는 소스전극, 드레인전극 및 스토리지전극과, 데이터라인, 소스전극, 드레인전극 및 스토리지전극을 덮는 보호층과, 스토리지전극 및 보호층을 관통하는 스토리지접촉홀과, 드레인전극 및 보호층을 관통하는 드레인접촉홀과, 스토리지접촉홀을 통해 스토리지전극과 측면 접촉되며, 드레인접촉홀을 통해 드레인전극과 측면 접촉되는 화소전극을 구비한다.
    • 6. 发明授权
    • 마이크로렌즈를 갖는 액정표시장치의 제조방법
    • 具有微透镜的液晶显示器的制造方法
    • KR100800327B1
    • 2008-02-01
    • KR1020000086924
    • 2000-12-30
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 조규철채기성
    • G02F1/136
    • 본 발명은 별도의 기판 합착 공정 없이 광효율을 향상시킬 수 있도록 한 마이크로렌즈를 갖는 액정표시장치의 제조방법에 관한 것이다.
      본 발명에 따른 마이크로렌즈를 갖는 액정표시장치의 제조방법은 박막트랜지스터의 게이트금속패턴을 덮도록 기판 상에 게이트절연막을 전면 형성하는 단계와,상기 박막트랜지스터를 덮도록 상기 게이트절연막 상에 보호막을 전면 형성하는 단계를 포함하고, 상기 게이트절연막 및 상기 보호막 중 적어도 어느 하나의 표면은 주기적인 볼록렌즈 형태로 패터닝된 마이크로렌즈를 포함한다. 그리고 상기 마이크로렌즈를 형성하는 단계는 상기 게이트절연막 및 상기 보호막 중 적어도 어느 하나에 포토레지스트를 전면 도포하는 단계와, 상기 포토레지스트 상에 마스크를 정렬하고 상기 마스크를 통하여 상기 포토레지스트를 노광 및 현상하여 8㎛이하 폭의 포토레지스트패턴을 형성하는 단계와, 상기 포토레지스트패턴이 형성된 상기 게이트절연막 및 상기 보호막 중 적어도 어느 하나를 식각하는 단계를 포함하며, 상기 마이크로렌즈의 형상에 대응하여 상기 게이트절연막 및 상기 보호막의 재료의 식각비를 조절하는 것을 특징으로 한다..
    • 7. 发明公开
    • 액정표시소자의 제조방법
    • 用于制造平板显示装置的APDPARATUS及其制造方法和平板显示装置及其制造方法
    • KR1020070070712A
    • 2007-07-04
    • KR1020050133533
    • 2005-12-29
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 이창희채기성조규철김진욱
    • G02F1/136
    • B29C59/026B29C43/021B29L2011/0016G02F1/13394
    • An apparatus for fabricating a flat panel display device, a method for fabricating the same, a flat panel display device, and a method for fabricating the same are provided to simplify a manufacturing process of the flat panel display device while forming a planarization layer with uniform thickness by forming thin film patterns by a patterning process using a soft mold instead of a photolithography process. A device spreads an organic material on a substrate(180). A soft mold(234) has a base plane(234b) corresponding to an area where a first thin film pattern(150) is formed, a protruded part(234c) protruded from the base plane for deciding thickness of the first thin film pattern, and a groove(234a) depressed from the base plane and corresponding to an area where a second thin film pattern(152) having an area smaller than an area of the first thin film pattern, is formed. A device forms an organic layer having double steps by pressurizing the organic material.
    • 提供一种用于制造平板显示装置的装置,其制造方法,平板显示装置及其制造方法,以简化平板显示装置的制造工艺,同时形成均匀的平坦化层 通过使用软模而不是光刻工艺的图案化工艺来形成薄膜图案。 一种器件将有机材料铺展在衬底(180)上。 软模具(234)具有对应于形成有第一薄膜图案的区域的基面(234b),从基面突出的用于决定第一薄膜图案的厚度的突出部(234c) 以及从底面凹陷并对应于具有小于第一薄膜图案的面积的区域的第二薄膜图案(152)的区域的凹槽(234a)。 装置通过加压有机材料形成具有双重步骤的有机层。
    • 8. 发明公开
    • 액정표시패널 및 그 제조방법
    • 液晶显示面板及其制作方法
    • KR1020070057507A
    • 2007-06-07
    • KR1020050117039
    • 2005-12-02
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 이창희조규철김진욱
    • G02F1/136
    • G02F1/1339G02F1/136209G02F1/136286G02F2001/136222G02F2201/121G02F2201/123
    • An LCD(Liquid Crystal Display) panel and a method for manufacturing the same are provided to prevent the bonding failure between a sealant and an upper array substrate or between the sealant and a lower array substrate, by preventing the sealant from being directly contacted with a planarization layer of an organic material or an organic passivation layer. An upper array substrate(160) has first thin film patterns, wherein the first thin film patterns include a black matrix, color filters, a planarization layer, and a spacer. A lower array substrate(170) is bonded to the upper array substrate through a sealant(174). The lower array substrate has second thin film patterns, wherein the second thin film patterns include gate lines, data lines, thin film transistors, and pixel electrodes. The sealant is inserted into at least one penetration hole(109), which is formed on at least one of the upper array substrate and the lower array substrate, and contacted with an inorganic material.
    • 提供了一种LCD(液晶显示器)面板及其制造方法,以防止密封剂与上阵列基板之间或密封剂与下阵列基板之间的接合故障,通过防止密封剂直接与 有机材料的平坦化层或有机钝化层。 上阵列基板(160)具有第一薄膜图案,其中第一薄膜图案包括黑矩阵,滤色器,平坦化层和间隔件。 下阵列基板(170)通过密封剂(174)结合到上阵列基板。 下阵列基板具有第二薄膜图案,其中第二薄膜图案包括栅极线,数据线,薄膜晶体管和像素电极。 将密封剂插入形成在上阵列基板和下阵列基板中的至少一个上并与无机材料接触的至少一个贯通孔(109)中。
    • 9. 发明公开
    • 셀 갭 제어용 칼럼 스페이서 및 이를 이용한 액정 표시장치
    • 用于控制细胞间隙的柱间隔件和使用其的液晶显示装置
    • KR1020070000629A
    • 2007-01-03
    • KR1020050056124
    • 2005-06-28
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 조규철이재균김진욱
    • G02F1/1339
    • G02F1/13394G02F1/136286G02F2001/13398
    • A column spacer for controlling cell gap and an LCD using the same are provided to make the cell gap uniform, thereby preventing various defects due to defective cell gap, by forming the column spacer of a material having a high recovery ratio. A column spacer for controlling cell gap has the sum total of inelastic deformation and elastic deformation ranging from 1 to 3 micrometers. The column spacer has a recovery ratio of 50 percents or more. The column spacer is formed by photo-polymerizing a mixed solution of a liquid polymer precursor and a light initiator. The liquid polymer precursor includes a monoacrylate series of 10 to 20 percents, a triacrylate series of 10 to 20 percents, and a methacrylate series of 40 to 60 percents.
    • 通过形成具有高回收率的材料的柱间隔件,提供了用于控制电池间隙的柱间隔件和使用其的LCD,以使电池间隙均匀,从而防止由于电池间隙不良引起的各种缺陷。 用于控制细胞间隙的柱间隔物具有1至3微米的非弹性变形和弹性变形的总和。 柱间隔物的回收率为50%以上。 柱间隔物通过使液体聚合物前体和光引发剂的混合溶液光聚合而形成。 液体聚合物前体包括10至20%的单丙烯酸酯系列,10至20%的三丙烯酸酯系列和40至60%的甲基丙烯酸酯系列。
    • 10. 发明公开
    • 액정표시장치용 어레이기판과 제조방법
    • 用于LCD的阵列基板用于防止从半导体层直接接触和反应的铜层及其制造方法
    • KR1020050002564A
    • 2005-01-07
    • KR1020030043947
    • 2003-06-30
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 조원호조규철이규태강진규정병화김진영
    • G02F1/136
    • G02F1/13439G02F1/1368H01L27/12H01L27/124H01L27/1248H01L29/458H01L29/4908
    • PURPOSE: An array substrate for an LCD(Liquid Crystal Display) and a method for manufacturing the same are provided to prevent a copper layer from directly contacting and reacting with a semiconductor layer, thereby improving operation characteristic of a thin film transistor by forming a molybdenum layer between the semiconductor layer and the copper layer. CONSTITUTION: A gate line(133) and a gate electrode(131) are formed on a substrate(121), wherein the gate line and the gate electrode have multi-layers consisting of molybdenum layer, a copper alloy layer and a metal diffusion layer. The gate insulating layer(137) covers the gate lines and the gate electrodes and an active layer(139) and an ohmic contact layer(141) are sequentially formed on the gate insulating layer. A source and a drain electrodes(149,151) are formed on the ohmic contact layer, and a data line is formed on the gate insulating layer. The source and the drain electrodes, and the data line have multi-layers consisting of molybdenum layer, a copper alloy layer and a metal diffusion layer.
    • 目的:提供一种用于LCD(液晶显示器)的阵列基板及其制造方法,以防止铜层与半导体层直接接触和反应,从而通过形成钼来改善薄膜晶体管的操作特性 在半导体层和铜层之间。 构成:在基板(121)上形成栅极线(133)和栅电极(131),其中栅极线和栅电极具有由钼层,铜合金层和金属扩散层组成的多层 。 栅极绝缘层(137)覆盖栅极线,并且在栅极绝缘层上依次形成栅电极和有源层(139)和欧姆接触层(141)。 在欧姆接触层上形成源极和漏极(149,151),并且在栅极绝缘层上形成数据线。 源极和漏极以及数据线具有由钼层,铜合金层和金属扩散层组成的多层。