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41. 发明申请

WO2009132756A1 ILLUMINATION OPTICS FOR EUV MICROLITHOGRAPHY AND ILLUMINATION SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS COMPRISING AN ILLUMINATION OPTICS OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：用于EUV微结构和照明系统的照明光学和包含这种类型的照明光学的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2009132756A1
公开(公告)日：2009-11-05
申请号：PCT/EP2009/002584
申请日：2009-04-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , WARM, Berndt , STEIGERWALD, Christian , ENDRES, Martin , STÜTZLE, Ralf , OSSMANN, Jens , SCHARNWEBER, Ralf , HAUF, Markus , DINGER, Udo , WALDIS, Severin , KIRCH, Marc , HARTJES, Joachim
发明人： FIOLKA, Damian , WARM, Berndt , STEIGERWALD, Christian , ENDRES, Martin , STÜTZLE, Ralf , OSSMANN, Jens , SCHARNWEBER, Ralf , HAUF, Markus , DINGER, Udo , WALDIS, Severin , KIRCH, Marc , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70083
摘要： An illumination optics for EUV microlithography serves for guiding an illumination light bundle from a radiation source to an object field with an extension ratio between a longer field dimension (x) and a shorter field dimension (y), the ratio being considerably greater than 1. A field facet mirror (13) has a plurality of field facets (19) for setting defined illumination conditions in the object field. A following optics downstream of the field facet mirror (13) serves for transmitting the illumination light into the object field (5). The following optics comprises a pupil facet mirror (14) with a plurality of pupil facets (27). The field facets (19) are in each case individually allocated to the pupil facets (27) so that portions of the illumination light bundle (10) impinging upon in each case one of the field facets (19) are guided on to the object field (5) via the associated pupil facet (27). The field facet mirror (13) not only comprises a plurality of basic illumination field facets (19 G ) which provide a basic illumination of the object field (5) via associated basic illumination pupil facets (27 G ) but also a plurality of correction illumination field facets (19 K ) which provide for a correction of the illumination of the object field (5) via associated correction illumination pupil facets (27 K ). The result is an illumination optics which allows unwanted variations of illumination parameters, for instance an illumination intensity distribution or an illumination angle distribution, to be corrected across the object field.
摘要翻译：用于EUV微光刻的照明光学器件用于将照明光束从辐射源引导到物场，其具有在较长场尺寸（x）和较短场尺寸（y）之间的延伸比，该比率远大于1。场面反射镜（13）具有多个场面（19），用于在对象场中设定定义的照明条件。场面反射镜（13）下游的跟随光学器件用于将照明光发射到物场（5）中。以下光学器件包括具有多个光瞳面（27）的光瞳小面镜（14）。场分面（19）在每种情况下分别被分配给光瞳面（27），使得照射光束（10）中的每一个场景面（19）中的一个照射的部分被引导到物场（5）通过相关联的光瞳面（27）。场面反射镜（13）不仅包括通过相关联的基本照明光瞳（27G）提供对象场（5）的基本照明的多个基本照明场面（19G），而且还包括多个校正照明场面（19K），其经由相关联的校正照明光瞳面（27K）提供对物场（5）的照明的校正。结果是照明光学元件允许在整个对象场校正照明参数的不期望的变化，例如照明强度分布或照明角度分布。

42. 发明申请

WO2009080279A1 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置
公开(公告)号：WO2009080279A1
公开(公告)日：2009-07-02
申请号：PCT/EP2008/010801
申请日：2008-12-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , LAYH, Michael , DEGÜNTHER, Markus , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes , MAUL, Manfred , FIOLKA, Damian , WEISS, Gundula
发明人： LAYH, Michael , DEGÜNTHER, Markus , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes , MAUL, Manfred , FIOLKA, Damian , WEISS, Gundula
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/09 , G02B26/105 , G03F7/70116 , G03F7/7055 , G03F7/70583
摘要： A projection exposure apparatus for microlithography comprises illumination optics for illuminating object field points of an object field in an object plane. The illumination optics have, for each object field point of the object field, an exit pupil associated with the object point, wherein sin(γ) is a greatest marginal angle value of the exit pupil, and wherein the illumination optics comprise a multi-mirror array (38) comprising a plurality of mirrors (38s) for adjusting an intensity distribution in exit pupils associated to the object field points. The illumination optics further contain at least one optical system (33a; 33b,; 33c; 3d; 400; 822; 903; 1010; 1103; 1203) for temporally stabilising the illumination of the multi-mirror array (38) so that, for each object field point, the intensity distribution in the associated exit pupil deviates from a desired intensity distribution in the associated exit pupil in the case of a centroid angle value sin(β) by less than 2% expressed in terms of the greatest marginal angle value sin(γ) of the associated exit pupil and/or, in the case of ellipticity by less than 2%, and/or in the case of a pole balance by less than 2%.
摘要翻译：用于微光刻的投影曝光装置包括用于照射物平面中的物场的对象场点的照明光学装置。对于物场的每个物场点，照明光学器件具有与对象点相关联的出射光瞳，其中sin（θ）是出射光瞳的最大边缘角度值，并且其中照明光学器件包括多镜阵列（38）包括用于调整与对象场点相关联的出射光瞳中的强度分布的多个反射镜（38s）。照明光学器件进一步包含至少一个光学系统（33a; 33b;; 33c; 3d; 400; 822; 903; 1010; 1103; 1203），用于暂时稳定多镜阵列（38）的照明，在每个对象场点处，相关联的出射光瞳中的强度分布在相关出射光瞳中偏离期望的强度分布，在重心角度值sin（ß）小于2％的情况下，以最大边角值表示相关联的出射光瞳的sin（θ）和/或在椭圆率小于2％的情况下，和/或在极平衡小于2％的情况下。

43. 发明申请

WO2009063002A1 ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2009063002A1
公开(公告)日：2009-05-22
申请号：PCT/EP2008/065462
申请日：2008-11-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , BLAHNIK, Vladan
发明人： FIOLKA, Damian , BLAHNIK, Vladan
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70091 , G03F7/70566
摘要： The invention concerns an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus, wherein the illumination system (200, 700) in operation of the projection exposure apparatus illuminates an object plane (OP) of a projection objective (40) of the projection exposure apparatus, and wherein the illumination system (200, 700) is so adapted that light components (10, 20) in point-symmetrical relationship with each other, which are produced in operation of the illumination system and which are only superposed in the object plane (OP) have mutually orthogonal polarization states.
摘要翻译：本发明涉及一种微光刻投影曝光装置的照明系统，其中投影曝光装置的操作中的照明系统（200,700）照亮投影曝光装置的投影物镜（40）的物平面（OP），以及其中所述照明系统（200,700）适于使得在所述照明系统的操作中产生且仅重叠在所述物平面（OP）中的点对称关系的光分量（10,20）具有相互正交的极化状态。

44. 发明申请

WO2009034109A2 ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2009034109A2
公开(公告)日：2009-03-19
申请号：PCT/EP2008062007
申请日：2008-09-10
申请人： ZEISS CARL SMT AG , FIOLKA DAMIAN , WALLDORF DANIEL , SAENGER INGO
发明人： FIOLKA DAMIAN , WALLDORF DANIEL , SAENGER INGO
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70116 , G03F7/70566
摘要： The invention concerns an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprising a mirror arrangement (21, 43, 45, 52, 63, 84, 93, 140, 250, 340, 540, 940) which has a plurality of mirror units (141, 142, 143, 341, 342, 343, 541, 542, 543), wherein said mirror units are displaceable independently of each other for altering an angle distribution of the light reflected by the mirror arrangement (21, 43, 45, 52, 63, 84, 93, 140, 250, 340, 540, 940), and at least one element (20, 42a, 44, 51, 62, 64, 71, 81, 91, 130, 200, 260, 330, 530, 930) arranged in front of the mirror arrangement (21, 43, 45, 52, 63, 84, 93, 140, 250, 340, 540, 940) in the light propagation direction for producing at least two different states of polarization incident on different mirror units.
摘要翻译：本发明涉及一种微光刻投影曝光装置的照明系统，其包括具有多个反射镜单元（141,43）的反射镜装置（21,43,45,52,63,84,93,140,250,340,540,940），142,143,341,342,343,541,542,543），其中所述镜单元可彼此独立地移位以改变由所述反射镜装置（21,43,45,52,543）反射的光的角度分布，以及至少一个元件（20,42a，44,51,62,64,71,81,91,130,200,260,330,530），以及至少一个元件，930），其布置在光传播方向上的反射镜装置（21,43,45,52,63,84,93,140,250,340,540,940）的前面，用于产生至少两个不同的偏振态入射在不同的镜子单位。

45. 发明申请

WO2008119794A1 OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR ILLUMINATION DEVICE OR PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是照明设备或投影微波投影曝光装置的目标
公开(公告)号：WO2008119794A1
公开(公告)日：2008-10-09
申请号：PCT/EP2008/053847
申请日：2008-03-31
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , GRUNER, Toralf , FIOLKA, Damian
发明人： TOTZECK, Michael , GRUNER, Toralf , FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70566
摘要： The invention relates to an optical system, in particular an illumination device or a projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus, comprising a polarization compensator (100, 200, 300, 400, 800, 900), which has at least one polarization-modifying partial element (110-140, 210-240, 310-340, 410-440, 810-840, 910-940), and a manipulator (150, 250, 722, 851-854, 951a-954a, 951b-954b), by means of which the position of the at least one partial element can be altered, wherein, in the optical system, at least one operating mode (501-504) can be set in which the intensity, over a region which belongs to a plane perpendicular to the optical axis (OA) and which can be illuminated with light from said light source, does not exceed 20% of the maximum intensity in said plane, and wherein the manipulator (150, 250, 722, 851-854, 951a-954a, 951b-954b) is arranged in said region.
摘要翻译：本发明涉及光学系统，特别是微光刻投影曝光装置的照明装置或投影物镜，该光学装置或投影物镜包括极化补偿器（100,200,300,400,800,900），其具有至少一个偏振修正部分元件（110-140,210-240,310-340,410-440,810-840,910-940）和操纵器（150,250,722,851-854,951a-954a，951b-954b），借助于此可以改变至少一个部分元件的位置，其中在光学系统中，可以设置至少一个操作模式（501-504），其中强度在属于垂直于光轴（OA）的并且可以用来自所述光源的光照射的平面不超过所述平面中最大强度的20％，并且其中所述操纵器（150,250,722,851-854,951a -954a，951b-954b）布置在所述区域中。

46. 发明申请

WO2008095695A2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR ÜBERWACHUNG VON MEHRFACHSPIEGELANORDNUNGEN IN EINEM BELEUCHTUNGSSYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： METHOD AND APPARATUS FOR IN的微光刻投射曝光设备的照明系统的监控多个MIRROR ARRANGEMENTS
公开(公告)号：WO2008095695A2
公开(公告)日：2008-08-14
申请号：PCT/EP2008/000920
申请日：2008-02-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , XALTER, Stefan , KWAN, Yim-Bun-Patrick , MAJOR, András, G. , MAUL, Manfred , EISENMENGER, Johannes , FIOLKA, Damian , HORN, Jan , DEGÜNTHER, Markus , BACH, Florian , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes , LAYH, Michael
发明人： XALTER, Stefan , KWAN, Yim-Bun-Patrick , MAJOR, András, G. , MAUL, Manfred , EISENMENGER, Johannes , FIOLKA, Damian , HORN, Jan , DEGÜNTHER, Markus , BACH, Florian , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes , LAYH, Michael
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70258 , G01B11/002 , G01B11/272 , G01M11/30 , G01N21/55 , G02B26/0833 , G03F7/70058 , G03F7/70116 , G03F7/70133 , G03F7/702 , G03F7/70291 , G03F7/70516 , G03F7/7085 , G05B13/048 , Y10S359/904
摘要： Ein Beleuchtungssystem (12) einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage (10) hat eine Pupillenfläche und eine im Wesentlichen flächige Anordnung vorzugsweise individuell ansteuerbarer Strahlablenkungselemente (28) zur variablen Ausleuchtung der Pupillenfläche. Durch jedes Strahlablenkungselement (28) lässt sich eine Ablenkung eines darauf auftreffenden Projektionslichtbündels (32) in Abhängigkeit von einem an dem Strahlablenkungselement (28) anliegenden Steuersignal erzielen. Eine Messbeleuchtungseinrichtung (54, 56, 58, 60; 88; 90; 98) richtet ein von den Projektionslichtbündeln (32) unabhängiges Messlichtbündel (36) auf ein Strahlablenkungselement (28). Eine Detektoreinrichtung erfasst das Messlichtbündel (38) nach Ablenkung an dem Strahlablenkungselement (28). Eine Auswertungseinheit bestimmt die Ablenkung des Projektionslichtbündels (32) aus von der Detektoreinrichtung bereitgestellten Messsignalen.
摘要翻译：微光刻投射曝光设备（10）的照明系统（12）具有用于光瞳表面的可变照明光瞳表面及实质呈平面排列优选单独可控光束偏转元件（28）。由每个光束偏转元件（28），可以实现施加的控制信号，在其上投影光束（32）入射的响应于所述梁部件（28）的偏转的偏转。的测量照明装置（54，56，58，60; 88; 90; 98）从投射光束建立（32）独立的测量光束（36）的光束偏转元件（28）。的检测装置检测的测量光束（38）由所述光束偏转元件（28）的偏转。评估单元确定由检测器提供的投影光束（32）的偏转装置的测量信号。

47. 发明申请

WO2007096250A1 BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：点亮的微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2007096250A1
公开(公告)日：2007-08-30
申请号：PCT/EP2007/051179
申请日：2007-02-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , DIECKMANN, Nils
发明人： FIOLKA, Damian , DIECKMANN, Nils
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70966 , G02B5/001 , G03F7/70191
摘要： Eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage weist wenigstens ein optisches Element (140, 240, 340, 440) auf, wobei auf dieses optische Element (140, 240, 340, 440) ein linear polarisiertes Eingangsbüschel trifft, welches ein Winkelspektrum aufweist, wobei ein maximaler Öffnungswinkel des Eingangsbüschels am Ort des optischen Elementes (140, 240, 340, 440) nicht mehr als 35 mrad beträgt, und wobei ein um die optische Achse (SA) rotationssymmetrischer Anteil einer in der Beleuchtungseinrichtung vorhandenen Doppelbrechung durch das optische Element (140, 240, 340, 440) wenigstens teilweise kompensiert wird.
摘要翻译：微光刻投射曝光系统的照明系统包括至少一个光学元件（140，240，340，440），其中，在所述光学元件（140，240，340，440）的直线偏振光输入簇是否满足具有角光谱，其中最大开角在所述光学元件（140，240，340，440）的位置处的输入包是不超过35兆拉德，并且其中一个围绕通过该光学元件（140，240在照明装置双折射的现有的旋转对称的部分的光轴（SA）， 340，440）至少部分地补偿。

48. 发明申请

WO2006131517A3 ILLUMINATING DEVICE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM 审中-公开
标题翻译：点亮的微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2006131517A3
公开(公告)日：2007-05-03
申请号：PCT/EP2006062929
申请日：2006-06-06
申请人： ZEISS CARL SMT AG , FIOLKA DAMIAN , TOTZECK MICHAEL , SCHARNWEBER RALF , ZENKE JOERG
发明人： FIOLKA DAMIAN , TOTZECK MICHAEL , SCHARNWEBER RALF , ZENKE JOERG
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70566 , G03F7/70075
摘要： The invention relates to an illuminating device of a microlithographic projection exposure system, in which a predominant direction of the polarization can be largely or completely eliminated. The illuminating device comprises: a light source (135), which generates essentially linearly polarized light that propagates along a direction of light propagation; a light mixing system (148); a depolarizer (10, 30, 40), which is situated in the direction of light propagation in front of the light mixing system (148) and which, in conjunction with the light mixing system (148), effects, at least in part, an effective depolarization in a plane of illumination, and; a lambda/4 plate (20) placed in the direction of light propagation after the depolarizer (10, 30, 40).
摘要翻译：本发明涉及微光刻投射曝光设备的照明系统，其中偏振的优选方向可以是基本上或完全消除。该照明装置包括沿着光传播方向上传播的光源（135），产生大致线性偏振光，光混合系统（148），其在所述光混合系统的前面布置在光传播方向上的消偏振器（10，30，40）（148）和至少部分地导致有效的去极化结合在照明平面上的光混合系统（148），并且在该解偏光器的下游的光的传播方向的λ/ 4板（20）（10，30，40）布置在。

49. 发明申请

WO2006084476A1 ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置照明系统
公开(公告)号：WO2006084476A1
公开(公告)日：2006-08-17
申请号：PCT/EP2005/001224
申请日：2005-02-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian
发明人： FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70066 , G03F7/70158
摘要： An illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises an optical axis (28), a pupil plane (74) and a diffractive optical element (76; 76b) as a field defining element. The diffractive optical element (76, 76b) is positioned at least approximately in the pupil plane (74) and extends in an element plane (94) whose normal (96) is inclined with respect to the optical axis (28) by a tilt angle α 0 ° . Rotating the diffractive optical element deforms the illuminated field (14). For example, if the diffractive optical element (76; 76b) is configured such that it produces a rectangular light field (14') for α = 0 ° , rotating the diffractive optical element (76; 76b) around an axis of rotation (80) that is perpendicular both to the optical axis (28) and the scan direction (Y) results in an illuminated field (14) having the shape of a ring segment.
摘要翻译：用于微光刻投影曝光装置（10）的照明系统包括作为场限定元件的光轴（28），光瞳平面（74）和衍射光学元件（76; 76b）。衍射光学元件（76,76b）至少大致位于瞳孔平面（74）中，并且在垂直（96）相对于光轴（28）倾斜倾斜角度的元件平面（94）中延伸 0°。旋转衍射光学元件使照明场（14）变形。例如，如果衍射光学元件（76; 76b）被配置为使得其产生用于= 0°的矩形光场（14'），则将衍射光学元件（76; 76b）旋转，围绕与光轴（28）和扫描方向（Y）垂直的旋转轴线（80）导致具有环形段形状的照明场（14）。

50. 发明申请

WO2005121900A1 BELEUCHTUNGSSYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：的微光刻投射曝光设备中的照明系统
公开(公告)号：WO2005121900A1
公开(公告)日：2005-12-22
申请号：PCT/EP2005/005931
申请日：2005-06-02
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian
发明人： FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B5/30 , G02B27/286 , G03F7/70566
摘要： Ein Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage enthält eine Lichtquelle (12), die linear polarisiertes Licht erzeugt. Im Strahlengang vor einem den Lichtleitwert erstmalig wesentlich erhöhenden optischen Element (42) ist ein Polarisator (34) angeordnet ist, wobei sich vorzugsweise zwischen dem Polarisator (34) und dem optischen Element (42) keine reflektiven oder refraktiven optischen Elemente befinden. Störungen des Polarisationszustands durch vorangehende optische Elemente können sich dadurch nicht auf polarisationsempfindlichere optische Elemente hinter dem optischen Element (42) auswirken.
摘要翻译：微光刻投射曝光设备的照明系统包括光源（12），其生成直线偏振光。在的第一时间的光电导显著增加光学元件（42）前方的光路是一个偏振器（34）被布置成，其中优选地所述偏振器（34）和所述光学元件（42）之间没有反射或折射光学元件。通过前述光学元件的偏振状态的紊乱可以在不影响所述光学元件（42）穿过其中的下游polarisationsempfindlichere光学元件。

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