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21. 发明授权

KR102262657B1 플라즈마 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR102262657B1
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：KR1020140137711
申请日：2014-10-13
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김학영 , 이지명 , 김지희 , 성덕용 , 정경석 , 최성철
IPC分类号： H01J37/32 , H05H1/46 , H01Q1/36

22. 发明公开

KR1020160030812A 플라즈마 처리 장치 审中-实审
标题翻译：等离子体加工设备
公开(公告)号：KR1020160030812A
公开(公告)日：2016-03-21
申请号：KR1020140120478
申请日：2014-09-11
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박명수 , 김학영 , 성유미 , 임승규
IPC分类号： H01L21/02 , H05H1/46 , H01L21/56 , H01L21/683
CPC分类号： H01J37/32477 , H01J37/321 , H01J37/32119 , H01J37/3244 , H01J2237/0203
摘要： 프로세스챔버바디부; 상기프로세스챔버바디부의하부영역내에배치된기판지지부; 및상기프로세스챔버바디부의상부영역에배치되는윈도우부를포함하되, 상기윈도우부는베이스막 및상기베이스막 상에배치되어상기기판지지부와마주보는표면보호막을포함하되, 상기표면보호막은주상구조를갖는산화물을포함하는플라즈마처리장치가제공된다.
摘要翻译：本发明提供一种等离子体处理装置。等离子体处理装置包括：处理室主体单元; 设置在处理室主体单元的下部区域内的基板支撑单元; 以及设置在处理室主体单元的上部区域中的窗口单元。窗单元包括基膜和设置在基膜上以面对基板支撑单元的表面保护膜。表面保护膜包括具有柱状结构的氧化物。根据本发明，等离子体处理装置可以抑制对窗单元的损坏。

23. 发明公开

KR1020030015545A 이온주입장치에서의 회전축과 회전체의 연결시스템 失效
标题翻译：用于离子植入物的旋转轴和旋转体的连接系统
公开(公告)号：KR1020030015545A
公开(公告)日：2003-02-25
申请号：KR1020010049319
申请日：2001-08-16
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 장진형 , 김학영
IPC分类号： H01L21/265
CPC分类号： H01L21/68764 , H01J2237/31701 , H01L21/68792
摘要： PURPOSE: A connecting system of revolving shaft and rotating body for ion implanter is provided to eliminate a phenomenon that the ion beam implanted to a wafer platen is twisted, by making the revolving shaft and the rotating body revolved as one body. CONSTITUTION: A key way(112) is formed in the shaft direction of the revolving shaft and an internal thread hole(114) for the revolving shaft is formed at the end surface of the revolving shaft. A protrusion(122) engaging with the key way is formed in a boss of the rotating body and a plurality of internal thread holes(126) for the rotating body are formed on the side surface of the rotating body. A screw hole(142) is formed in an end cap(140), corresponding to the internal thread hole for the revolving shaft in the center of the end cap and corresponding to the internal thread hole for the rotating body in the outer of the end cap. The end cap is coupled to the revolving shaft and the rotating body by using a screw(130).
摘要翻译：目的：提供一种用于离子注入机的旋转轴和旋转体的连接系统，通过使旋转轴和旋转体作为一体旋转，消除植入晶片台板的离子束扭曲的现象。构成：在旋转轴的轴向形成有键（112），在旋转轴的端面形成有用于回转轴的内螺纹孔（114）。在旋转体的凸台上形成与键槽接合的突起（122），并且在旋转体的侧面上形成有用于旋转体的多个内螺纹孔（126）。在端帽（140）中形成螺纹孔（142），对应于端盖中心的旋转轴的内螺纹孔，与端盖外侧的旋转体的内螺纹孔对应帽。端盖通过使用螺钉（130）联接到旋转轴和旋转体。

24. 发明公开

KR1019970052150A 반도체 제조 장치의 냉각 방법 无效
标题翻译：半导体制造装置的冷却方法
公开(公告)号：KR1019970052150A
公开(公告)日：1997-07-29
申请号：KR1019950059291
申请日：1995-12-27
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이종오 , 박동철 , 제성태 , 김학영
IPC分类号： H01L21/265
摘要： 본 발명은 반도체제조장치인 이온주입시스템을 냉각시키는 방법에 관한 것으로서, 웨이퍼로 도프되는 불순물원소의 이온을 생성하는 이온주입소스부(10)와, 이온에 필요한 에너지를 부여하는 빔라인부(20)에 각각 별도로 설치된 제1,2냉각경로를 통하여 냉각용 초순수가 흐르도록 하는 단계를 포함한다. 상술한 냉각방법에 의한면, 각 냉각경로에 금속오염이 발생하더라도 이온주입소스부(10)와 빔라인부(20)의 전기적 단락발생을 방지할 수 있으므로, 상기 이온주입장치의 안정성을 향상시킬 수 있다.

25. 发明公开

KR1020170127724A 플라즈마 처리 장치 审中-实审
标题翻译：等离子处理设备
公开(公告)号：KR1020170127724A
公开(公告)日：2017-11-22
申请号：KR1020160058189
申请日：2016-05-12
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이준수 , 우제헌 , 김응수 , 김학영 , 정상민
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32724 , H01J37/32091 , H01J37/3244 , H01J37/32642 , H01J37/3299 , H01J2237/334
摘要： 본발명의기술적사상은플라즈마가처리되는공간을제공하는공정챔버, 상기공정챔버내에구비되며, 웨이퍼가탑재되는하부전극, 상기공정챔버내에구비되며, 상기하부전극과마주보는상부전극, 상기상부전극과상기하부전극사이로공정가스를공급하는가스공급부, 상기하부전극에탑재된상기웨이퍼의가장자리를둘러싸도록상기하부전극상에배치되는포커스링, 상기포커스링의하측에배치되고소정간격으로서로이격된제1 몸체들로이루어진엣지링, 상기제1 몸체들내부에설치된복수개의히터들, 및상기히터들각각의구동을제어하는히터제어기를포함하는플라즈마처리장치를제공한다.
摘要翻译：本发明的技术思想是提供一种用于提供处理等离子体的空间的处理室，设置在其上安装晶片的处理室中的下电极，设置在处理室中的上电极，并且，在下部电极上以包围搭载于下部电极上的晶片的边缘的方式配置有聚焦环，聚焦环配置在聚焦环的下侧，由第一主体形成的边缘环，设置在第一主体中的多个加热器以及用于控制每个加热器的驱动的加热器控制器。

26. 发明公开

KR1020170019011A 커버 플레이트 및 그를 포함하는 플라즈마 처리 장치 审中-实审
标题翻译：盖板和等离子体处理装置
公开(公告)号：KR1020170019011A
公开(公告)日：2017-02-21
申请号：KR1020150112533
申请日：2015-08-10
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 선종우 , 김학영
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32532 , H01J37/32082 , H01J37/321 , H01J37/32119 , H01J37/3244 , H01L21/3065
摘要： 본발명은커버플레이트및 그를구비하는플라즈마처리장치를개시한다. 그의장치는윈도우와, 윈도우상에배치된안테나전극과, 안테나전극및 상기윈도우사이로부터상기윈도우의측벽까지연장하여상기윈도우를덮는커버플레이트를포함한다.
摘要翻译：公开了一种盖板，等离子体处理系统及其等离子体处理方法。等离子体处理系统可以包括窗口，设置在窗户上的天线电极以及设置在天线电极和窗户之间以覆盖窗口的顶部和侧面的盖板。

27. 发明公开

KR1020150014336A 디스플레이 장치 审中-实审
标题翻译：显示设备
公开(公告)号：KR1020150014336A
公开(公告)日：2015-02-06
申请号：KR1020130089894
申请日：2013-07-29
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김학영 , 김고현
IPC分类号： H04N5/64 , H04N5/44 , G06F1/16
CPC分类号： H04N5/2251 , G06F1/1605 , G06F3/017 , H04N5/2257 , H04N5/64 , G06F1/16 , G06F1/1601 , H04N5/44 , H04N5/4403
摘要： 본 발명의 일 실시예에 따른 사용자 인터렉션을 제공하는 디스플레이 장치는, 표시 화면을 가진 디스플레이 본체; 상기 디스플레이 본체에 장착되며, 사용자 인터렉션을 위해 사용자를 촬영하는 카메라 모듈; 및 상기 카메라 모듈에 광이 입사되는 것을 차단하는 제1 위치와 상기 카메라 모듈에 광이 입사되는 것을 허용하는 제2 위치 사이에서 슬라이딩 이동 가능한 카메라 도어;를 포함한다.
摘要翻译：本发明提供一种显示装置。根据本发明的实施例，提供用户交互的显示设备包括：具有显示屏的显示体; 照相机模块，其安装在显示器主体上并拍摄用户进行用户交互; 以及相机门，其在用于阻挡光入射到相机模块的第一位置和用于允许光入射到相机模块的第二位置之间滑动和移动。

28. 发明公开

KR1020140103578A 디스플레이 장치 审中-实审
标题翻译：显示设备
公开(公告)号：KR1020140103578A
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：KR1020130017118
申请日：2013-02-18
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김학영 , 김고현
IPC分类号： H04N5/64 , G06F1/16
CPC分类号： G06F3/017 , H04N5/2257 , H04N5/4403 , H04N5/64 , H04N21/4223 , H04N21/44218 , G06F1/16 , G06F1/1605
摘要： A display apparatus for providing a user interaction, according to an embodiment of the present invention, is a photographing unit including a display main body having an image displaying surface and a camera module for shooting a user for user gesture detection, wherein the photographing unit is disposed in a first position provided within the display device when not photographing, and is disposed in a second position which protrudes from the outside of the display main body when photographing. The camera module is disposed closer to the image displaying surface when the photographing unit is in the second position rather than the first position.
摘要翻译：根据本发明的实施例的用于提供用户交互的显示装置是一种拍摄单元，包括：具有图像显示面的显示主体和用于拍摄用户手势检测的用户的相机模块，其中拍摄单元是设置在不拍摄时设置在显示装置内的第一位置，并且被布置在从拍摄时从显示器主体的外部突出的第二位置。当拍摄单元处于第二位置而不是第一位置时，相机模块设置成更靠近图像显示表面。

29. 发明公开

KR1020070079405A 웨이퍼 히터에 물질막 증착을 방지하는 챔버 无效
标题翻译：防止材料薄膜沉积在加热器上
公开(公告)号：KR1020070079405A
公开(公告)日：2007-08-07
申请号：KR1020060010039
申请日：2006-02-02
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김학영
IPC分类号： H01L21/20
CPC分类号： C23C16/4409 , C23C16/42
摘要： A chamber is provided to improve the performance of a wafer heater and to restrain the increase of costs due to the replacement of the wafer heater by preventing a material layer from being deposited on an outer heater of the wafer heater using an improved connection structure between the outer heater and a guide ring. A chamber includes a wafer heater and a guide ring. The wafer heater(100) heats a wafer and is composed of an inner heater(120) and an outer heater(140). The guide ring(200a) encloses the outer heater. A free-gap structure is formed between the outer heater and the guide ring, so that a material layer is prevented from being deposited on the outer heater. The material layer is made of WSix.
摘要翻译：设置室以提高晶片加热器的性能，并且通过防止材料层沉积在晶片加热器的外部加热器上，由于更换晶片加热器而限制了成本的增加，其使用改进的连接结构外加热器和导环。腔室包括晶片加热器和引导环。晶片加热器（100）加热晶片并由内部加热器（120）和外部加热器（140）组成。引导环（200a）包围外部加热器。在外部加热器和引导环之间形成自由间隙结构，从而防止材料层沉积在外部加热器上。材料层由WSix制成。

30. 发明公开

KR1020040003333A 반도체 제조설비의 히터전류 모니터링장치 无效
标题翻译：半导体制造设备加热器电流监测装置
公开(公告)号：KR1020040003333A
公开(公告)日：2004-01-13
申请号：KR1020020037999
申请日：2002-07-02
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김학영
IPC分类号： H01L21/66
摘要： PURPOSE: A heater current monitoring apparatus of a semiconductor manufacturing equipment is provided to be capable of preventing the fail of a heater. CONSTITUTION: A heater current monitoring apparatus of a semiconductor manufacturing equipment is provided with an inner heater(56) and an outer heater(54). The heater current monitoring apparatus further includes an inner current meter(48) for measuring the first current supplied to the inner heater and displaying the first current value, and an outer current meter(52) for measuring the second current supplied to the outer heater and displaying the second current value. Preferably, the heater current monitoring apparatus further includes a controller(58) for outputting an interlock signal and an alarm generating signal after comparing the first and second current value measured by the inner and outer current meter, with a reference current value.
摘要翻译：目的：提供半导体制造设备的加热器电流监视装置，以能够防止加热器的故障。构成：半导体制造装置的加热器电流监视装置具有内部加热器（56）和外部加热器（54）。加热器电流监视装置还包括用于测量提供给内部加热器的第一电流并显示第一电流值的内部电流计（48），以及用于测量提供给外部加热器的第二电流的外部电流计（52）显示第二个当前值。优选地，加热器电流监视装置还包括控制器（58），用于在将由内外电流表测量的第一和第二电流值与参考电流值进行比较之后输出互锁信号和报警产生信号。

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