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    • 16. 发明申请
    • PHOTOVOLTAISCHER HALBLEITERCHIP
    • 光伏半导体芯片
    • WO2013045574A1
    • 2013-04-04
    • PCT/EP2012/069124
    • 2012-09-27
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHVON MALM, NorwinLUGAUER, Hans-Jürgen
    • VON MALM, NorwinLUGAUER, Hans-Jürgen
    • H01L27/142H01L31/0352H01L31/0725H01L31/0735H01L31/0236
    • H01L31/035272H01L31/02363H01L31/035281H01L31/046H01L31/0465H01L31/0725H01L31/0735Y02E10/544Y02P70/521
    • Es wird ein photovoltaischer Halbleiterchip (1) mit einem Halbleiterkörper (2), der eine Halbleiterschichtenfolge mit einem zur Erzeugung von elektrischer Energie vorgesehenen aktiven Bereich (20) aufweist, angegeben. Der aktive Bereich (20) ist zwischen einer ersten Halbleiterschicht (21) eines ersten Leitungstyps und einer zweiten Halbleiterschicht (22) eines vom ersten Leitungstyp verschiedenen zweiten Leitungstyps ausgebildet ist. Der Halbleiterkörper (2) ist auf einem Trägerkörper (5) angeordnet. Die erste Halbleiterschicht (21) ist auf der dem Trägerkörper (5) abgewandten Seite der zweiten Halbleiterschicht (22) angeordnet. Der Halbleiterkörper (2) weist zumindest eine Ausnehmung (25) auf, die sich vom Trägerkörper (5) durch die zweite Halbleiterschicht (22) hindurch erstreckt. Zumindest bereichsweise zwischen dem Trägerkörper (5) und dem Halbleiterkörper (2) ist eine erste Anschlussstruktur (31) angeordnet, die in der Ausnehmung (25) mit der ersten Halbleiterschicht (21) elektrisch leitend verbunden ist.
    • 它是包含具有与所提供的用于产生电能的有源区域(20)所表示的半导体层序列的半导体主体(2)的光电半导体芯片(1)。 第一导电类型的第一半导体层(21)和从所述第二导电型不同的第一导电类型的第二半导体层(22)之间的有源区(20)形成。 该半导体主体(2)被布置在载体上(5)。 在第一半导体层(21)是在承载体(5)的面对从所述第二半导体层(22)远侧。 该半导体主体(2)具有从承载体的至少一个凹部(25)(5)延伸穿过所述第二半导体层(22)穿过其中。 至少在所述载体本体(5)和所述半导体主体之间的区域(2)是布置在所述凹部(25)的第一连接结构(31)与所述第一半导体层(21)被导电地连接。
    • 20. 发明申请
    • STRAHLUNGSEMITTIERENDER HALBLEITERCHIP
    • 发射辐射的半导体芯片
    • WO2010060404A1
    • 2010-06-03
    • PCT/DE2009/001524
    • 2009-10-29
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHMOOSBURGER, JürgenVON MALM, NorwinRODE, PatrickHÖPPEL, LutzENGL, Karl
    • MOOSBURGER, JürgenVON MALM, NorwinRODE, PatrickHÖPPEL, LutzENGL, Karl
    • H01L25/16H01L27/15H01L33/38H01L33/08
    • H01L27/15H01L25/167H01L33/005H01L33/02H01L33/08H01L33/382H01L33/62H01L2924/0002H01L2933/0016H01L2924/00
    • Es wird ein strahlungsemittierender Halbleiterchip (1) angegeben, der einen Träger (5) und einen Halbleiterkörper (2) mit einer Halbleiterschichtenfolge aufweist. In dem Halbleiterkörper (2) mit der Halbleiterschichtenfolge ist ein Emissionsbereich (23) und ein Schutzdiodenbereich (24) gebildet. Die Halbleiterschichtenfolge umfasst einen zur Erzeugung von Strahlung vorgesehenen aktiven Bereich (20) der zwischen einer ersten Halbleiterschicht (21) und einer zweiten Halbleiterschicht (22) angeordnet ist. Die erste Halbleiterschicht (21) ist auf der dem Träger (5) abgewandten Seite des aktiven Bereichs (20) angeordnet. Der Emissionsbereich (23) weist eine Ausnehmung (25) auf, die sich durch den aktiven Bereich hindurch erstreckt. Die erste Halbleiterschicht (21) ist im Emissionsbereich (23) elektrisch leitend mit einer ersten Anschlussschicht (31) verbunden, wobei sich die erste Anschlussschicht in der Ausnehmung (25) von der ersten Halbleiterschicht (21) in Richtung des Trägers (5) erstreckt. Die erste Anschlussschicht im Schutzdiodenbereich (24) ist mit der zweiten Halbleiterschicht (22) elektrisch leitend verbunden. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung eines strahlungsemittierenden Halbleiterchips angegeben.
    • 提供了一种具有一个支撑件(5)和(2),其具有半导体层序列的半导体主体中的发射辐射的半导体芯片(1)。 在半导体主体(2)与该半导体层序列,发射区域(23)和一个保护二极管区(24)形成。 半导体层序列包括打算用于第一半导体层(21)和被布置在第二半导体层(22)之间产生辐射激活区(20)。 在第一半导体层(21)是在(5)的面对从有源区域(20)离开侧上的支撑。 发射区域(23)具有延伸穿过所述活性区域穿过其的凹部(25)。 在发射区(23)中的第一半导体层(21)被导电地连接到第一连接层(31),其中,从在所述载体(5)的方向上的第一半导体层(21)延伸在所述凹部(25)的第一连接层。 在保护二极管区(24)的第一连接层连接到导电连接在第二半导体层(22)。 此外,被指定用于制造发射辐射的半导体芯片的方法。