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101. 发明专利

TW200831546A 濕浸式微影用共聚物及組合物审中-公开
简体标题：湿浸式微影用共聚物及组合物
公开(公告)号：TW200831546A
公开(公告)日：2008-08-01
申请号：TW096141736
申请日：2007-11-05
申请人：丸善石油化學股份有限公司 MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：山岸孝則 YAMAGISHI, TAKANORI , 及川知 OIKAWA, TOMO , 岡田剛宜 OKADA, TAKAYOSHI
IPC分类号： C08F , G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/28 , G03F7/2041 , Y10S430/111 , Y10S430/115
摘要：本發明提供一種賦予適於濕浸式微影之表面特性的共聚物、以及含有該共聚物之組合物,可抑制浮水印等圖案缺陷、或因輻射敏感型酸產生劑等添加物溶析引起之靈敏度或圖案形狀異常等。本發明之濕浸式微影用共聚物之特徵在於,其係至少含有因酸之作用而使保護基解離產生鹼溶性基之重複單元(A)、以及具有內酯結構之重複單元(B)的共聚物,且對該共聚物之丙二醇單甲醚乙酸酯(以下亦稱作「PGMEA」)溶液塗佈於晶圓上後加熱形成之薄膜,滴加純水15��l,水滴開始移動時晶圓之傾角為35�以下,或者水滴開始移動時水滴最上部之接觸角為64�以上。
简体摘要：本发明提供一种赋予适于湿浸式微影之表面特性的共聚物、以及含有该共聚物之组合物,可抑制浮水印等图案缺陷、或因辐射敏感型酸产生剂等添加物溶析引起之灵敏度或图案形状异常等。本发明之湿浸式微影用共聚物之特征在于,其系至少含有因酸之作用而使保护基解离产生碱溶性基之重复单元(A)、以及具有内酯结构之重复单元(B)的共聚物,且对该共聚物之丙二醇单甲醚乙酸酯(以下亦称作“PGMEA”)溶液涂布于晶圆上后加热形成之薄膜,滴加纯水15��l,水滴开始移动时晶圆之倾角为35�以下,或者水滴开始移动时水滴最上部之接触角为64�以上。

102. 发明专利

TW201706317A 經改良的含羥基乙烯醚聚合物之製造方法审中-公开
简体标题：经改良的含羟基乙烯醚聚合物之制造方法
公开(公告)号：TW201706317A
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：TW105121012
申请日：2016-07-01
申请人：丸善石油化學股份有限公司 , MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：杉原伸治 , SUGIHARA, SHINJI , 吉田憲弘 , YOSHIDA, NORIHIRO
IPC分类号： C08F16/26 , C07C245/04
CPC分类号： C08F16/26 , C08F4/04 , C08K3/18 , C08L29/10 , C09D11/00 , C09D129/10 , C09J129/10
摘要：一種簡便且有效率的含羥基乙烯醚聚合物之製造方法，其藉由減少聚合起始劑之使用量之同時，使單體轉化率提升、且抑制聚縮醛之生成，而無需去除殘留單體或起始劑殘渣等的低沸點雜質、或聚縮醛等的步驟。藉由本發明之含羥基乙烯醚聚合物之製造方法，其包含下述步驟：在作為聚合溶劑之水及作為聚合起始劑之下述式(1)所表示之偶氮系化合物之存在下，將由下述式(2)所表示之具有羥基之乙烯醚所選出之至少1種的乙烯醚進行自由基聚合之步驟， (式中，R1~R4係分別獨立表示氫原子或烷基，R5及R6係分別獨立表示可具有取代基之烷氧基或可具有取代基之烷基胺基) (式中，R7係表示包含直鏈狀、支鏈狀或脂環構造之伸烷基，p係1、2或3)。
简体摘要：一种简便且有效率的含羟基乙烯醚聚合物之制造方法，其借由减少聚合起始剂之使用量之同时，使单体转化率提升、且抑制聚缩醛之生成，而无需去除残留单体或起始剂残渣等的低沸点杂质、或聚缩醛等的步骤。借由本发明之含羟基乙烯醚聚合物之制造方法，其包含下述步骤：在作为聚合溶剂之水及作为聚合起始剂之下述式(1)所表示之偶氮系化合物之存在下，将由下述式(2)所表示之具有羟基之乙烯醚所选出之至少1种的乙烯醚进行自由基聚合之步骤， (式中，R1~R4系分别独立表示氢原子或烷基，R5及R6系分别独立表示可具有取代基之烷氧基或可具有取代基之烷基胺基) (式中，R7系表示包含直链状、支链状或脂环构造之伸烷基，p系1、2或3)。

103. 发明专利

TW201509930A 環狀碳酸酯之連續製造方法审中-公开
简体标题：环状碳酸酯之连续制造方法
公开(公告)号：TW201509930A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103124586
申请日：2014-07-17
申请人：丸善石油化學股份有限公司 , MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD. , 獨立行政法人產業技術綜合研究所 , NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：何木隆史 , NANIKI, TAKASHI , 林泰憲 , HAYASHI, YASUNORI , 澤田悟郎 , SAWADA, GORO , 古川拓郎 , FURUKAWA, TAKURO , 春名健志 , HARUNA, TAKESHI , 高橋利和 , TAKAHASHI, TOSHIKAZU , 安田弘之 , YASUDA, HIROYUKI , 山本昭治 , YAMAMOTO, SHOUJI
IPC分类号： C07D317/36 , C07C68/04 , C07C68/08 , B01J27/14 , B01J27/24 , B01J8/06
CPC分类号： C07D317/38 , B01J27/08 , B01J31/0231 , B01J31/0239 , B01J31/0254 , B01J31/0268 , B01J31/0269 , B01J31/0271 , B01J2231/341 , B01J2531/90
摘要：本發明提供一種環狀碳酸酯之連續製造方法，其可抑制環狀碳酸酯合成反應中之二醇之生成，即便藉由簡便之精製亦可高效率地獲得高純度之環狀碳酸酯。本發明之製造方法之特徵在於：其係於固定床管式反應器中填充觸媒，將二氧化碳與環氧化物連續地供給至上述固定床管式反應器中使其等與觸媒接觸，並且將上述固定床管式反應器中之反應液連續地抽出的環狀碳酸酯之連續製造方法，該製造方法具備預處理步驟，該預處理步驟係於將二氧化碳與環氧化物供給至上述固定床管式反應器中之前，使含有環狀碳酸酯之預處理液與上述觸媒接觸，並將所生成之二醇去除至系統外。
简体摘要：本发明提供一种环状碳酸酯之连续制造方法，其可抑制环状碳酸酯合成反应中之二醇之生成，即便借由简便之精制亦可高效率地获得高纯度之环状碳酸酯。本发明之制造方法之特征在于：其系于固定床管式反应器中填充触媒，将二氧化碳与环氧化物连续地供给至上述固定床管式反应器中使其等与触媒接触，并且将上述固定床管式反应器中之反应液连续地抽出的环状碳酸酯之连续制造方法，该制造方法具备预处理步骤，该预处理步骤系于将二氧化碳与环氧化物供给至上述固定床管式反应器中之前，使含有环状碳酸酯之预处理液与上述触媒接触，并将所生成之二醇去除至系统外。

104. 发明专利

TWI461402B （甲基）丙烯酸羥烷酯之製造方法有权
简体标题：（甲基）丙烯酸羟烷酯之制造方法
公开(公告)号：TWI461402B
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：TW098139612
申请日：2009-11-20
申请人：日立化成股份有限公司 , HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. , 丸善石油化學股份有限公司 , MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD. , 伊藤忠富隆達化工股份有限公司 , ITOCHU CHEMICAL FRONTIER CORPORATION
发明人：龜井淳一 , KAMEI, JUNICHI , 羽場一彥 , HABA, KAZUHIKO
IPC分类号： C07C69/54 , C07C67/297
CPC分类号： C07C67/03 , C07C67/29 , C07C2601/14 , C07C69/54

105. 发明专利

TW201442782A 環狀碳酸酯合成用觸媒之製造方法审中-公开
简体标题：环状碳酸酯合成用触媒之制造方法
公开(公告)号：TW201442782A
公开(公告)日：2014-11-16
申请号：TW103114439
申请日：2014-04-21
申请人：獨立行政法人產業技術綜合研究所 , NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY , 丸善石油化學股份有限公司 , MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：高橋利和 , TAKAHASHI, TOSHIKAZU , 安田弘之 , YASUDA, HIROYUKI , 坂倉俊康 , SAKAKURA, TOSHIYASU , 山本昭治 , YAMAMOTO, SHOUJI , 何木隆史 , NANIKI, TAKASHI , 古川拓郎 , FURUKAWA, TAKURO
IPC分类号： B01J37/28 , B01J27/14 , C07F9/54 , C07D325/00 , C07D317/36
CPC分类号： C07D317/38 , B01J21/08 , B01J27/08 , B01J27/182 , B01J31/0231 , B01J31/0267 , B01J31/0268 , B01J31/0269 , B01J31/0271 , B01J31/069 , B01J35/1019 , B01J35/1023 , B01J35/1061 , B01J2231/341 , C07D317/36
摘要：本發明提供一種簡便且以低成本製造用於使環氧化物與二氧化碳反應而合成環狀碳酸酯之具有優異觸媒活性之非均相系觸媒的方法、利用該製造方法所獲得之觸媒、及使用該觸媒之環狀碳酸酯之合成方法。本發明係一種觸媒之製造方法，其係用於使環氧化物與二氧化碳反應而合成環狀碳酸酯之觸媒之製造方法，且包含下述步驟(a)及(b)：(a)使具有鹵烷基或鹵芳基之矽烷化合物與平均細孔徑為3.5~50 nm之範圍之矽膠反應，而獲得具有鹵烷基或鹵芳基之觸媒前驅物的步驟；(b)使步驟(a)中所獲得之觸媒前驅物與三級膦反應，而獲得鹵素含量與磷含量之莫耳比[鹵素/磷]為0.8~1.6之環狀碳酸酯合成用觸媒的步驟。
简体摘要：本发明提供一种简便且以低成本制造用于使环氧化物与二氧化碳反应而合成环状碳酸酯之具有优异触媒活性之非均相系触媒的方法、利用该制造方法所获得之触媒、及使用该触媒之环状碳酸酯之合成方法。本发明系一种触媒之制造方法，其系用于使环氧化物与二氧化碳反应而合成环状碳酸酯之触媒之制造方法，且包含下述步骤(a)及(b)：(a)使具有卤烷基或卤芳基之硅烷化合物与平均细孔径为3.5~50 nm之范围之硅胶反应，而获得具有卤烷基或卤芳基之触媒前驱物的步骤；(b)使步骤(a)中所获得之触媒前驱物与三级膦反应，而获得卤素含量与磷含量之莫耳比[卤素/磷]为0.8~1.6之环状碳酸酯合成用触媒的步骤。

106. 发明专利

TW201425363A 光微影術用樹脂之精製方法审中-公开
简体标题：光微影术用树脂之精制方法
公开(公告)号：TW201425363A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW102141265
申请日：2013-11-13
申请人：丸善石油化學股份有限公司 , MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：及川知 , OIKAWA, TOMO
IPC分类号： C08F6/12 , G03F7/26
CPC分类号： C08F220/10 , C08F6/28 , C08F232/08
摘要：本發明之課題在於提供一種光微影術用樹脂之精製方法，其可更有效地去除：在光微影術中成為導致光阻圖型的顯影缺陷或光微影術用樹脂的保存穩定性降低之要因之光微影術用樹脂中所含有之未反應單體或聚合起始劑等之低分子量雜質。本發明之解決手段如下：本發明之光微影術用樹脂之精製方法，其特徵為包含：操作(a)：將使樹脂分散於含有良溶劑與不良溶劑之溶液中之漿液予以攪拌之操作；接著操作(b)：將不良溶劑追加於該漿液以降低良溶劑相對於不良溶劑之比率後，使樹脂與溶液分離之操作。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种光微影术用树脂之精制方法，其可更有效地去除：在光微影术中成为导致光阻图型的显影缺陷或光微影术用树脂的保存稳定性降低之要因之光微影术用树脂中所含有之未反应单体或聚合起始剂等之低分子量杂质。本发明之解决手段如下：本发明之光微影术用树脂之精制方法，其特征为包含：操作(a)：将使树脂分散于含有良溶剂与不良溶剂之溶液中之浆液予以搅拌之操作；接着操作(b)：将不良溶剂追加于该浆液以降低良溶剂相对于不良溶剂之比率后，使树脂与溶液分离之操作。

107. 发明专利

TWI432893B 半導體微影用共聚物及其製造方法有权
简体标题：半导体微影用共聚物及其制造方法
公开(公告)号：TWI432893B
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW096146554
申请日：2007-12-06
申请人：丸善石油化學股份有限公司 , MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：山岸孝則 , YAMAGISHI, TAKANORI , 工藤昌章 , KUDO, MASAAKI , 山口賢志 , YAMAGUCHI, SATOSHI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/28 , C08F212/14 , C08F220/38
CPC分类号： C08F2/06 , C08F12/24 , C08F212/14 , C08F220/14 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/32 , G03F7/0397

108. 发明专利

TWI404732B 熱壓模用樹脂及其使用、暨熱壓模方法有权
简体标题：热压模用树脂及其使用、暨热压模方法
公开(公告)号：TWI404732B
公开(公告)日：2013-08-11
申请号：TW095135528
申请日：2006-09-26
申请人：丸善石油化學股份有限公司 , MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：竹森利郁 , TAKEMORI, TOSHIFUMI , 高谷佳輝 , TAKAYA YOSHIAKI , 三田孝仁 , MITA TAKAHITO , 飯塚徹也 , IIZUKA TETSUYA , 羽鳥裕二 , HASHIMA YUJI , 楠浦崇央 , KUSUURA TAKAHISA , 藤井充 , FUJII, MITSURU , 田口拓志 , TAGUCHI TAKUJI , 米特拉阿努潘 , MITRA ANUPAM
IPC分类号： C08F32/00 , B29C59/02
CPC分类号： B29C59/005 , B29C59/026 , B29K2045/00 , C08F232/08 , C08G61/06 , C08G61/08 , H05K1/032 , H05K3/0014 , H05K3/107 , H05K2201/0158 , H05K2203/0108

109. 发明专利

TW200837495A 半導體微影用共聚物及其製造方法审中-公开
简体标题：半导体微影用共聚物及其制造方法
公开(公告)号：TW200837495A
公开(公告)日：2008-09-16
申请号：TW096146554
申请日：2007-12-06
申请人：丸善石油化學股份有限公司 MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：山岸孝則 YAMAGISHI, TAKANORI , 工藤昌章 KUDO, MASAAKI , 山口賢志 YAMAGUCHI, SATOSHI
IPC分类号： G03F , C08F
CPC分类号： C08F2/06 , C08F12/24 , C08F212/14 , C08F220/14 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/32 , G03F7/0397
摘要：本發明提供一種半導體微影用共聚物及以工業規模穩定製造該共聚物之方法,該共聚物係用於形成半導體微影中使用之光阻膜或於光阻膜之上層或下層形成之抗反射膜、間隙填充膜、面塗膜等薄膜者,其對薄膜形成用組合物溶液之溶解性優異,難以產生微凝膠等微粒子,難以產生圖案缺陷。一種半導體微影用共聚物及其製造法,該共聚物之特徵在於:其係包含選自含羥基之重複單元(A)、具有抑制對鹼性顯影液之溶解且以於酸之作用下解離之基保護羥基之結構的重複單元(B)、具有內酯結構之重複單元(C)及具有環狀醚結構之重複單元(D)中之至少1種以上之重複單元者,使包含該共聚物且黏度為15 mPa.sec之丙二醇單甲醚乙酸酯溶液,於壓力差為0.1 MPa且細孔徑為0.03 ��m之過濾器中通液60分鐘時,該過濾器單位面積之平均流速為200 g/min/m^2以上。
简体摘要：本发明提供一种半导体微影用共聚物及以工业规模稳定制造该共聚物之方法,该共聚物系用于形成半导体微影中使用之光阻膜或于光阻膜之上层或下层形成之抗反射膜、间隙填充膜、面涂膜等薄膜者,其对薄膜形成用组合物溶液之溶解性优异,难以产生微凝胶等微粒子,难以产生图案缺陷。一种半导体微影用共聚物及其制造法,该共聚物之特征在于:其系包含选自含羟基之重复单元(A)、具有抑制对碱性显影液之溶解且以于酸之作用下解离之基保护羟基之结构的重复单元(B)、具有内酯结构之重复单元(C)及具有环状醚结构之重复单元(D)中之至少1种以上之重复单元者,使包含该共聚物且黏度为15 mPa.sec之丙二醇单甲醚乙酸酯溶液,于压力差为0.1 MPa且细孔径为0.03 ��m之过滤器中通液60分钟时,该过滤器单位面积之平均流速为200 g/min/m^2以上。

110. 发明专利

TW200641537A 正型感光性樹脂,其製造方法以及含有此正型感光樹脂之光阻組成物 POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN, PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF, AND RESIST COMPOSITION CONTAINING POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN 失效
简体标题：正型感光性树脂,其制造方法以及含有此正型感光树脂之光阻组成物 POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN, PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF, AND RESIST COMPOSITION CONTAINING POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN
公开(公告)号：TW200641537A
公开(公告)日：2006-12-01
申请号：TW095107757
申请日：2006-03-08
申请人：丸善石油化學股份有限公司 MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：青木聖 HIJIRI AOKI , 三田孝仁 TAKAHITO MITA
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要：〔課題〕提供一種使用於半導體製造之細微圖案形成、較佳是使用於比習知產品更佳之高感度半導體微影中的正型感光性樹脂及含有此正型感光樹脂之光阻組成物。〔解決手段〕本發明之正型感光性樹脂係因酸作用而解離出酸不穩定保護基，且增大對鹼顯影液之溶解度，前述樹脂之高分子主鏈具有如一般式(1)所示結構。095107757-p01.bmp(式中，X1及X2係表示相互獨立、相同或相異、碳數為1至30之直鏈或分枝的碳氫基、脂環式碳氫基、芳香族碳氫基或雜環基，其中置換基係以碳數為1至6之直鏈或分枝的碳氫基或–O–碳氫基置換，Y1及Y2係表示相互獨立、相同或相異、具有氫原子、碳數為1至6之直鏈或分枝的碳氫基、含硫碳氫基等置換基的芳香族碳氫基，又Z係表示相同或相異、氧原子或硫原子)095107757-p01.bmp
简体摘要：〔课题〕提供一种使用于半导体制造之细微图案形成、较佳是使用于比习知产品更佳之高感度半导体微影中的正型感光性树脂及含有此正型感光树脂之光阻组成物。〔解决手段〕本发明之正型感光性树脂系因酸作用而解离出酸不稳定保护基，且增大对碱显影液之溶解度，前述树脂之高分子主链具有如一般式(1)所示结构。095107757-p01.bmp(式中，X1及X2系表示相互独立、相同或相异、碳数为1至30之直链或分枝的碳氢基、脂环式碳氢基、芳香族碳氢基或杂环基，其中置换基系以碳数为1至6之直链或分枝的碳氢基或–O–碳氢基置换，Y1及Y2系表示相互独立、相同或相异、具有氢原子、碳数为1至6之直链或分枝的碳氢基、含硫碳氢基等置换基的芳香族碳氢基，又Z系表示相同或相异、氧原子或硫原子)095107757-p01.bmp

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