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1. 发明专利

TWI453536B 半導體微影接枝用共聚物之製造方法有权
简体标题：半导体微影接枝用共聚物之制造方法
公开(公告)号：TWI453536B
公开(公告)日：2014-09-21
申请号：TW096139450
申请日：2007-10-22
申请人：丸善石油化學股份有限公司 , MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：及川知 , TOMO OIKAWA , 岡田剛宜 , TAKAYOSHI OKADA , 工藤昌章 , MASAAKI KUDO , 山岸孝則 , TAKANORI YAMAGISHI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/10
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F2220/283 , G03F7/2041

2. 发明专利

TWI426348B 半導體微影製程用共聚合體製造方法失效
简体标题：半导体微影制程用共聚合体制造方法
公开(公告)号：TWI426348B
公开(公告)日：2014-02-11
申请号：TW095115599
申请日：2006-05-02
申请人：丸善石油化學股份有限公司 , MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：山岸孝則 , TAKANORI YAMAGISHI , 及川知 , TOMO OIKAWA , 室井雅昭 , MASAAKI MUROI , 厚地浩太 , KOTA ATSUCHI , 中村孝弘 , TAKAHIRO NAKAMURA , 山田雅和 , MASAKAZU YAMADA , 最所賢介 , KENSUKE SAISYO , 竹下優 , MASARU TAKESHITA
IPC分类号： G03F7/039 , C08F18/02 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/28 , G03F7/0046

3. 发明专利

TWI454486B 光阻用共聚物的製造方法有权
简体标题：光阻用共聚物的制造方法
公开(公告)号：TWI454486B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW098134962
申请日：2009-10-15
申请人：丸善石油化學股份有限公司 , MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：及川知 , OIKAWA, TOMO , 伊川英市 , IKAWA, EIICHI
IPC分类号： C08F2/06 , C08F220/18 , C08F220/28 , G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： C08F2/06 , C08F2/00 , C08F220/28

4. 发明专利

TW201425363A 光微影術用樹脂之精製方法审中-公开
简体标题：光微影术用树脂之精制方法
公开(公告)号：TW201425363A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW102141265
申请日：2013-11-13
申请人：丸善石油化學股份有限公司 , MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：及川知 , OIKAWA, TOMO
IPC分类号： C08F6/12 , G03F7/26
CPC分类号： C08F220/10 , C08F6/28 , C08F232/08
摘要：本發明之課題在於提供一種光微影術用樹脂之精製方法，其可更有效地去除：在光微影術中成為導致光阻圖型的顯影缺陷或光微影術用樹脂的保存穩定性降低之要因之光微影術用樹脂中所含有之未反應單體或聚合起始劑等之低分子量雜質。本發明之解決手段如下：本發明之光微影術用樹脂之精製方法，其特徵為包含：操作(a)：將使樹脂分散於含有良溶劑與不良溶劑之溶液中之漿液予以攪拌之操作；接著操作(b)：將不良溶劑追加於該漿液以降低良溶劑相對於不良溶劑之比率後，使樹脂與溶液分離之操作。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种光微影术用树脂之精制方法，其可更有效地去除：在光微影术中成为导致光阻图型的显影缺陷或光微影术用树脂的保存稳定性降低之要因之光微影术用树脂中所含有之未反应单体或聚合起始剂等之低分子量杂质。本发明之解决手段如下：本发明之光微影术用树脂之精制方法，其特征为包含：操作(a)：将使树脂分散于含有良溶剂与不良溶剂之溶液中之浆液予以搅拌之操作；接着操作(b)：将不良溶剂追加于该浆液以降低良溶剂相对于不良溶剂之比率后，使树脂与溶液分离之操作。

5. 发明专利

TWI583712B 光微影術用樹脂之精製方法有权
简体标题：光微影术用树脂之精制方法
公开(公告)号：TWI583712B
公开(公告)日：2017-05-21
申请号：TW102141265
申请日：2013-11-13
申请人：丸善石油化學股份有限公司 , MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：及川知 , OIKAWA, TOMO
IPC分类号： C08F6/12 , G03F7/26
CPC分类号： C08F220/10 , C08F6/28 , C08F232/08

6. 发明专利

TWI400253B 濕浸式微影用共聚物及組合物有权
简体标题：湿浸式微影用共聚物及组合物
公开(公告)号：TWI400253B
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW096141736
申请日：2007-11-05
申请人：丸善石油化學股份有限公司 , MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD.
发明人：山岸孝則 , YAMAGISHI, TAKANORI , 及川知 , OIKAWA, TOMO , 岡田剛宜 , OKADA, TAKAYOSHI
IPC分类号： C08F220/10 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/28 , G03F7/2041 , Y10S430/111 , Y10S430/115

7. 发明专利

TWI349831B 阻劑聚合物與其製作方法 RESIST POLYMER AND METHOD FOR PRODUCING THE POLYMER 有权
简体标题：阻剂聚合物与其制作方法 RESIST POLYMER AND METHOD FOR PRODUCING THE POLYMER
公开(公告)号：TWI349831B
公开(公告)日：2011-10-01
申请号：TW093102596
申请日：2004-02-05
申请人：丸善石油化學股份有限公司
发明人：山岸孝則 , 及川知 , 加藤一郎 , 水野和彥 , 山口賢志
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/085 , G03F7/0397
摘要：為解決先前技藝的問題，本發明提供一阻劑聚合物與其製造方法，此阻劑聚合物在批貨對批貨、反應器對反應器、尺度對尺度的變異小，且不包括高分子聚合物、具有良好的溶解度與儲存穩定度、且適用於半導體微影中微圖案的形成等優點，本發明所提供的阻劑聚合物，至少具有藉由酸分解成溶於強鹼顯影劑的重複單元與具有極性基以增強對基底的附著度的重複單元，藉由凝膠滲透層析儀(Gel Permeation Chromatography，簡稱GPC)的鑑定，分子量為100,000或更高的高分子重量組成(高分子聚合物)的波峰區域佔分子量分佈的整個波峰區域之0.1%或更少。
简体摘要：为解决先前技艺的问题，本发明提供一阻剂聚合物与其制造方法，此阻剂聚合物在批货对批货、反应器对反应器、尺度对尺度的变异小，且不包括高分子聚合物、具有良好的溶解度与存储稳定度、且适用于半导体微影中微图案的形成等优点，本发明所提供的阻剂聚合物，至少具有借由酸分解成溶于强碱显影剂的重复单元与具有极性基以增强对基底的附着度的重复单元，借由凝胶渗透层析仪(Gel Permeation Chromatography，简称GPC)的鉴定，分子量为100,000或更高的高分子重量组成(高分子聚合物)的波峰区域占分子量分布的整个波峰区域之0.1%或更少。

8. 发明专利

TW201033229A 光阻用共聚物的製造方法审中-公开
简体标题：光阻用共聚物的制造方法
公开(公告)号：TW201033229A
公开(公告)日：2010-09-16
申请号：TW098134962
申请日：2009-10-15
申请人：丸善石油化學股份有限公司
发明人：及川知 , 伊川英市
IPC分类号： C08F , G03F
CPC分类号： C08F2/06 , C08F2/00 , C08F220/28
摘要：本發明係提供一種單體組成比的偏差小的光阻用共聚物之製造方法。此製造方法係一種含至少2種重複單位之光阻用共聚物的製造方法，其特徵係具有供給單體溶液與含聚合起始劑之溶液至聚合反應系內的供給步驟，在從聚合反應開始至單體溶液的供給結束為止之間的聚合反應系內，未反應單體的單體組成比之變動幅度為上下15％以內、或未反應單體的單體組成比之標準偏差為2以內。
简体摘要：本发明系提供一种单体组成比的偏差小的光阻用共聚物之制造方法。此制造方法系一种含至少2种重复单位之光阻用共聚物的制造方法，其特征系具有供给单体溶液与含聚合起始剂之溶液至聚合反应系内的供给步骤，在从聚合反应开始至单体溶液的供给结束为止之间的聚合反应系内，未反应单体的单体组成比之变动幅度为上下15％以内、或未反应单体的单体组成比之标准偏差为2以内。

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