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1. 发明申请

WO2005045503A1 IN LAGE, FORM UND/ODER DEN OPTISCHEN EIGENSCHAFTEN VERÄNDERBARE BLENDEN- UND/ODER FILTERANORDNUNG FÜR OPTISCHE GERÄTE, INSBESONDERE MIKROSKOPE 审中-公开
标题翻译：在适当的位置，以形成和/或用于光设备的可变光学性能光圈和/或过滤器装置，特别是MICROSCOPE
公开(公告)号：WO2005045503A1
公开(公告)日：2005-05-19
申请号：PCT/EP2004/012369
申请日：2004-11-02
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , BÖHM, Klaus , SCHÄFFER, Peter , HARNISCH, Wolfgang , ENGEL, Thomas , ZIBOLD, Axel , GEH, Bernd
发明人： BÖHM, Klaus , SCHÄFFER, Peter , HARNISCH, Wolfgang , ENGEL, Thomas , ZIBOLD, Axel , GEH, Bernd
IPC分类号： G02B26/00
CPC分类号： G03F7/701 , G02B5/005 , G02B21/24 , G02B26/007
摘要： Die vorliegende Lösung betrifft die Verwendung zweidimensionaler, aus einzeln ansteuerbaren Elementen bestehender, Arrays zur Erzeugung von Blenden in Strahlengängen optischer Geräte. Bei der in Form, Lage und/oder den optischen Eigenschaften veränderbare Blenden- und/oder Filteranordnung für optische Geräte, wird mindestens ein zweidimensionales, aus einzeln ansteuerbaren Elementen bestehendes Array zur Erzeugung von Blenden und/oder Filtern im optischen Abbildungs- und/oder Beleuchtungsstrahlengang angeordnet und mit einer Steuereinheit zur Ansteuerung der einzelnen Elemente verbunden. Mit Hilfe der vorgeschlagenen technischen Lösung können durch elektronische Ansteuerung Blenden und/oder Filter sehr schnell bezüglich ihrer Geometrie, ihrer optischen Eigenschaften und/oder ihrer Lage verändert werden. Diese Veränderungen können auch während des Mess- und Justiervorganges „online" als optischer Feinabgleich vorgenommen werden. Außerdem kann durch den Einsatz dieser Systeme die aufwendige und zeitintensive Fertigung von Blenden mit geometrischen Formen entfallen.
摘要翻译：本解决方案涉及使用的二维的，在光学器件的光束路径生成孔径现有的独立可控元件阵列。当在形状，位置和/或光学特性可变孔径和/或过滤器装置用于光学装置中，至少一个二维的，由独立可控元件阵列的用于在光学成像和/或照明光束路径产生隔膜和/或过滤器布置并连接到控制单元，用于控制各个元件。随着提出的技术方案隔膜和/或过滤器的帮助可以在其几何形状，其光学性能和/或通过电子控制自己的位置方面非常迅速地改变。这些变化可以被制成在测量和调整处理“在线”的光学微调。此外，复杂的和耗时的生产隔膜可与几何形状通过使用这些系统分配。

2. 发明申请

WO2006089630A1 VERFAHREN ZUR MASKENINSPEKTION IM RAHMEN DES MASKENDESIGNS UND DER MASKENHERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译：方法掩模检查的面罩设计下方和掩模制造
公开(公告)号：WO2006089630A1
公开(公告)日：2006-08-31
申请号：PCT/EP2006/001000
申请日：2006-02-04
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , SIGMA-C GMBH , HARNISCH, Wolfgang , ZIBOLD, Axel , BÖHM, Klaus , KALUS, Christian , SCHMÖLLER, Thomas
发明人： HARNISCH, Wolfgang , ZIBOLD, Axel , BÖHM, Klaus , KALUS, Christian , SCHMÖLLER, Thomas
IPC分类号： G03F1/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/84 , G03F7/7065 , G03F7/70666
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Maskeninspektion, welches im Rahmen des Maskendesigns der Maskenherstellung eingesetzt werden kann, um relevante Schwachstellen bereits frühzeitig erkennen und korrigieren zu können. Bei dem Verfahren zur Maskeninspektion wird von dem entworfenen und in ein Maskenlayout überführten Maskendesign eine „aerial image" Simulation, vorzugsweise eine vollflächige „aerial image"-Simulation durchgeführt, um daraus eine Liste der kritischen Stellen (Hotspots) zu ermitteln. Anhand dieser Hot-spots wird die Maske/Testmaske mit Hilfe eines AIMS-Tools analysiert, indem reale „aerial images" erzeugt und mit den simulierten „aerial images" verglichen werden. Die ermittelten Unterschiede der „aerial images" werden zur Verbesserung des Maskendesigns verwendet. Mit der erfindungsgemäßen Anordnung wird ein Verfahren zur Maskeninspektion im Rahmen des Maskendesigns und der Maskenherstellung zur Verfügung gestellt. Durch die Verwendung des AIMS-Tools direkt im Maskenherstellungsprozess ist eine wesentliche Beschleunigung der Maskenherstellung, bei Verringerung der Fehlerquote und Kosteneinsparung möglich.
摘要翻译：本发明涉及一种用于掩模检查，可以在掩模制造的掩模设计的上下文中使用的方法，已认识到早期的有关的脆弱性，能够校正。在用于掩模检查方法是设计和掩模布局掩模下放置设计一个“空间图像”模拟，优选进行全表面“空间图像”模拟的从临界点（热点）的列表，以确定。掩模/掩模试验使用基于由实际这些热点的AIMS工具来产生“航拍”分析，并与模拟“航空图像”进行比较。在“航拍照片”确定之间的差异被用于改善掩模设计。利用本发明的布置中，提供在掩模设计和掩模制造的上下文中掩模检查的方法。通过直接在掩模制造过程中使用AIMS工具是掩模制造中，可能的误差减少，节约成本的一个显著加速度。

3. 发明申请

WO2004006013A1 ANORDNUNG ZUR HERSTELLUNG VON PHOTOMASKEN 审中-公开
标题翻译：安排光掩模生产
公开(公告)号：WO2004006013A1
公开(公告)日：2004-01-15
申请号：PCT/EP2003/007401
申请日：2003-07-09
申请人： CARL ZEISS MICROELECTRONIC SYSTEMS GMBH , LEO ELEKTRONENMIKROSKOPIE GMBH , ENGEL, Thomas , HARNISCH, Wolfgang , HOFFROGGE, Peter , ZIBOLD, Axel
发明人： ENGEL, Thomas , HARNISCH, Wolfgang , HOFFROGGE, Peter , ZIBOLD, Axel
IPC分类号： G03F1/00
CPC分类号： G03F1/72 , G03F1/84
摘要： Anordnung und Verfahren zur Herstellung von Photomasken, wobei mindestens ein Defektkontrollsystem über eine stehende Datenverbindung oder on-line Verbindung mit mindestens einem Reparatursystem verbunden ist und das Defektkontrollsystem und das Reparatursystem datenmässig so miteinander verbunden sind, dass die auf einem der Systeme gewonnen Ergebnisse auf dem anderen System zur Weiterverarbeitung unmittelbar zur Verfügung stehen, wobei das Defektkontrollsystem über eine Datenverbindung zum Datenaustausch ermittelte Defekte an das Reparatursystem weiterleitet, das den Reparaturvorgang anhand der ermittelten Defekte steuert, wobei vorteilhaft ein AIMS System als Defektkontrollsystem und ein Elektronenstrahlsystem zur Defektkontrolle vorgesehen ist.
摘要翻译：装置和方法，用于在一个固定的数据连接或在线连接制备光掩模，其中至少一个缺陷的缺陷检查系统被连接到至少一个修复系统和缺陷检测系统中，修复系统中的数据连接到彼此，使得获得了在另一方的系统的结果的一个系统可用于进一步的处理直接，其中，通过用于数据交换的转发到修复系统，其控制检测到的缺陷，这有利地提供了一种用于AIMS系统作为缺陷检查系统和电子束系统的缺陷检查的基础上，在修复过程的数据连接检测到的缺陷检测系统的缺陷。

4. 发明申请

WO2003096356A2 REFLEKTIVES RÖNTGENMIKROSKOP UND INSPEKTIONSSYSTEM ZUR UNTERSUCHUNG VON OBJEKTEN MIT WELLENLÄNGEN ≤ 100NM 审中-公开
标题翻译：对于对象随波长<= 100NM调查反射X显微镜和检查系统
公开(公告)号：WO2003096356A2
公开(公告)日：2003-11-20
申请号：PCT/EP2003/004803
申请日：2003-05-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , CARL ZEISS MICROELECTRONIC SYSTEMS GMBH , MANN, Hans-Jürgen , DINGER, Udo , ULRICH, Wilhelm , REINECKE, Wolfgang , ENGEL, Thomas , ZIBOLD, Axel , HARNISCH, Wolfgang , WEDOWSKI, Marco , PAUSCHINGER, Dieter
发明人： MANN, Hans-Jürgen , DINGER, Udo , ULRICH, Wilhelm , REINECKE, Wolfgang , ENGEL, Thomas , ZIBOLD, Axel , HARNISCH, Wolfgang , WEDOWSKI, Marco , PAUSCHINGER, Dieter
IPC分类号： G21K
CPC分类号： G21K7/00 , B82Y10/00 , G21K1/062
摘要： Die Erfindung betrifft ein reflektives Röntgenmikroskop zur Untersuchung eines Objektes in einer Objektebene, wobei das Objekt mit Strahlung einer Wellenlänge
摘要翻译：本发明涉及一种反射型X射线显微镜用于在物平面检查的对象，其中，与辐射的对象具有一个波长被映射<100纳米，特别是<30nm的照射，并且在图像平面放大，先用设置在从物体平面上的光束路径到像平面子系统包括：第一反射镜和第二反射镜。本发明的特征在于，所述反射X射线显微镜包括在光束路径下游的第二子系统，其包括至少一个第三反射镜的第一子系统。

5. 发明申请

WO2003096356A3 REFLEKTIVES RÖNTGENMIKROSKOP UND INSPEKTIONSSYSTEM ZUR UNTERSUCHUNG VON OBJEKTEN MIT WELLENLÄNGEN ≤ 100NM 审中-公开
公开(公告)号：WO2003096356A3
公开(公告)日：2003-11-20
申请号：PCT/EP2003/004803
申请日：2003-05-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , CARL ZEISS MICROELECTRONIC SYSTEMS GMBH , MANN, Hans-Jürgen , DINGER, Udo , ULRICH, Wilhelm , REINECKE, Wolfgang , ENGEL, Thomas , ZIBOLD, Axel , HARNISCH, Wolfgang , WEDOWSKI, Marco , PAUSCHINGER, Dieter
发明人： MANN, Hans-Jürgen , DINGER, Udo , ULRICH, Wilhelm , REINECKE, Wolfgang , ENGEL, Thomas , ZIBOLD, Axel , HARNISCH, Wolfgang , WEDOWSKI, Marco , PAUSCHINGER, Dieter
IPC分类号： G21K7/00
摘要： Die Erfindung betrifft ein reflektives Röntgenmikroskop zur Untersuchung eines Objektes in einer Objektebene, wobei das Objekt mit Strahlung einer Wellenlänge

6. 发明申请

WO2010063418A1 METHOD AND DEVICE FOR MEASURING THE RELATIVE LOCAL POSITION ERROR OF ONE OF THE SECTIONS OF AN OBJECT THAT IS EXPOSED SECTION BY SECTION 审中-公开
标题翻译：用于测量部分暴露部分的部分之一的相对本地位置错误的方法和装置
公开(公告)号：WO2010063418A1
公开(公告)日：2010-06-10
申请号：PCT/EP2009/008483
申请日：2009-11-28
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , ARNZ, Michael , BEYER, Dirk , HARNISCH, Wolfgang , SCHERÜBL, Thomas
发明人： ARNZ, Michael , BEYER, Dirk , HARNISCH, Wolfgang , SCHERÜBL, Thomas
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/00 , H01J37/317 , H01J37/304
CPC分类号： G03F7/70633 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/84 , G03F7/70616 , H01J37/3174
摘要： A method for measuring the relative local position error of one of the sections of an object that is exposed section by section, in particular of a lithography mask or of a wafer, is provided, each exposed section having a plurality of measurement marks, wherein a) a region of the object which is larger than the one section is imaged in magnified fashion and is detected as an image, b) position errors of the measurement marks contained in the detected image are determined on the basis of the detected image, c) corrected position errors are derived by position error components which are caused by the magnified imaging and detection being extracted from the determined position errors of the measurement marks, d) the relative local position error of the one section is derived on the basis of the corrected position errors of the measurement marks.
摘要翻译：提供了一种用于测量逐段暴露的物体的一个部分，特别是光刻掩模或晶片的相对局部位置误差的方法，每个暴露部分具有多个测量标记，其中）以放大方式成像大于该部分的对象的区域，并且被检测为图像，b）基于检测到的图像确定检测图像中包含的测量标记的位置误差，c）校正位置误差是通过由放大的成像和检测引起的位置误差分量从确定的测量标记的位置误差中提取导出的，d）基于校正位置导出一个部分的相对局部位置误差测量标记的误差。

7. 发明申请

WO2004095136A2 ANORDNUNG ZUR INSPEKTION VON OBJEKTEN, INSBESONDERE VON MASKEN IN DER MIKROLITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：安排检查的对象，尤其是在MASK微光刻
公开(公告)号：WO2004095136A2
公开(公告)日：2004-11-04
申请号：PCT/EP2004/004161
申请日：2004-04-20
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , DOBSCHAL, Hans-Jürgen , HARNISCH, Wolfgang , SCHERÜBL, Thomas , ROSENKRANZ, Norbert , SEMMLER, Ralph
发明人： DOBSCHAL, Hans-Jürgen , HARNISCH, Wolfgang , SCHERÜBL, Thomas , ROSENKRANZ, Norbert , SEMMLER, Ralph
IPC分类号： G03F1/00
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , G01N21/956 , G03F1/24 , G03F1/84
摘要： Anordnung zur Inspektion von Objekten, insbesondere von Masken in der Mikrolithographie, die sich in einer Vakuumkammer befinden, wobei ein Wandler zur Umwandlung der vom Objekt kommenden Beleuchtungsstrahlung in eine Strahlung grösserer Wellenlänge vorgesehen ist sowie ein Sensor zur Bildaufzeichnung vorgesehen ist, wobei sich der Sensor ausserhalb der Vakuumkammer befindet und als optische Schnittstelle von der Vakuumkammer zum Sensor der Wandler oder zumindest ein Teil eines Abbildungobjektives als Fenster in der Vakuumkammer angeordnet ist.
摘要翻译：为对象的检查的装置，特别是在微光刻掩模，其位于在真空室中，其中在较大的波长的辐射提供了一种用于从对象的照明辐射转换来转换器和传感器被提供用于图像记录的，其中所述传感器外真空室被定位和被布置为从真空室至换能器的传感器的光学接口，或至少一个成像透镜如在真空室中的窗的一部分。

8. 发明申请

WO2003003098A2 EINRICHTUNG ZUR FLÄCHIGEN BELEUCHTUNG EINES OBJEKTFELDES 审中-公开
标题翻译：用于对象场平面照明的装置
公开(公告)号：WO2003003098A2
公开(公告)日：2003-01-09
申请号：PCT/EP2002/007039
申请日：2002-06-26
申请人： CARL ZEISS MICROELECTRONIC SYSTEMS GMBH , ENGEL, Thomas , HARNISCH, Wolfgang , HEISE, Jürgen
发明人： ENGEL, Thomas , HARNISCH, Wolfgang , HEISE, Jürgen
IPC分类号： G02B21/06
CPC分类号： G02B21/06 , Y10S385/901
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf eine Einrichtung zur flächigen Ausleuchtung eines Objektfeldes bei einem optischen Gerät sowie auf ein optisches Gerät mit einer solchen Einrichtung. Optische Geräte dieser Art sind beispielsweise Mikroskope, darunter Mikrolithographie-Simulationsmikroskope, bei denen eine flächige, d. h. über einen singulären Objektpunkt hinausgehend ausgedehnte Beleuchtung des zu untersuchenden Objektes benötigt wird. Die Einrichtung umfaßt eine Laserlichtquelle (8) und ein Lichtleitkabel (9) mit wenigstens einer optischen Faser, durch die das Licht von der Laserlichtquelle (8) zum Objektfeld geleitet wird, wobei die optische Faser so ausgebildet und bemessen ist, daß sich die Intensität des Beleuchtungslichtes innerhalb des Querschnittes der optischen Faser auf dem Weg vom einstrahlseitigen zum abstrahlseitigen Ende zunehmend vergleichmäßigt und das Beleuchtungslicht vom abstrahlseitigen Ende der optischen Faser mit im wesentlichen homogener Intensitätsverteilung auf das Objekt (O) gerichtet ist.
摘要翻译：本发明涉及一种用于光学装置中的物场的连续照明的装置以及具有该装置的光学装置。这种类型的光学装置例如是显微镜，包括微光刻模拟显微镜，其中液体，即E. 小时。除了单个物体点之外，还需要对待检查物体进行扩展照明。该设备所覆盖大街T A激光光源（8）和光纤电缆（9）与至少一个光纤使从上述激光光源的光（8）传递到物场，其中，所述光纤被如此构造和定尺寸为ROAD 强度＆AUML; t时的光纤的道路上的出射侧端部越来越vergleichm BEAR ROAD IGT和从具有基本上均匀的强度BEAR tsverteilung到物体（O）的光纤的出射侧端部的照明光的截面从einstrahlseitigen内的照明光的指向是

9. 发明授权

EP1399771B1 EINRICHTUNG ZUR FLÄCHIGEN BELEUCHTUNG EINES OBJEKTFELDES 有权
标题翻译： DEVICE FOR物场的面照明
公开(公告)号：EP1399771B1
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：EP02747433.7
申请日：2002-06-26
申请人： Carl Zeiss SMS GmbH
发明人： ENGEL, Thomas , HARNISCH, Wolfgang , HEISE, Jürgen
IPC分类号： G02B21/06
CPC分类号： G02B21/06 , Y10S385/901
摘要： The invention relates to a device for flat illumination of an object field in an optical apparatus and to an optical apparatus having said device, said optical apparatus being, for example, microscopes, including microlithography simulation microscopes, wherein a flat illumination, i.e. extending over a singular object point, of the object to be examined is required. The device comprises a laser light source (8) and a fiber optic cable (9) having at least one optic fiber through which the light is guided from the laser light source (8) to the object field. The optic fiber is configured and designed in such a way that the intensity of the illumination light is increasingly homogenized in the cross section of the optical fiber during its course from the end on the incidence side to the end on the radiation side and the illumination light from the end on the radiation side of optical fiber is directed to the object (O) with substantially homogenous intensity distribution.

10. 发明公开

EP1616222A2 ANORDNUNG ZUR INSPEKTION VON OBJEKTEN, INSBESONDERE VON MASKEN IN DER MIKROLITHOGRAPHIE 有权转让
标题翻译：安排口罩在微光刻检查
公开(公告)号：EP1616222A2
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：EP04728345.2
申请日：2004-04-20
申请人： Carl Zeiss SMS GmbH
发明人： DOBSCHAL, Hans-Jürgen , HARNISCH, Wolfgang , SCHERÜBL, Thomas , ROSENKRANZ, Norbert , SEMMLER, Ralph
IPC分类号： G03F1/00
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , G01N21/956 , G03F1/24 , G03F1/84
摘要： The invention relates to an arrangement for inspecting objects, especially masks in microlithography. Said masks are disposed in a vacuum chamber. A converter converts illuminating radiation emitted from the object into radiation of a higher wave length. A sensor is also provided for recording images. The sensor is disposed outside the vacuum chamber and is arranged as an optical interface between the vacuum chamber to the sensor of the converter or at least one part of an image lens is arranged as a window in the vacuum chamber.

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