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    • 5. 发明申请
    • DISPOSITIF CASCODE INTEGRE MONOLITHIQUEMENT
    • 单片集成的CASCODE设备
    • WO2018007711A1
    • 2018-01-11
    • PCT/FR2017/051638
    • 2017-06-20
    • EXAGAN
    • LO VERDE, Domenico
    • H01L21/8258H01L27/085H01L27/088H03K17/567
    • H01L21/8258H01L27/085H01L27/0883H03K17/567
    • L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif hybride (500) comprenant un premier composant (200) en matériau semi-conducteur du groupe IV et un deuxième composant (300) en matériaux semi-conducteurs du groupe III-N. Le procédé est remarquable en ce qu'il comprend : a) La formation d'au moins un ilot (20) constituant une première couche utile (2) sur un substrat support (1); la première couche utile (2) et le substrat support (1) étant chacun en matériau du groupe IV; b) La formation d'une deuxième couche utile (3) en matériaux semi-conducteurs du groupe III-N sur le substrat support (1) et sur l'ilot (20); c) Le retrait d'une partie de la deuxième couche utile (3) pour exposer la première couche utile (2); d) L'élaboration du premier composant (200) dans et sur la première couche utile (2) et du deuxième composant (300) dans et sur la deuxième couche utile (3).
    • 本发明涉及一种方法 制造包括组IV的半导体材料的第一组件(200)和组III-N的半导体材料的第二组件(300)的混合器件(500)的方法。 d&oacute的过程; 其特征在于它包括:a)在支撑基底(1)上形成构成第一有用层(2)的至少一个岛(20); 所述第一有用层(2)和所述支撑基板(1)各自处于所述IV族材料中; b)在所述支撑衬底(1)上和所述岛(20)上形成III-N族半导体材料的第二有用层(3); c)去除第二有用层(3)的一部分以暴露第一有用层(2); d)在第二有用层(3)中和第二有用层(3)上的第一有用层(2)和第二部件(300)之中和之上制备第一部件(200)。