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    • 1. 发明申请
    • NEGATIVE RESIST COMPOSITION WITH FLUOROSULFONAMIDE-CONTAINING POLYMER
    • 含氟磺酰胺聚合物的负极性组合物
    • WO2005036261A1
    • 2005-04-21
    • PCT/US2004/017114
    • 2004-06-02
    • INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATIONLI, WenjieVARANASI, Pushkara, Rao
    • LI, WenjieVARANASI, Pushkara, Rao
    • G03C1/675
    • C09D133/14C08F214/18C08F220/28C08F220/38C08K5/0025C09D133/16C09D145/00G03F7/0046G03F7/0382Y10S430/107Y10S430/108Y10S430/128
    • A negative resist composition is disclosed, wherein the resist composition includes a polymer having at least one fluorosulfonamide monomer unit having one of the following two formulae: wherein: M is a polymerizable backbone moiety; Z is a linking moiety selected from the group consisting of -C(O)O-, -C(O)-, -OC(O)-, -O-C(O)-C(O)-O-, or alkyl; P is 0 or 1; R, is a linear or branched alkyl group of 1 to 20 carbons; R 2 is hydrogen, fluorine, a linear or branched alkyl group of 1 to 6 carbons, or a semi­or perfluorinated linear or branched alkyl group of 1 to 6 carbons; and n is an integer from 1 to 6. A method of forming a patterned material layer on a substrate is also disclosed, wherein the method includes applying the fluorosulfonamide-containing resist composition to the substrate to form a resist layer on the material layer; pattemwise exposing the resist layer to imaging radiation; removing portions of the resist layer not exposed to the imaging radiation to create spaces in the resist layer corresponding to the pattern; and removing portions of the material layer at the spaces formed in the resist layer, thereby forming a patterned material layer.
    • 公开了一种负性抗蚀剂组合物,其中抗蚀剂组合物包括具有至少一个具有以下两个式之一的氟磺酰胺单体单元的聚合物:其中:M是可聚合主链部分; Z是选自-C(O)O-,-C(O) - , - OC(O) - , - O-C(O)-C(O)-O-或烷基的连接部分。 P为0或1; R为碳原子数为1〜20的直链状或支链状的烷基, R2是氢,氟,1至6个碳的直链或支链烷基,或1至6个碳的半全氟直链或支链烷基; 并且n是1至6的整数。还公开了在基板上形成图案化材料层的方法,其中所述方法包括将含氟磺酰胺的抗蚀剂组合物施加到所述基材上以在所述材料层上形成抗蚀剂层; 将抗蚀层图案曝光成像辐射; 除去未暴露于成像辐射的抗蚀剂层的部分,以在对应于图案的抗蚀剂层中产生空间; 并且在形成在抗蚀剂层中的空间处去除材料层的部分,从而形成图案化材料层。
    • 3. 发明申请
    • 紫外線感知シート、紫外線感知セット、および紫外線感知方法
    • 超声波传感器,超声波感应装置及感应超声波的方法
    • WO2014129619A1
    • 2014-08-28
    • PCT/JP2014/054267
    • 2014-02-24
    • 富士フイルム株式会社
    • 八田 政宏
    • G01J1/50G01J1/02G03C1/675
    • G01J1/50G01J1/0407G01J1/429
    •  広い面積での紫外線照射量の測定が簡便であり、1mJ/cm 2 ~1000mJ/cm 2 の範囲における紫外線量測定に優れ、発色に寄与する紫外線照射量を調整し、紫外線の積算照度に応じて連続的な発色が可能な紫外線感知シート、紫外線感知セット、および紫外線感知方法の提供。支持体と、紫外線感知層とを該順に有し、前記紫外線感知層は、光酸化剤と該光酸化剤によって酸化発色可能なロイコ染料とを内包したカプセルを有し、前記光酸化剤と前記ロイコ染料の質量比が、0.2~1.0:1であり、かつ、前記紫外線感知層の表面積1m 2 当たりの前記ロイコ染料の量が0.1~1.0gである紫外線感知層含有シートと、紫外線感度調整フィルムからなる。
    • 本发明提供一种紫外线感光片和紫外线感测装置,其可以容易地在大面积上测量紫外线的照射量,并且在1-1000mJ / cm 2的范围内的紫外线的测量方面是优异的, cm2,可以控制有助于着色的紫外线的照射量,从而可以连续地改变根据紫外光的一体辐照度的着色。 还提供了一种感测紫外线的方法。 紫外线感测组包括:含有紫外线感光层的片材,其中包含支撑体和紫外线感测层,其中紫外线感测层具有封装有光氧化剂和无色染料的胶囊, 可以通过光氧化剂氧化以产生颜色,并且光氧化剂与无色染料的质量比为(0.2-1.0):1,无色染料的量为0.1-1.0g / m 2的表面积 紫外线感应层; 以及用于控制紫外线敏感度的膜。
    • 5. 发明申请
    • 紫外線感知シート、その製造方法、および紫外線感知方法
    • 紫外线感应片及其制作方法及紫外线感测方法
    • WO2014129642A1
    • 2014-08-28
    • PCT/JP2014/054420
    • 2014-02-25
    • 富士フイルム株式会社
    • 八田 政宏
    • G01J1/50G01J1/02G03C1/675
    • G01J1/50G01J1/0407G01J1/429G01N21/78
    • 広い面積での紫外線照射量の測定が簡便であり、1mJ/cm 2 ~1000mJ/cm 2 の範囲における紫外線量測定に優れた紫外線感知シート、その製造方法、および紫外線感知方法の提供。 高圧水銀ランプで照射した際、波長365nmで測定した時における積算照度が1mJ/cm 2 以上10mJ/cm 2 未満の範囲における反射濃度変化ΔD1、10mJ/cm 2 以上100mJ/cm 2 未満の範囲における反射濃度変化ΔD2、および100mJ/cm 2 以上1000mJ/cm 2 以下の範囲における反射濃度変化ΔD3がそれぞれ0.2以上である。
    • 本发明提供一种紫外线敏感性薄片,其易于测量大面积的紫外线照射,所述片材能够实现1-1000mJ / cm 2范围内的优异的紫外线曝光测量。 还提供了紫外线敏感片材的制造方法和紫外线检测方法。 当紫外线敏感片材被来自高压汞灯的光照射并且在365nm的波长下进行测量时,当综合照度在1的范围内时,反射浓度(&Dgr; D1)的变化 小于10mJ / cm 2时,当集成照度在10至小于100mJ / cm 2的范围内时的反射浓度(&Dgr; D2)的变化以及反射浓度(&Dgr; D3)的变化 集成照度在100〜1000mJ / cm 2的范围内分别为0.2以上。