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    • 2. 发明申请
    • 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、酸拡散制御剤及び化合物
    • 辐射敏感树脂组合物,抗蚀剂图案形成方法,酸扩散控制剂和化合物
    • WO2017122697A1
    • 2017-07-20
    • PCT/JP2017/000681
    • 2017-01-11
    • JSR株式会社
    • 木下 奈津子錦織 克聡古市 康太
    • G03F7/004C07C309/69C07D295/084C07D295/15G03F7/038G03F7/039G03F7/20
    • C07C309/69C07D295/084C07D295/15G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20
    • 本発明は、第1酸解離性基を含む第1構造単位を有する第1重合体と、感放射線性酸発生体と、下記式(1)で表される化合物とを含有する感放射線性樹脂組成物である。下記式(1)中、nは、1又は2である。nが1の場合、R 1 は水素原子又は炭素数1~20の1価の有機基である。nが2の場合、R 1 は炭素数1~20の2価の有機基である。R 2 は、水素原子又は炭素数1~20の1価の有機基である。Eは、下記式(i)で表される基である。R 2 とEとは互いに合わせられ、これらが結合する窒素原子と共に構成される環員数3~20の環構造を表してもよい。下記式(i)中、Xは、炭素数1~20の2価の有機基である。R 3 は、酸の作用により解離してスルホ基を生じる第2酸解離性基である。
    • 本发明包括具有包括第一酸解离性基团的第一结构单元的第一聚合物,和一个辐射敏感产酸剂,由下式表示的化合物(1) 含有辐射敏感树脂的敏感树脂组合物。 在下面的公式(1)中,n是1或2。 当n是1时,R 1是氢原子或具有1-20个碳原子的一价有机基团。 当n是2时,R 1是具有1-20个碳原子的二价有机基团。 R 2是氢原子或具有1至20个碳原子的一价有机基团。 E是由下式(i)表示的基团。 [R 2 且彼此和E对齐,可以表示与它们所连接的氮原子环成员组成3-20一起形成环结构。 在下式(i)中,X是具有1至20个碳原子的二价有机基团。 R 3是第二个酸解离基团,其在酸的作用下解离产生磺基。