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1. 发明申请

WO2012045301A3 DEVICE AND USE OF THE DEVICE FOR MEASURING THE DENSITY AND/OR THE ELECTRON TEMPERATURE AND/OR THE COLLISION FREQUENCY OF A PLASMA 审中-公开
标题翻译：装置和设备的使用测量密度和/或电子温度和/或等离子体频率的PUSH
公开(公告)号：WO2012045301A3
公开(公告)日：2012-06-14
申请号：PCT/DE2011001802
申请日：2011-10-06
申请人： UNIV RUHR BOCHUM , BRINKMANN RALF PETER , OBERRATH JENS , AWAKOWICZ PETER , LAPKE MARTIN , MUSCH THOMAS , MUSSENBROCK THOMAS , ROLFES ILONA , SCHULZ CHRISTIAN , STORCH ROBERT , STYRNOLL TIM , ZIETZ CHRISTIAN
发明人： BRINKMANN RALF PETER , OBERRATH JENS , AWAKOWICZ PETER , LAPKE MARTIN , MUSCH THOMAS , MUSSENBROCK THOMAS , ROLFES ILONA , SCHULZ CHRISTIAN , STORCH ROBERT , STYRNOLL TIM , ZIETZ CHRISTIAN
IPC分类号： H05H1/00 , H01P5/10
CPC分类号： H05H1/0037 , H01P3/085 , H01P5/10 , H05H1/0012 , H05H1/0081
摘要： The invention relates to a device for measuring the density of a plasma, comprising means for determining an impulse response to a high-frequency signal coupled into a plasma, means for calculating the density and/or the electron temperature and/or the collision frequency as a function of the impulse response, a probe (1) that can be introduced into the plasma and that has a probe head (2) and a probe shaft (5), which is connected to a signal generator for electrically coupling a high-frequency signal into the probe head (2), wherein the probe head (2) has a jacket (7) and a probe core (8) enclosed by the jacket (7), the surface of the probe core (8) having electrode areas (3, 4; 3a, 4a) of opposite polarity that are insulated from each other, characterized in that the probe (1) has a balun (9), which is effective in the transition between the probe head (2) and an electrically unbalanced high-frequency signal feed (6) in order to convert electrically unbalanced signals into balanced signals.
摘要翻译：装置用于测量等离子体的密度，包括：用于确定到一个注入等离子体的高频信号的脉冲响应的装置，以及用于计算的密度和/或电子温度和/或碰撞的频率的脉冲响应的函数，可插入到等离子体探针（1 ）（与探针头2）和探针轴（5），其连接到一个信号发生器，用于在所述探头（2）电耦合的射频信号，其中所述探针头（2）具有外壳（7）和一个（从壳体7 有）包围探针芯（8），其中所述探针芯（8）相互绝缘的电极部（3，4的表面上;相反极性的3A，4A），其特征在于，所述探针（1）包括一个平衡 - 不平衡变换器（9），其是在用于将不对称电信号探针头（2）和电不平衡的高频信号馈送（6）之间的过渡是有效的平衡信号。

2. 发明申请

WO2012005228A1 原子フラックス測定装置审中-公开
标题翻译：原子通量测量装置
公开(公告)号：WO2012005228A1
公开(公告)日：2012-01-12
申请号：PCT/JP2011/065316
申请日：2011-07-05
申请人：学校法人同志社 , アリオス株式会社 , 大鉢忠 , 和田元 , 有屋田修 , 山邊信彦
发明人：大鉢　忠 , 和田　元 , 有屋田　修 , 山邊　信彦
IPC分类号： H05H1/00 , C23C14/06 , C23C14/28 , H01L21/203
CPC分类号： G01N27/70 , C23C14/543 , C30B23/005 , G06F17/00 , H05H1/0081
摘要：　プラズマ発生セルから容器内へ放出される、放電により発生する解離原子のフラックス量を測定するための、安価で小型の原子フラックス測定装置を提供する。　本発明の原子フラックス測定装置は、所定の間隔を隔てて略平行に配置された第１および第２の一対のシート状電極で構成された対向電極体と、前記第１のシート状電極を負電位に保ち、そのシート状電極の内側表面に付着した原子を自己電離させる目的と、前記第１および第２のシート状電極の間に電流を流すために直流電圧を印加する目的との２つの目的を持つ直流電源と、前記第１のシート状電極の内側表面に付着した解離原子から自己電離によって放出された電子によって流れる電流を測定する直流電流計とで構成されたものである。
摘要翻译：公开了一种用于测量通过放电产生的解离原子的通量的低成本紧凑的原子通量测量装置，所述通量从等离子体产生单元发射到容器中。所公开的原子通量测量装置配置有由相对电极构成的相对电极，所述相对电极由一对隔开规定间隔的大致平行布置的第一和第二片状电极构成，具有两个目的的直流电源，一个目的是保持第一片电极处于负电位并且使附着在所述片状电极的内表面上的原子自电离，另一个目的是施加DC电压以在第一和第二片状电极之间产生电流;以及直流电流表测量由于附着到第一片状电极的内表面上的自电离而从解离的原子发射的电子的电流。

3. 发明申请

WO2009110366A1 プラズマ処理装置审中-公开
标题翻译：等离子体加工设备
公开(公告)号：WO2009110366A1
公开(公告)日：2009-09-11
申请号：PCT/JP2009/053510
申请日：2009-02-26
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 伊藤融 , 瀬川澄江
发明人：伊藤融 , 瀬川澄江
IPC分类号： H01L21/3065 , H05H1/00 , H05H1/46
CPC分类号： H05H1/0081 , H01J37/32935
摘要：　プラズマモニタリング装置１００は、測定部１０１と、この測定部１０１に接続された同軸ケーブル１０２とを備えている。同軸ケーブル１０２の一端は、処理チャンバー２内のプラズマ生成領域内に挿入されている。同軸ケーブル１０２の先端部分は、プローブとされており、この部分は芯線が露出した状態とされている。測定部１０１は、同軸ケーブル１０２のプローブ部分で検出されたプラズマ中に存在する電磁波の周波数分布を検出し、この検出した周波数分布を表示する。
摘要翻译：等离子体监测装置（100）具有测量部（101）和连接到测量部（101）的同轴电缆（102）。同轴电缆（102）的一端插入处理室（2）中的等离子体产生区域。允许同轴电缆（102）的前端部分是探针，并且该部分处于芯线暴露的状态。测量部（101）检测由同轴电缆（102）的探头部检测到的存在于等离子体中的电磁波的频率分布，并显示检测到的频率分布。

4. 发明申请

WO2006028779A2 ELECTRICALLY FLOATING DIAGNOSTIC PLASMA PROBE WITH ION PROPERTY SENSORS 审中-公开
标题翻译：电离浮动诊断等离子体探头与离子性质传感器
公开(公告)号：WO2006028779A2
公开(公告)日：2006-03-16
申请号：PCT/US2005/030691
申请日：2005-08-29
申请人： ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.
发明人： MAHONEY, Leonard, J. , CARTER, Daniel, C. , DORAN, Daniel, B.
IPC分类号： G01L21/30 , C23F1/00
CPC分类号： C23F4/00 , H01J37/32935 , H01L21/67253 , H05H1/0081
摘要： A diagnostic plasma probe comprises ion sensors for measuring kinetic properties of plasma ions. Ion sensors of the invention include sensors for measuring differential ion flux, ion energy distributions, and ion incidence angle distributions at or near the surface of the probe. The measurement probe is electrically floating so as to cause minimal disruption of the properties of the processing plasma when disposed into a processing environment. A floating electrical bias is applied to the sensors to obtain measurements of ion properties.
摘要翻译：诊断等离子体探针包括用于测量等离子体离子的动力学性质的离子传感器。本发明的离子传感器包括用于测量探针表面处或附近的差分离子通量，离子能量分布和离子入射角分布的传感器。测量探头是电浮动的，以便当处理环境中时处理等离子体的性质几乎不受破坏。对传感器施加漂浮的电偏压以获得离子特性的测量。

5. 发明申请

WO00024235A1 METHOD FOR MEASURING NEGATIVE IONS IN PLASMA, AND PLASMA TREATING METHOD AND APPARATUS 审中-公开
标题翻译：用于测量等离子体中的负离子的方法和等离子体处理方法和装置
公开(公告)号：WO00024235A1
公开(公告)日：2000-04-27
申请号：PCT/JP1999/005792
申请日：1999-10-20
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H05H1/00 , H05H1/46
CPC分类号： H05H1/0081
摘要： First, a probe (6) is brought into contact with a plasma of Ar gas to raise its potential over the earth potential. Then a saturation current Ies1 flowing through the probe (6) is measured. Next its potential is lowered below the earth potential to measure its saturation current Iis1. Similarly, currents Ies2 and Iis2 are determined by bringing the probe (6) into contact with a plasma of a mixture gas of Ar gas and a processing gas such as C4F8. The negative ion density in the plasma of the C4f8 gas is determined on the basis of the ratio between Iis1 and Iis2 and the ratio between Ies1 and Ies2.
摘要翻译：首先，使探针（6）与Ar气体的等离子体接触以提高其在地电位上的电位。然后测量流过探头（6）的饱和电流Ies1。接下来，其电位降低到地电势以下，以测量其饱和电流Iis1。类似地，电流Ies2和Iis2通过使探针（6）与Ar气体和诸如C 4 F 8的处理气体的混合气体的等离子体接触来确定。基于Iis1和Iis2之间的比例以及Ies1和Ies2之间的比例来确定C4f8气体的等离子体中的负离子密度。

6. 发明申请

WO1997011587A1 METHOD AND DEVICE FOR MEASURING ION FLOW IN A PLASMA 审中-公开
标题翻译：用于测量等离子体中的离子流的方法和装置
公开(公告)号：WO1997011587A1
公开(公告)日：1997-03-27
申请号：PCT/FR1996001451
申请日：1996-09-18
申请人： CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE , BOOTH, Jean-Paul , BRAITHWAITE, Nicholas, St John
发明人： CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE
IPC分类号： H05H01/00
CPC分类号： H01J37/32935 , H05H1/0081
摘要： A method for measuring an ion flow from a plasma towards a surface contacting same by measuring the discharge rate of a measuring capacitor (12) connected between an RF voltage source (13) and a plate-like probe (10) contacting the plasma.
摘要翻译：一种用于通过测量连接在与所述等离子体接触的RF电压源（13）和板状探针（10）之间的测量电容器（12）的放电速率来测量从等离子体到与其接触的表面的离子流的方法。

7. 发明申请

WO1993019571A1 SYSTEM FOR CHARACTERIZING AC PROPERTIES OF A PROCESSING PLASMA 审中-公开
标题翻译：用于表征加工等离子体的AC特性的系统
公开(公告)号：WO1993019571A1
公开(公告)日：1993-09-30
申请号：PCT/US1993002444
申请日：1993-03-18
申请人： ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC. , HECKMAN, Randy, L.
发明人： ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.
IPC分类号： H05H01/00
CPC分类号： H01J37/32935 , H01J37/32082 , H01J37/32963 , H01J37/3299 , H01J2237/334 , H05H1/0081
摘要： Probe (5) to be inserted in-line in an AC plasma processing system (3) allows accurate, real time determination of plasma parameters such as power and complex impedance over a broad dynamic range. Any need to know power output from a source is avoided and signals are selected to optimize accuracy such that only two alternating signals need be sensed for many applications. Signals are selected such that magnitudes of simple alternating signals can be easily measured as scalar values in a fashion that affords the use of these values to completely characterize the power actually delivered to the processing plasma (2) and its complex impedance in real time. Plasma characterization can be limited to only specific frequencies for more accurate determination. Microstrip directional couplers are used to sense signals from the power transmission. These signals are then utilized to derive simple alternating signals representative of power or voltage. Three or more scalar values representative of the magnitude of the alternating signals and their combination serve as the variable inputs to determine complex reflection coefficient or impedance using known formulas. Use of a sign bit detector or assumptions with respect to the processing plasma (2) is disclosed for complete characterization of the plasma in an efficient manner.
摘要翻译：在AC等离子体处理系统（3）中嵌入式的探针（5）允许在宽动态范围内精确，实时地确定诸如功率和复阻抗的等离子体参数。避免从源中知道功率输出的任何需要，并且选择信号以优化精度，使得对于许多应用仅需要感测到两个交替信号。选择信号使得简单交替信号的大小可以以提供使用这些值的方式容易地作为标量值来测量，从而完全表征实际传送到处理等离子体（2）的功率及其复阻抗。等离子体表征可以仅限于特定频率以进行更准确的测定。微带方向耦合器用于感测来自电力传输的信号。然后利用这些信号来导出代表功率或电压的简单交替信号。代表交变信号的幅度的三个或更多个标量值及其组合用作可变输入，以使用已知公式确定复反射系数或阻抗。公开了使用符号位检测器或相对于处理等离子体（2）的假设，用于以有效的方式完整地表征等离子体。

8. 发明申请

WO2011093979A2 FEEDFORWARD TEMPERATURE CONTROL FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS 审中-公开
标题翻译：等离子体加工设备的前级温度控制
公开(公告)号：WO2011093979A2
公开(公告)日：2011-08-04
申请号：PCT/US2010062435
申请日：2010-12-29
申请人： APPLIED MATERIALS INC , MAHADESWARASWAMY CHETAN , MERRY WALTER R , SHOJI SERGIO FUKUDA , ZHANG CHUNLEI , PATTAR YASHASWINI , NGUYEN DUY D , TSONG TINA , NEVIL SHANE C , BUCHBERGER DOUGLAS A JR , SILVEIRA FERNANDO M , MAYS BRAD L , RAMASWAMY KARTIK , NOORBAKHSH HAMID
发明人： MAHADESWARASWAMY CHETAN , MERRY WALTER R , SHOJI SERGIO FUKUDA , ZHANG CHUNLEI , PATTAR YASHASWINI , NGUYEN DUY D , TSONG TINA , NEVIL SHANE C , BUCHBERGER DOUGLAS A JR , SILVEIRA FERNANDO M , MAYS BRAD L , RAMASWAMY KARTIK , NOORBAKHSH HAMID
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32009 , G05B6/02 , H01J37/3244 , H01J37/32715 , H01J37/32935 , H01J2237/334 , H05H1/0081
摘要： Methods and systems for controlling temperatures in plasma processing chamber with reduced controller response times and increased stability. Temperature control is based at least in part on a feedforward control signal derived from a plasma power input into the processing chamber. A feedforward control signal compensating disturbances in the temperature attributable to the plasma power may be combined with a feedback control signal counteracting error between a measured and desired temperature.
摘要翻译：用于控制等离子体处理室中的温度的方法和系统，其具有减少的控制器响应时间和增加的稳定性。温度控制至少部分地基于从输入到处理室的等离子体功率得到的前馈控制信号。补偿由于等离子体功率引起的温度的干扰的前馈控制信号可以与测量温度和期望温度之间的反馈控制信号抵消误差相组合。

9. 发明申请

WO2010094605A1 ION MASS DETERMINATION 审中-公开
标题翻译：离子质量测定
公开(公告)号：WO2010094605A1
公开(公告)日：2010-08-26
申请号：PCT/EP2010/051627
申请日：2010-02-10
申请人： DANMARKS TEKNISKE UNIVERSITET , STAMATE, Eugen
发明人： STAMATE, Eugen
IPC分类号： H01J49/28 , H05H1/00
CPC分类号： H01J49/28 , H05H1/0081
摘要： An apparatus (100) is described for determining the mass of ions, the apparatus configured to hold a plasma (101 ) having a plasma potential. The apparatus (100) comprises an electrode (102) having a surface extending in a surface plane and an insulator (104) interfacing with the electrode (102). An electric potential provider (106) is configured to provide an electric potential different than the potential of the plasma to the electrode (102), thereby forming a curved (110) potential distribution in the plasma surrounding the electrode (102). A magnetic field source (114, 116) is configured to provide a magnetic field (B) across at least part of the curved potential distribution in the plasma surrounding the electrode (102). An ion impact detector (108) is configured to detect impacts of ions arriving at the electrode (102), the detecting comprising detecting of locations of the impacts, and a processing unit (108) configured to interpret the detected impact locations in terms of the mass of the impacting ions.
摘要翻译：描述了用于确定离子质量的装置（100），该装置被配置为保持具有等离子体电位的等离子体（101）。装置（100）包括具有在表面平面上延伸的表面的电极（102）和与电极（102）接合的绝缘体（104）。电位提供器（106）被配置为向电极（102）提供不同于等离子体的电位的电位，从而在围绕电极（102）的等离子体中形成弯曲（110）电位分布。磁场源（114,116）构造成在围绕电极（102）的等离子体中的弯曲电位分布的至少一部分上提供磁场（B）。离子冲击检测器（108）被配置为检测到达电极（102）的离子的影响，该检测包括检测冲击的位置;以及处理单元（108），被配置为根据检测到的冲击位置质量的冲击离子。

10. 发明申请

WO2010005930A3 CAPACITIVELY-COUPLED ELECTROSTATIC (CCE) PROBE ARRANGEMENT FOR DETECTING STRIKE STEP IN A PLASMA PROCESSING CHAMBER AND METHODS THEREOF 审中-公开
标题翻译：用于检测等离子体加工室中的冲击步骤的电容耦合静电（CCE）探测器布置及其方法
公开(公告)号：WO2010005930A3
公开(公告)日：2010-04-22
申请号：PCT/US2009049757
申请日：2009-07-07
申请人： LAM RES CORP , BOOTH JEAN-PAUL , KEIL DOUGLAS L
发明人： BOOTH JEAN-PAUL , KEIL DOUGLAS L
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC分类号： H05H1/0081 , H05H1/0012
摘要： A method for identifying a stabilized plasma within a processing chamber of a plasma processing system is provided. The method includes executing a strike step within the processing chamber to generate a plasma. The strike step includes applying a substantially high gas pressure within the processing chamber and maintaining a low radio frequency (RF) power within the processing chamber. The method also includes employing a probe head to collect a set of characteristic parameter measurements during the strike step, the probe head being on a surface of the processing chamber, wherein the surface is within close proximity to a substrate surface. The method further includes comparing the set of characteristic parameter measurements against a pre-defined range. If the set of characteristic parameter measurements is within the pre-defined range, the stabilized plasma exists.
摘要翻译：提供了一种在等离子体处理系统的处理室内识别稳定的等离子体的方法。该方法包括在处理室内执行击打步骤以产生等离子体。冲击步骤包括在处理室内施加基本上高的气体压力，并在处理室内维持低射频（RF）功率。该方法还包括采用探针头在罢工步骤期间收集一组特征参数测量值，探针头位于处理室的表面上，其中该表面紧邻衬底表面。该方法还包括将特征参数测量集合与预定义范围进行比较。如果一组特征参数测量值在预定范围内，则存在稳定的等离子体。

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