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    • 4. 发明申请
    • Bi2223酸化物超電導体及びその製造方法
    • BI2223氧化物超导体及其制造方法
    • WO2011030639A1
    • 2011-03-17
    • PCT/JP2010/063242
    • 2010-08-05
    • 住友電気工業株式会社畳谷 和晃綾井 直樹下山 淳一
    • 畳谷 和晃綾井 直樹下山 淳一
    • C01G1/00C01G29/00
    • C01G29/006C01P2002/52C01P2002/72C01P2006/40C01P2006/42
    • Bi、Pb、Sr、Ln、Ca、Cu、OからなるBi2223酸化物超電導体であって、Lnは、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luから選ばれた1種以上であり、SrとLnとの組成比が以下の組成比である、低温磁場中で高臨界電流密度を有すると共に、77Kの自己磁場中においても、高臨界電流密度を維持することができるBi2223酸化物超電導体を提供する。 Sr:Ln=(1-x):x (但し、0.002≦x≦0.015) また、前記Bi2223酸化物超電導体を構成する元素を含む材料を溶液中でイオン化する工程と、高温雰囲気に溶液を噴射して溶媒除去と熱分解反応を行うことにより、酸化物超電導体を構成する原子を含む粉末を製造する工程とを備える、Bi2223酸化物超電導体の製造方法を提供する。
    • 公开了由Bi,Pb,Sr,Ln,Ca,Cu和O组成的Bi2223氧化物超导体,其中Ln由选自La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd中的一种或多种元素组成, Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb和Lu,Sr和Ln的组成比如下所述。 Bi2223氧化物超导体在低温磁场中具有高临界电流密度,并且即使在自磁场中也能保持77K的高临界电流密度。 Sr:Ln =(1-x):x(0.002 = x = 0.015)还公开了一种Bi2223氧化物超导体的制造方法,其包括将包含构成Bi2223氧化物超导体的元素的材料电解在溶液中的步骤, 以及通过除去溶剂并通过将溶液喷射到高温气氛中进行热分解反应来制造含有构成氧化物超导体的原子的粉末的步骤。
    • 9. 发明申请
    • 常誘電体薄膜形成用組成物、常誘電体薄膜および誘電体メモリ
    • 用于形成参比薄膜,参比薄膜和电介质存储器的组合物
    • WO2007007561A1
    • 2007-01-18
    • PCT/JP2006/313029
    • 2006-06-29
    • 東京応化工業株式会社竹内 義行
    • 竹内 義行
    • H01L21/8242H01L21/316H01L27/108
    • H01L21/31691C01G1/02C01G23/002C01G25/006C01G29/006C01P2006/40
    •  常誘電性で、リーク電流が低く、かつ誘電率が高い常誘電体薄膜を得ることのできる常誘電体薄膜形成用組成物を提供する。  Ba,Sr,Bi,Sc,V,Y,Zr,Nb,Hf,Ta,Si,Ge,Snからなる群から選ばれる少なくとも2種類の金属元素(A)およびTi元素(B)の各金属アルコキシド類の混合物(1)を加水分解するか、または、前記少なくとも2種類の金属元素(A)およびTi元素(B)の少なくとも3種類の金属元素のうちの少なくとも2種類の金属元素の複合金属アルコキシド類と、前記少なくとも3種類の金属元素のうち前記複合アルコキシド類を構成する金属元素以外の金属元素の金属アルコキシド類との混合物(2)を加水分解することにより、有機金属化合物を含有する常誘電体薄膜形成用組成物を得る。この組成物を用いて塗膜を形成し、この塗膜を焼成することにより常誘電体薄膜を形成する。
    • 用于形成顺电薄膜的组合物,其可以提供表现出顺从性并且具有低漏电流和高介电常数的顺电薄膜。 用于形成含有有机金属化合物的顺电薄膜的组合物是通过水解分别含有选自Ba,Sr,Bi,Sc等中的至少两种金属元素(A)的金属醇盐的混合物(1) V,Y,Zr,Nb,Hf,Ta,Si,Ge和Sn和Ti元素(B)或由复合金属醇盐组成的混合物(2)的水解,所述复合金属醇盐包含至少两种金属元素, 由上述至少两种金属元素(A)和Ti元素(B)组成的三种金属元素和在上述至少三种金属元素中含有构成上述复合金属醇盐的金属元素以外的金属元素的金属醇盐。 通过将组合物形成涂膜并焙烧涂膜来制造顺电薄膜。