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1. 发明申请

WO2009084475A1 フッ素化気体化合物の製造方法及び装置审中-公开
标题翻译：用于生产氟化气相化合物的方法和装置
公开(公告)号：WO2009084475A1
公开(公告)日：2009-07-09
申请号：PCT/JP2008/073178
申请日：2008-12-19
申请人：セントラル硝子株式会社 , 田中久雄 , 毛利勇 , 田仲健二
发明人：田中久雄 , 毛利勇 , 田仲健二
IPC分类号： C01B21/083 , C01B7/24
CPC分类号： C01B7/24 , C01B21/0832 , C01B21/0835
摘要：　原料液体を含む混合液体を原料気体と反応させる反応領域と、前記混合液体のみが流動する流動領域と、反応後の前記混合液体を前記反応領域の上部から前記流動領域の上部へ移動させる上部移動領域と、前記混合液体を前記流動領域の下部から前記反応領域の下部へ移動させる下部移動領域とからなる循環系を形成し、(A)前記反応領域の下部に前記原料気体と、(B)前記反応領域における反応生成物である第１フッ素化気体化合物及び該第１フッ素化気体化合物をさらにフッ素化させて得られる第２フッ素化気体化合物から選ばれる少なくとも一種のフッ素化気体化合物とを導入することによって前記混合液体を循環させるフッ素化気体化合物製造装置。
摘要翻译：一种氟化气体化合物的制造装置。该装置包括：循环系统，其包括：反应区，其中含有原料液的液体混合物与原料气体反应; 只有液体混合物流动的流动区域; 已经经历反应的液体混合物的上转移区从反应区的上部转移到流动区的上部; 以及下部转移区域，其中液体混合物从流动区域的下部转移到反应区域的下部。（A）原料气体被引入到反应区的下部，（B）选自在反应区中产生的作为反应产物的第一氟化气体化合物和第二氟化气体化合物之间的至少一种氟化气体化合物将通过进一步氟化第一氟化气态化合物获得的气态化合物引入反应区的下部。液体混合物通过这些操作（A）和（B）循环。

2. 发明申请

WO2011110880A1 METHOD OF PROCESSING LIQUID CHLORINE CONTAINING NITROGEN TRICHLORIDE 审中-公开
标题翻译：加工含氯三氯乙烯液体氯的方法
公开(公告)号：WO2011110880A1
公开(公告)日：2011-09-15
申请号：PCT/IB2010/000468
申请日：2010-03-06
申请人： NORAM INTERNATIONAL LIMITED , BRERETON, Clive , BERRETTA, Sergio
发明人： BRERETON, Clive , BERRETTA, Sergio
IPC分类号： C01B7/075 , C01B21/083
CPC分类号： C01B7/075 , C01B21/0832
摘要： A method of processing a stream of liquid chlorine containing nitrogen trichloride from a chloralkali plant. The liquid stream is received into a vaporizer in which it is evaporated 1O1 chlorine gas and nitrogen trichloride gas. The gas stream is processed by destroying the nitrogen trichloride gas, for example in a superheater or a catalytic bed. The processed gas stream is recycled to the chlorine production train of the chloralkali plant. The process avoids the use of organic solvents to decompose the nitrogen trichloride and the creation of a waste stream requiring further handling.
摘要翻译：一种从氯碱植物处理含有三氯化氯的液氯流的方法。将液体流接收到蒸发器中，在其中蒸发1氯气和三氯化氮气体。通过破坏三氯化氮气体，例如在过热器或催化床中处理气流。经处理的气流再循环到氯碱厂的氯生产线。该方法避免使用有机溶剂分解三氯化氮和产生需要进一步处理的废物流。

3. 发明申请

WO2004087569A2 THERMAL PROCESS FOR REDUCING THE CONCENTRATION OF DINITROGEN DIFLUORIDE AND DINITROGEN TETRAFLUORIDE IN NITROGEN TRIFLUORIDE 审中-公开
标题翻译：用于减少硝酸三氟化氮和四氮素四氢呋喃浓度的热处理
公开(公告)号：WO2004087569A2
公开(公告)日：2004-10-14
申请号：PCT/US2004/009183
申请日：2004-03-25
申请人： E.I. DUPONT DE NEMOURS AND COMPANY , MAHLER, Barry, Asher , NAPPA, Mario, J.
发明人： MAHLER, Barry, Asher , NAPPA, Mario, J.
IPC分类号： C01B21/00
CPC分类号： B01J19/02 , B01J19/002 , B01J19/2415 , B01J2219/00094 , B01J2219/00099 , B01J2219/00135 , B01J2219/00157 , B01J2219/00247 , B01J2219/00252 , B01J2219/0218 , C01B21/0832 , C01B21/0835 , H01L21/3065
摘要： The concentration of undesirable impurities dinitrogen difluoride and dinitrogen tetrafluoride in a nitrogen trifluoride mixture are reduced by heating the mixture in the gas phase in a vessel with an inner wall selected from electropolished metal, ceramic alumina or sapphire, and recovering a nitrogen trifluoride product having reduced concentration of such impurities. The process is carried out at a temperature of from about 150°C to about 300°C and the vessel is preferrably free of packing and has a minimized ratio of the vessel interior surface area to vessel volume in the region of the vessel where the heating step is carried out. The process optionally further includes the step of contacting the inner wall of the vessel with a passivating composition comprising fluorine gas.
摘要翻译：通过在具有选自电抛光金属，陶瓷氧化铝或蓝宝石的内壁的容器中加热气相中的混合物来减少三氟化氮混合物中二氮化二氮和四氟化氮的不期望杂质的浓度，并回收具有减少的三氟化氮产物这种杂质的浓度。该方法在约150℃至约300℃的温度下进行，并且该容器优选地不含填料，并且在加热的容器的区域中具有最小的容器内表面积与容器体积的比例一步进行。该方法还可包括使容器的内壁与包含氟气的钝化组合物接触的步骤。

4. 发明申请

WO2002092504A1 METHOD FOR PRODUCING NITROGEN FLUORIDE 审中-公开
标题翻译：生产氮氟化物的方法
公开(公告)号：WO2002092504A1
公开(公告)日：2002-11-21
申请号：PCT/RU2002/000221
申请日：2002-04-26
IPC分类号： C01B21/083
CPC分类号： C01B21/0835 , C01B21/0832 , C01B21/09
摘要： The invention relates to non-organic chemistry, in particular to the production of nitrogen fluorides NF3, tetrafluoohydrasine N2F4, difluorodiazine N2F2 and difluoroamine NF2H. The inventive method for producing nitrogen fluorides by fluorinating the flux of ammonium hydrogen fluorides having a general formula NH4H (x-1) Fx, where x= 2, 1-3, 0, with gaseous fluor while agitating said flux consists in introducing into the flux agents which bind the obtained hydrogen fluoride and also in dividing and cleaning obtained products. An active circulation of reagents is carried out by an ordered motion of the flux in a vertical direction, the process being performed in relation to the produced fluoride at a temperature ranging from 80 to 153 DEG C. Said method makes it possible, by improving the agitation of reagents and determining certain parameters of the reaction, to modify the composition of obtained products, predominantly produce one of said products, increase the production of target products and ensure safety of the process.
摘要翻译：本发明涉及非有机化学，特别涉及氮氟化物NF3，四氟二氢氮自由基N2F4，二氟二氮嗪N2F2和二氟胺NF2H的生产。本发明的制造氮氟化物的方法是通过在搅拌所述助熔剂的同时氟化具有通式为NH 4 H（x-1）F x的氟化氢铵，其中x = 2，1-3，助熔剂，其结合所得的氟化氢，以及分离和清洁获得的产物。试剂的活性循环通过助熔剂在垂直方向的有序运动进行，该方法相对于所产生的氟化物在80至153℃的温度下进行。所述方法使得可以通过改进搅拌试剂并确定反应的某些参数，改变所得产品的组成，主要生产所述产品之一，增加目标产品的生产并确保工艺的安全性。

5. 发明申请

WO99032843A1 PROCESS FOR SEPARATING AND PURIFYING FLUORINE COMPOUNDS, AND INSTALLATION THEREOF 审中-公开
标题翻译：分离和纯化氟化合物的方法及其安装
公开(公告)号：WO99032843A1
公开(公告)日：1999-07-01
申请号：PCT/IB1998/002096
申请日：1998-12-21
IPC分类号： B01D53/02 , C01B17/45 , C01B21/083 , C07C17/383 , C07C19/08 , F25J3/02 , F25J3/08 , C01B31/00
CPC分类号： C01B17/453 , C01B21/0832
摘要： There are provided a process for separating and purifying fluorine compounds, in which a proper rectifying operation of a mixed gas can be carried out even when it contains methane trifluoride, whereby fluorine compound components contained in the mixed gas can be separated and purified up to such concentrations as they can be reutilized, and further an installation therefor. In a process for separating and purifying fluorine compounds, in which from a mixed gas containing plural fluorine compounds a part of or all of these respective components is separated and purified by use of rectification units, methane trifluoride is previously separated and removed from said mixed gas containing methane trifluoride by an adsorption unit (A1), and then a part of or all of the remaining components is separated in turn through rectification by said rectification units (K1, K2, K3).
摘要翻译：提供了分离和纯化氟化合物的方法，其中即使含有三氟甲烷也可以进行混合气体的适当的整流操作，由此可以将混合气体中所含的氟化合物组分分离和纯化至此浓度，因为它们可以再利用，并进一步安装。在分离和纯化氟化合物的方法中，其中从含有多种氟化合物的混合气体中，通过使用精馏单元将这些各组分的一部分或全部分离和纯化，预先从所述混合气体中分离和除去三氟化甲烷通过吸附单元（A1）含有三氟化碳，然后通过所述精馏单元（K1，K2，K3）的整流将其余部分的一部分或全部依次分离。

6. 发明申请

WO1991004942A1 PROCESS FOR PURIFYING NITROGEN TRIFLUORIDE GAS 审中-公开
标题翻译：净化三氯化磷气体的方法
公开(公告)号：WO1991004942A1
公开(公告)日：1991-04-18
申请号：PCT/JP1989001038
申请日：1989-10-09
申请人： MITSUI TOATSU CHEMICALS, INC. , HARADA, Isao , HOKONOHARA, Hisashi , YAMAGUCHI, Toshiaki
发明人： MITSUI TOATSU CHEMICALS, INC.
IPC分类号： C01B21/083
CPC分类号： H01L21/3065 , C01B9/08 , C01B21/0832
摘要： A process for purifying a nitrogen trifluoride gas according to the invention comprises heating a NF3 gas containing N2F2 as an impurity to a specific temperature in a vessel lined with a tough passivated nickel fluoride coating. This process enables the removal of N2F2 gas at a high rate with a small loss of NF3. Thus, a high-purity NF3 gas favorable as a starting material for a dry etching agent for semiconductors can be obtained with ease and safety by again purifying the NF3 gas, which has been purified by this process, using a known adsorbent.
摘要翻译：根据本发明的纯化三氟化氮气体的方法包括在惰性钝化的氟化镍涂层的容器中加热含有作为杂质的N 2 F 2的NF 3气体至特定温度。该方法能够以较高的速率除去N 2 F 2气体，同时具有较小的NF3损失。因此，通过使用已知的吸附剂再次纯化已经通过该方法纯化的NF 3气体，可以容易且安全地获得作为半导体干蚀刻剂的原料的高纯度NF 3气体。

7. 发明申请

WO2007004409A1 ハロゲン化窒素の合成方法审中-公开
标题翻译：合成硝酸的方法
公开(公告)号：WO2007004409A1
公开(公告)日：2007-01-11
申请号：PCT/JP2006/312149
申请日：2006-06-16
申请人：セントラル硝子株式会社 , 毛利勇 , 宮崎達夫
发明人：毛利勇 , 宮崎達夫
IPC分类号： C01B21/083
CPC分类号： C01B21/0832 , C01B21/0835
摘要：　式ＮＦ x Ｌ 3-x (Ｌは、Ｆ以外のハロゲン、１≦ｘ≦３)で表されるハロゲン化窒素を合成する方法が提供される。この方法は、ＮＨ 4 Ｆ・ｎＨＦ、（ＮＨ 4 ）ｙＭＦｚ・ｍＨＦ、及びこれらの混合物のみからなる群から選択される１つであり、かつ、液状であるアンモニウム錯化合物と、インターハロゲン化合物、又はインターハロゲン化合物とＦ 2 ガスとの混合物とを反応させる工程（ａ）を含むものである。ただし、１＜ｎ、１≦ｙ≦４、２≦ｚ≦８、０．１≦ｍ、Ｍは、元素周期律表の１族から１６族の元素及びこれらの元素の混合元素のみからなる群から選択される１つを表す。
摘要翻译：公开了由下式表示的卤代氮的合成方法：其中L表示除F以外的卤素，且1 = x = 3）。该方法包括步骤（a），其中选自NH 4 F·nHF，（NH 4）yMFz·mHF的液态铵络合物和其混合物与卤间化合物或间卤化合物和F 2 H 2气体的混合物反应。在化学式中，1

8. 发明申请

WO2004087569A3 THERMAL PROCESS FOR REDUCING THE CONCENTRATION OF DINITROGEN DIFLUORIDE AND DINITROGEN TETRAFLUORIDE IN NITROGEN TRIFLUORIDE 审中-公开
标题翻译：降低二氟化氮和二氟四氟化氮在三氟化氮中浓度的热过程
公开(公告)号：WO2004087569A3
公开(公告)日：2004-12-09
申请号：PCT/US2004009183
申请日：2004-03-25
申请人： DU PONT , MAHLER BARRY ASHER , NAPPA MARIO J
发明人： MAHLER BARRY ASHER , NAPPA MARIO J
IPC分类号： B01J19/00 , B01J19/02 , B01J19/24 , C01B21/083 , H01L21/3065
CPC分类号： B01J19/02 , B01J19/002 , B01J19/2415 , B01J2219/00094 , B01J2219/00099 , B01J2219/00135 , B01J2219/00157 , B01J2219/00247 , B01J2219/00252 , B01J2219/0218 , C01B21/0832 , C01B21/0835 , H01L21/3065
摘要： The concentration of undesirable impurities dinitrogen difluoride and dinitrogen tetrafluoride in a nitrogen trifluoride mixture are reduced by heating the mixture in the gas phase in a vessel with an inner wall selected from electropolished metal, ceramic alumina or sapphire, and recovering a nitrogen trifluoride product having reduced concentration of such impurities. The process is carried out at a temperature of from about 150 DEG C to about 300 DEG C and the vessel is preferrably free of packing and has a minimized ratio of the vessel interior surface area to vessel volume in the region of the vessel where the heating step is carried out. The process optionally further includes the step of contacting the inner wall of the vessel with a passivating composition comprising fluorine gas.
摘要翻译：通过在具有选自电抛光金属，陶瓷氧化铝或蓝宝石的内壁的容器中在气相中加热混合物并且回收三氟化氮混合物中减少的三氟化氮产物，减少了三氟化氮混合物中不需要的杂质二氟化二氮和四氟化二氮的浓度这些杂质的浓度。该方法在约150℃至约300℃的温度下进行，并且该容器优选不含填料，并且在加热容器的区域中具有容器内表面积与容器体积的最小化比率步骤执行。该方法任选地还包括使容器的内壁与包含氟气的钝化组合物接触的步骤。

9. 发明申请

WO99055620A1 REACTIVE MATRIX FOR REMOVING MOISTURE FROM A FLUORINE CONTAINING GAS AND PROCESS 审中-公开
标题翻译：从含有气体和过程的氟中除去水分的反应性基质
公开(公告)号：WO99055620A1
公开(公告)日：1999-11-04
申请号：PCT/US1999/008775
申请日：1999-04-21
IPC分类号： B01D53/26 , B01D53/28 , B01J20/02 , B01J20/08 , B01J20/32 , C01B7/20 , C01B21/083
CPC分类号： B01D53/28 , B01D53/261 , B01J20/02 , B01J20/027 , B01J20/08 , B01J20/3078 , B01J20/3085 , B01J20/3204 , B01J20/3236 , C01B7/20 , C01B21/0832 , Y10S95/90
摘要： A process and composition for removing moisture from a NF3 or F2 gas wherein the gas is contacted with alumina particles coated with aluminum trifluoride. The aluminum trifluoride is formed by reacting alumina particles with an aqueous solution of hydrogen fluoride.
摘要翻译：用于从NF 3或F 2气体除去水分的方法和组合物，其中气体与涂有三氟化铝的氧化铝颗粒接触。三氟化铝通过氧化铝颗粒与氟化氢水溶液反应形成。

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