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1. 发明申请

WO2018117688A1 부착 장치 审中-公开
公开(公告)号：WO2018117688A1
公开(公告)日：2018-06-28
申请号：PCT/KR2017/015241
申请日：2017-12-21
申请人： 주식회사 필옵틱스
发明人： 한동희
IPC分类号： H04M1/02
摘要： 본 기재의 부착 장치는 제1 부착 대상물이 흡착되는 제1 스테이지, 제1 부착 대상물에 부착되는 제2 부착 대상물이 흡착되며, 상기 제1 부착 대상물과 제2 부착 대상물이 서로 부착되는 과정에서 상기 제1 스테이지에 대해 경사지게 위치되는 제2 스테이지, 상기 제2 스테이지의 일단에 인접하게 위치되어 상기 제2 부착 대상물이 일 방향으로 이동할 수 있도록 회전되는 롤러 부재, 상기 롤러 부재를 회전시키는 동력 부재를 포함하는 가속 유닛 및 제1 스테이지와 제2 스테이지 중 적어도 어느 하나가 상대 이동될 수 있게 하는 이동 유닛을 포함한다.

2. 发明申请

WO2016199971A1 라인 빔 형성 장치 审中-公开
标题翻译：线束形成装置
公开(公告)号：WO2016199971A1
公开(公告)日：2016-12-15
申请号：PCT/KR2015/006268
申请日：2015-06-19
申请人： 주식회사 필옵틱스
发明人： 문진배 , 김혜정 , 류상길
IPC分类号： H01S3/081
CPC分类号： G02B27/0977 , G02B27/0983 , H01S3/005 , H01S3/0057 , H01S5/4012
摘要： 복수의 미러로 구성된 단일 미러 세트를 이용하여 레이저 빔의 진행 방향(z축)에 대해 직각인 제1 방향(y축)으로 빔을 일정 크기의 조각 빔으로 분할하고 상기 레이저 빔의 진행 방향(z축)에 대해 직각인 제2 방향(x축)으로 상기 조각 빔들을 일정 간격으로 배열하여 출사할 수 있도록 구성한 라인 빔 형성 장치가 제공된다. 본 발명의 라인 빔 형성 장치는 멀티-모드 레이저 빔으로서 빔 퍼짐성(beam divergence)이 높은 엑시머 레이저나 고출력 DPSS 레이저, 또는 레이저 다이오드에 활용될 수 있고, 빔이 꽉 집광되어 고밀도 에너지를 얻을 수 있고, 장축과 단축 모두에 있어서 강도가 균일한 빔 프로파일을 얻을 수 있으며, 입사 빔의 성질에 영향을 받지 않고 복수의 레이저 빔의 결합이 가능하다.
摘要翻译：提供了一种线束形成装置，其被配置为：使用包括多个的单个反射镜组，将光束分成与激光束的行进方向（z轴）垂直的第一方向（y轴）具有预定尺寸的光束段的镜子并且在垂直于激光束的行进方向（z轴）的第二方向（x轴）上以规则的间隔布置和发射光束段。本发明的线束形成装置可以应用于激光二极管，高输出DPSS激光器或具有高光束发散度的准分子激光器作为多模激光束; 由于其中密集集中的光束获得高密度能量; 获得在长轴和短轴上强度相等的梁轮廓; 并且组合多个激光束，而与入射光束的性质无关。

3. 发明申请

WO2022055062A1 레이저 가공 시스템 및 방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2022055062A1
公开(公告)日：2022-03-17
申请号：PCT/KR2021/004300
申请日：2021-04-06
申请人： 주식회사 필옵틱스
发明人： 심상원 , 황도연 , 남유진 , 류상길 , 유성주 , 최민환
IPC分类号： B23K26/06 , B23K26/08 , B23K26/04
摘要： 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템은, 레이저 빔을 방출하는 레이저 유닛; 상기 레이저 빔의 진행 경로에 배치되어 입사되는 상기 레이저 빔이 베셀 빔으로 출사시키는 광학 유닛; 상기 광학 유닛에서 출사되는 베셀 빔으로 가공하는 피가공물이 장착되는 스테이지; 및 상기 레이저 유닛, 상기 광학 유닛, 및 상기 스테이지의 작동을 제어하는 제어부;를 포함하며, 상기 광학 유닛은, 출사되는 베셀 빔의 초점 라인을 상기 피가공물에 위치시키며, 상기 피가공물에 위치된 초점 라인이 소정 범위 이동되도록 구성된다.

4. 发明申请

WO2018147553A1 대상물 처리 장치 审中-公开
公开(公告)号：WO2018147553A1
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：PCT/KR2017/015679
申请日：2017-12-28
申请人： 주식회사 필옵틱스
发明人： 한동희
IPC分类号： C03C23/00 , C03B35/20 , B65G49/06
CPC分类号： B65G49/064 , B65G2201/0214 , C03B35/20 , C03C23/006 , H05H2245/123 , Y02P40/57
摘要： 본 기재의 대상물 처리 장치는 곡면 부분과 평면 부분으로 이루어진 대상물에 플라즈마로 박막을 코팅하는 대상물 처리 장치에 있어서, 대상물이 안착되는 안착 부재, 상기 안착 부재로부터 이격되게 위치된 몸체 부재, 상기 몸체 부재에 결합되어 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생 부재, 상기 플라즈마 발생 부재가 상기 대상물에 대하여 다양한 각도로 위치될 수 있도록 상기 플라즈마 발생 부재를 다방향으로 회전시키는 회전 모듈 및 상기 몸체 부재와 상기 안착 부재 중 적어도 어느 하나가 상대 이동될 수 있게 하는 이동 모듈을 포함하는 제1 플라즈마 발생 유닛을 포함한다.

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