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    • 6. 发明申请
    • DEKORATIVE BESCHICHTUNGEN AUF GLAS- ODER GLASKERAMIK-ARTIKELN
    • 装饰涂料在玻璃或陶瓷制品
    • WO2010081531A1
    • 2010-07-22
    • PCT/EP2009/009298
    • 2009-12-29
    • SCHOTT AGBOCKMEYER, MatthiasSCHMITT, Hans-JoachimANTON, AndreaKARAPINAR, Ercan
    • BOCKMEYER, MatthiasSCHMITT, Hans-JoachimANTON, AndreaKARAPINAR, Ercan
    • C03C17/00C03C17/02
    • C03C17/02C03C17/007C03C2217/475C03C2217/485C03C2217/72C03C2218/113
    • Die Erfindung bezieht sich auf die Erstellung und Verwendung einer Grauton-Palette für dekorative Beschichtungen auf Basis eines Sol-Gel-Verfahrens von Glas und insbesondere Glaskeramik-Artikeln, wobei nicht-plättchenförmige Pigmente und Festschmierstoff in bestimmten Massenverhältnissen als Dekorpigmente eingesetzt werden. Unterschiedliche Farbtöne können durch die Variation des Festschmierstoff-Gehalts der Dekorpigmente erreicht werden. Der besondere Vorteil der erfindungsgemäßen Pigmentierung liegt in den guten Schichteigenschaften der hochtemperaturstabilen Dekorschicht. Die erfindungsgemäß hergestellten Dekorschichten weisen insbesondere eine gute Haftfestigkeit zwischen Substrat und Dekorschicht, eine gute Dichtigkeit gegenüber Fluiden und Gasen beim Gebrauch sowie eine hohe Kratzfestigkeit auf. Die Erfindung bezieht sich weiterhin auf insbesondere nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte Glas- oder Glaskeramik-Artikel mit dekorativen Beschichtungen, die sich aufgrund der genannten guten Schichteigenschaften der Dekorschicht besonders für den Einsatz als Glaskeramik-Kochfeld eignen.
    • 本发明涉及制备和使用的灰度范围为基于玻璃,特别是陶瓷制品的溶胶 - 凝胶过程装饰涂料于,所述非小片状颜料和固体润滑剂以某些重量比为装饰颜料使用。 不同的颜色可以通过改变装饰颜料的固体润滑剂含量来实现。 本发明的特别的优点在于高温稳定装饰层的色素沉着良好的层特性。 根据在所述基板和所述装饰层,使用过程中对液体和气体的良好密封之间特别良好的粘接强度的本发明表现出装饰层,以及一个高的耐擦伤性。 本发明还涉及本发明制造的玻璃或装饰涂料,这是特别适合于用作玻璃陶瓷烹饪场玻璃 - 陶瓷制品的具体过程中,由于装饰层的所提到的良好的膜性能。
    • 9. 发明申请
    • VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM AUFBRINGEN EINER ELEKTRISCHEN LEITFÄHIGEN TRANSPARENTEN BESCHICHTUNG AUF EIN SUBSTRAT
    • 方法和设备,用于施加导电性透明材料在基底上
    • WO2006029743A1
    • 2006-03-23
    • PCT/EP2005/009575
    • 2005-09-07
    • SCHOTT AGBAUER, StefanSCHULTZ, NicoHENN, ChristianANTON, Andrea
    • BAUER, StefanSCHULTZ, NicoHENN, ChristianANTON, Andrea
    • C23C16/511C23C16/455C23C16/40C23C16/52C23C16/08C23C16/18
    • C23C16/407C23C16/029C23C16/511C23C16/515H01J37/32192H01J2237/022
    • Es wird ein Plasma-Impuls-CVD-Verfahren (PICVD-Verfahren) zum Aufbringen einer elektrisch leitfähigen transparenten Beschichtung oder TCO-Beschichtung auf ein Substrat im Plasmaraum einer Reaktoreinrichtung beschrieben, in den über eine Mikrowellen-Einkopplungseinrichtung Mikrowellenpulse geeigneter Intensiät und Pulsdauer zur Erzeugung eines Plasmas eingekoppelt werden. Die Bildung einer elektrisch leitfähigen Beschichtung auf der Mikrowellen-Einkopplungseinrichtung wird hierbei erfindungsgemäß durch eine Schutzeinrichtung gezielt unterdrückt, da ansonsten durch zunehmende Abschwächung der Mikrowellen-Transmission die Plasmaintensität entsprechend verringert und die Bildung des Plasmas schliellich verhindert würde. Als Schutzeinrichtung zur Unterdrückung der Schichtbildung kann beipielsweise eine mikrowellendurchlässige Abdeck-, Abklebe- oder Abtrenneinrichtung zwischen dem Plasmaraum und der Mikrowellen-Einkopplungseinrichtung, wie beispielsweise eine Folie oder ein Klebeband, verwendet werden, die gegebenenfalls in bestimmten Zeitabständen gereinigt oder ausgetauscht wird. Es kann jedoch auch das Substrat selbst als Abdeck- oder Abtrenneinrichtung verwendet werden. Die unerwünschte Schichtbildung kann auch durch eine Steuerung der Gaszusammensetzung im Plasmaraum wirkungsvoll unterdrückt werden. Des weiteren kann auch die Mikrowellen­-Einkopplungseinrichtung und/oder die Schutzeinrichtung bis auf ein Temperaturniveau abgekühlt werden, bei dem im wesentlichen nur eine die Mikrowellen-Transmission nicht behindernde elektrisch nicht oder nur schlecht leitfähige Beschichtung abgeschieden wird. Es wird auch eine PICVD­-Reaktoreinrichtung zur Durchführuung dieses Verfahrens beschrieben.
    • 这是一个等离子体脉冲CVD工艺(PICVD处理)的导电的透明涂层或TCO涂料的应用描述在反应器装置的等离子体室中的基底,在所述一个上的微波耦合微波脉冲合适Intensiät和脉冲持续时间,以产生 等离子注入。 对微波耦合装置的导电涂层的形成是在这种情况下,根据由保护装置故意地抑制本发明中,因为否则通过增加微波传输的衰减相应地减少,等离子体强度,而且会schliellich防止等离子体的形成。 至于成膜抑制的保护装置可以是如在等离子体腔室和微波发射装置,其任选以特定时间间隔清洁或更换之间的膜或使用实施例的粘合带,一个微波传输封盖,Abklebe-或分离器。 然而,它可以被用来作为覆盖或分离,基底本身。 不希望的层的形成可以通过在等离子体空间中的气体组合物的控制来有效地抑制。 此外,微波耦合装置和/或保护装置可以用于到冷却的温度水平,其中基本上只有一个微波传输不会妨碍电非或难溶导电涂层沉积。 还描述了一种反应器PICVD用于Durchführuung此过程。