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    • 3. 发明申请
    • EDGE EXCLUSION MASK
    • 边缘排除面罩
    • WO2017059888A1
    • 2017-04-13
    • PCT/EP2015/072946
    • 2015-10-05
    • APPLIED MATERIALS, INC.ULLMANN, OliverLAU, SimonZENGEL, Claus
    • ULLMANN, OliverLAU, SimonZENGEL, Claus
    • C23C14/04C23C16/04
    • C23C14/042C23C16/042
    • An edge exclusion mask (200) for masking an edge region of a substrate in a layer deposition process is provided. The edge exclusion mask includes a masking surface (210) adapted for facing a deposition source arrangement. The masking surface has an inclination angle of 30 degrees or below and larger than zero with respect to a substrate receiving plane. The edge exclusion mask further includes an opposing surface (220) opposing the masking surface and being adapted for receiving a first cooling surface of a cooling arrangement (350). The edge exclusion mask further includes an undercut surface (231, 232, 233) forming an undercut of the edge exclusion mask. The undercut surface is adapted for mounting the edge exclusion mask to the cooling arrangement.
    • 提供了用于在层沉积工艺中掩蔽衬底的边缘区域的边缘排除掩模(200)。 边缘排除掩模包括适于面对沉积源装置的掩模表面(210)。 掩模面相对于基板接收面具有30度以下且大于零的倾斜角。 边缘排除掩模还包括与掩蔽表面相对的相对表面(220)并且适于接收冷却装置(350)的第一冷却表面。 边缘排除掩模还包括形成边缘排除掩模的底切的底切表面(231,232,233)。 底切表面适于将边缘排除掩模安装到冷却装置。