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    • 4. 发明申请
    • OBERFLÄCHENMONTIERBARES, OPTOELEKTRONISCHES HALBLEITERBAUTEIL
    • 表面贴装,光电子半导体组件
    • WO2010017790A1
    • 2010-02-18
    • PCT/DE2009/000884
    • 2009-06-24
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHZITZLSPERGER, MichaelWEGLEITER, WalterMOOSBURGER, JürgenBARCHMANN, BerndAHLSTEDT, MagnusZEILER, Thomas
    • ZITZLSPERGER, MichaelWEGLEITER, WalterMOOSBURGER, JürgenBARCHMANN, BerndAHLSTEDT, MagnusZEILER, Thomas
    • H01L33/00
    • H01L33/486H01L33/60H01L33/62H01L33/647H01L2924/0002H01L2924/00
    • In mindestens einer Ausführungsform des oberflächenmontierbaren, optoelektronischen Halbleiterbauteils (1) umfasst dieses eine Montagefläche (10) an einer Bauteilunterseite, einen um eine Ausnehmung (9) umlaufenden Gehäusegrundkörper (4), der einen Teil der Montagefläche (10) bildet, und mindestens zwei elektrische Anschlussstücke (2), die ebenfalls einen Teil der Montagefläche (10) bilden und die den Gehäusegrundkörper (4) lateral nicht überragen. Die Ausnehmung (9) reicht hierbei bis zu den Anschlussstücken (2). Des Weiteren umfasst das Halbleiterbauteil (1) mindestens einen strahlungsemittierenden, optoelektronischen Halbleiterchip (3), der sich in der Ausnehmung (9) befindet und über die Anschlussstücke (2) elektrisch kontaktiert und auf mindestens einem Anschlussstück (2) aufgebracht ist. Außerdem weist das Halbleiterbauteil (1) mindestens einen Abschirmkörper (5) auf, der sich zwischen dem Halbleiterchip (3) und dem Gehäusegrundkörper (4) befindet, wobei der Abschirmkörper (5) eine vom Halbleiterchip (3) emittierte Strahlung vom Gehäusegrundkörper (4) abschirmt.
    • 在至少一个实施例中,表面安装,所述光电子半导体器件(1),包括在组件底座,所述安装表面(10),环绕的凹部(9),壳体基体(4),其形成在安装表面(10)的一部分,和至少两个电 连接片(2),其也形成在安装表面(10)的一部分,并且不突出超过壳体基体(4)横向。 所述凹部(9)在这种情况下达到所述连接件(2)延伸。 此外,半导体器件(1)包括至少一个辐射发射光电子半导体芯片(3),它位于所述凹部(9)和连接件(2)的电接触,并在至少一个连接被施加片(2)。 此外,至少,在半导体上的屏蔽体组分(1)(5)(3)和壳体基体(4)位于所述半导体芯片,其特征在于,所述屏蔽(5)通过将半导体芯片(3)从所述外壳基体的辐射发射的一个(4)之间 盾牌。
    • 7. 发明申请
    • OPTOELEKTRONISCHES BAUELEMENT MIT EINEM SCHICHTENSTAPEL
    • 具有层堆栈的光电子器件
    • WO2009015645A2
    • 2009-02-05
    • PCT/DE2008/001225
    • 2008-07-24
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHAHLSTEDT, MagnusBADER, StefanBAUR, JohannesSABATHIL, MatthiasSTRASSBURG, MartinZEHNDER, Ulrich
    • AHLSTEDT, MagnusBADER, StefanBAUR, JohannesSABATHIL, MatthiasSTRASSBURG, MartinZEHNDER, Ulrich
    • H01L33/00
    • H01L33/02H01L33/04H01L33/32H01L33/40H01L33/42H01L33/46
    • Optoelektronisches Bauelement (20) mit einem Schichtenstapel (10), der zumindest folgendes umfasst: eine Schichtenfolge, die eine Halbleiterleuchtdiode (5) darstellt und zumindest eine erste Leuchtdiodenschicht (2), eine zweite Leuchtdiodenschicht (4) und eine optisch aktive Zone (3) zwischen der ersten (2) und der zweiten Leuchtdiodenschicht (4) umfasst, wobei die beiden Leuchtdiodenschichten (2, 4) jeweils aus einem III-V-Halbleiter-material gebildet sind, das jeweils mindestens eines der Elemente Aluminium, Gallium und Indium und jeweils mindestens eines der Elemente Stickstoff, Phosphor und Arsen enthält, und wobei die erste Leuchtdiodenschicht (2) eine n-dotierte Schicht und die zweite Leuchtdiodenschicht (4) eine p-dotierte Schicht ist, eine silberhaltige metallische Schicht (9) und eine Zwischenschicht (8) aus einem transparenten leitfähigen Oxid, die zwischen der Halbleiterleuchtdiode (15) und der metallischen Schicht (9) angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass die metallische Schicht (9) und die Zwischenschicht (8) auf derjenigen Seite der Halbleiterleuchtdiode (15) angeordnet sind, der die p-dotierte zweite Leuchtdiodenschicht (4) zugewandt ist, und dass zwischen der zweiten Leuchtdiodenschicht (4) und der Zwischenschicht (8) zumindest eine hochdotierte erste Halbleiterschicht (7) angeordnet ist, deren Dotierstoffkonzentration größer ist als die Dotierstoffkonzentration der zweiten Leuchtdiodenschicht (4).
    • 包括一个叠层(10),至少包括所述的光电子器件(20):一个层序列,这是一种半导体发光二极管(5)和至少一个第一发光二极管(2),第二发光层(4) 和光学活性区域(3)的第一(2)和第二发光层(4),其中所述两个发光层(2,4)分别由III-V族半导体材料,其在每种情况下中的至少一个的形成之间包括 元素铝,镓和铟和元素氮,磷中的至少一种和砷包含HOLDS,并且其中,所述第一发光层(2)的n型掺杂层和第二发光层(4)p型掺杂的层,含银 设置在半导体发光二极管(15)和金属层(9)之间的透明导电氧化物的金属层(9)和中间层(8) ichnet在于,所述金属层(9)和所述中间层(8)上的半导体发光二极管的那侧(15)被布置成面对所述p型第二发光层(4),并且所述第二发光层(4)之间和 中间层(8)设置有至少一个掺杂浓度大于第二发光二极管层(4)的掺杂浓度的高掺杂第一半导体层(7)

    • 10. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG MINDESTENS EINES STRAHLUNGSEMITTIERENDEN UND/ODER -EMPFANGENDEN HALBLEITERBAUTEILS UND HALBLEITERBAUTEIL
    • 方法用于生产至少一个辐射发射和/或接收半导体部件和半导体部件
    • WO2013045371A1
    • 2013-04-04
    • PCT/EP2012/068683
    • 2012-09-21
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHAHLSTEDT, MagnusRAMCHEN, Johann
    • AHLSTEDT, MagnusRAMCHEN, Johann
    • H01L33/54H01L33/62
    • H01L31/0232H01L33/54H01L33/58H01L33/62H01L2224/48091H01L2224/48227H01L2924/12044H01L2933/005H01L2924/00014H01L2924/00
    • Es wird ein Verfahren zur Herstellung mindestens eines strahlungsemittierenden und/oder –empfangenden Halbleiterbauteils (100) angegeben. Bei einem Verfahrensschritt wird ein Trägerkörper (1) mit einer Montagefläche (101) bereitgestellt. Bei einem weiteren Verfahrensschritt wird ein Barriererahmen (6) auf der Montagefläche (101) ausgebildet, derart dass der Barriererahmen (6) einen Montagebereich (110) der Montagefläche (101) lateral umschließt. Bei einem weiteren Verfahrensschritt wird ein strahlungsemittierender und/oder –empfangender Halbleiterchip (4) innerhalb des Montagebereichs (110) auf der Montagefläche (101) montiert. Der Halbleiterchip (4) wird mit einem flüssigen Linsenmaterial vergossen, wobei das Linsenmaterial (7) innerhalb des Montagebereichs (110) auf die Montagefläche (101) aufgebracht wird. Das Linsenmaterial (7) wird gehärtet. Dabei sind die Montagefläche (101), der Barriererahmen (6) und das Linsenmaterial (7) derart aneinander angepasst, dass die Montagefläche (101) innerhalb des Montagebereichs (110) von dem Linsenmaterial (7) benetzbar und der Barriererahmen (6) von dem Linsenmaterial (7) nicht benetzbar ist, so dass sich das Linsenmaterial (7) beim Aufbringen auf die Montagefläche (101) zu einem zumindest stellenweise von dem Barriererahmen (6) begrenzten Tropfen mit konvexer Außenfläche formt und den Barriererahmen (6) frei lässt.Weiterhin wird ein Halbleiterbauteil (100) angegeben.
    • 提供了一种用于产生至少一个辐射发射和/或 - 接收半导体器件(100)的方法。 在一个方法步骤中,一个承载体(1),其具有设置有安装表面(101)。 在进一步的处理步骤中,所述安装表面(101)上形成阻挡框架(6)被形成为使得所述屏障框架(6)的安装表面(101)的安装部分(110)横向包围。 在进一步的方法步骤被安装在安装表面(101)上的安装区域(110)内的发射辐射的和/或-empfangender半导体芯片(4)。 半导体芯片(4)铸有一个液体透镜材料,透镜材料(7)的安装面(101)上的安装区域(110)内被施加。 透镜材料(7)固化。 在此,屏障框架的安装表面(101)(6)和所述透镜材料(7)适于彼此,该透镜材料的安装部(110)内的安装表面(101)(7)润湿和阻挡框架(6)的 透镜材料(7)是不可润湿使得透镜材料(7)当由阻挡帧至少局部地施加到安装表面(101)到(6)形成具有凸形外表面和阻挡框架(6)自由lässt.Weiterhin有限滴 一个半导体器件(100)被指定。