会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 2. 发明申请
    • LASERVERSTÄRKERSYSTEM
    • 激光放大器系统
    • WO2009024462A1
    • 2009-02-26
    • PCT/EP2008/060303
    • 2008-08-05
    • LANDESSTIFTUNG BADEN-WÜRTTEMBERG GGMBHBRAUCH, UweGIESEN, AdolfDEMARIA, Frank
    • BRAUCH, UweGIESEN, AdolfDEMARIA, Frank
    • H01S5/183H01S5/04H01S5/14
    • H01S5/14B82Y20/00H01S5/024H01S5/041H01S5/18358H01S5/3432H01S5/34353
    • Um bei einem Laserverstärkersystem umfassend einen Festkörper (10) mit einem laseraktiven Volumenbereich (50), in welchem ein laseraktives Quantenstruktursystem aus Halbleitermaterial angeordnet ist und in welchem das mindestens eine Quantenstruktursystem (60) zwischen beiderseits desselben angeordneten Barrierenstrukturen (64) angeordnet ist, eine Pumpstrahlungsquelle (72) und eine ein Laserverstärkerstrahlungsfeld definierende Verstärkeroptik (40), das mindestens eine Quantenstruktursystem (60) an die Pumpstrahlung (70), als auch an das Laserverstärkerstrahlungsfeld (30) anzukoppeln, wird vorgeschlagen, dass beiderseits des laseraktiven Volumenbereichs (50) jeweils ein Reflektorsystem (42, 46, 48) angeordnet ist, welche das Pumpstrahlungsfeld (30) derart reflektieren, dass sich in dem laseraktiven Volumenbereich ein lokal stehender Pumpstrahlungsintensitätsverlauf ausbildet, welcher in einem mittigen Bereich zwischen den Reflektorsystemen innerhalb des Quantenstruktursystems (60) Intensitätswerte von mindestens 60% des lokal nächstliegenden Intensitäts-Maximums aufweist und dass die Reflektorsysteme (42, 46, 48) das Laserverstärkerstrahlungsfeld (30) derart reflektieren, dass sich ein lokal stehender Verstärkerstrahlungsintensitätsverlauf ausbildet, welcher in dem mittigen Bereich innerhalb desselben mindestens einen Quantenstruktursystems (60) Intensitätswerte von mindestens 60% der lokal nächstliegenden Intensitäts-Maximums aufweist.
    • 为了使激光放大器系统,其包括固体主体(10)具有激光活性卷区域(50),在该半导体材料的激光活性量子结构系统被布置和其中两个边之间的至少一个量子结构系统(60)其设置屏障结构(64),一个泵浦辐射源 (72)和限定所述放大器光学器件(40),所述至少一个量子结构系统(60),以将泵浦辐射(70)以连接以及到激光放大器辐射场(30)的激光放大器的辐射场,它建议,所述激光器激活卷区域(50)在每种情况下一个两侧 反射器系统(42,46,48)布置,其反映泵浦辐射场(30),使得形成于激光器激活卷区,局部固定的泵辐射强度分布(在量子结构系统6内的反射器系统之间的中心区域 具有0)的局部接近的强度最大的至少60%的强度值和所述反射器系统(42,46,48)的激光放大器的辐射场(30)反映,使得局部稳定放大器的辐射强度曲线的形式,其在相同的至少一个内的中心区域 具有量子结构系统(60)的最近的局部强度最大值的至少60%的强度值。