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1. 发明申请

WO2007017162A2 DUAL-LAYER HEAT- SENSITIVE IMAGEABLE ELEMENTS WITH A POLYVINYL ACETAL TOP LAYER 审中-公开
标题翻译：双层热敏成像元件与聚乙烯顶层
公开(公告)号：WO2007017162A2
公开(公告)日：2007-02-15
申请号：PCT/EP2006/007618
申请日：2006-08-01
申请人： KODAK POLYCHROME GRAPHICS GMBH , SAVARIAR-HAUCK, Celin , HAUCK, Gerhard , GLATT, Horst , FRANK, Dietmar
发明人： SAVARIAR-HAUCK, Celin , HAUCK, Gerhard , GLATT, Horst , FRANK, Dietmar
CPC分类号： B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262
摘要： Thermally imageable elements are described comprising on a substrate with hydrophilic surface (a) a first layer comprising a first polymer soluble or swellable in aqueous alkaline developer and insoluble in organic solvents with low polarity and (b) a second layer comprising a second polymer soluble or swellable in aqueous alkaline developer, wherein the first polymer is different from the second polymer and the second polymer comprises vinyl acetal repeating units and pendant acidic groups selected from COOH, -SO 3 H, -PO 3 H 2 , -PO 4 H 2 , aromatic OH and groups having acidic amide or imide groups.
摘要翻译：描述了可热成像元件，其包括在具有亲水表面的基底上（a）第一层，其包含在含水碱性显影剂中可溶或可溶胀的第一聚合物，并且不溶于低极性的有机溶剂，和（b）包含第二聚合物可溶或在水性碱性显影剂中可膨胀，其中第一聚合物不同于第二聚合物，第二聚合物包含乙烯基缩醛重复单元和选自COOH，-SO 3 H，-PO 3， 3个H 2，-PO 4 H 2，芳香族OH和具有酸性酰胺或酰亚胺基团的基团。

2. 发明申请

WO2005039878A1 PROCESS FOR PRODUCTION OF HEAT-SENSITIVE IMAGEABLE ELEMENTS 审中-公开
标题翻译：生产感应性成像元件的方法
公开(公告)号：WO2005039878A1
公开(公告)日：2005-05-06
申请号：PCT/EP2004/011379
申请日：2004-10-11
申请人： KODAK POLYCHROME GRAPHICS GMBH , SAVARIAR-HAUCK, Celin , HAUCK, Gerhard , FRANK, Dietmar
发明人： SAVARIAR-HAUCK, Celin , HAUCK, Gerhard , FRANK, Dietmar
IPC分类号： B41C1/10
CPC分类号： B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/368
摘要： The invention relates to a process for the production of a heat-sensitive imageable element comprising: (a) providing a substrate, (b) applying a first coating solution, comprising at least one photothermal conversion material, at least one polymer A soluble or swellable in an aqueous alkaline developer and at least one solvent, (c) drying, (d) applying a second coating solution, comprising at least one cross-linkable polyfunctional enolether, at least one polymer B comprising hydroxy groups and/or carboxy groups, and at least one solvent, wherein the polymer used in the first coating solution does not dissolve in this solvent, wherein the second coating solution does not contain a photothermal conversion material, and (e) drying at a temperature of at least 60°C.
摘要翻译：本发明涉及一种用于生产热敏可成像元件的方法，包括：（a）提供基底，（b）施加包含至少一种光热转换材料的第一涂层溶液，至少一种可溶或可膨胀的聚合物A 在水性碱性显影剂和至少一种溶剂中，（c）干燥，（d）施加包含至少一个可交联的多官能烯烃的至少一种包含羟基和/或羧基的聚合物B的第二涂料溶液，以及至少一种溶剂，其中在第一涂布溶液中使用的聚合物不溶于该溶剂，其中第二涂料溶液不含光热转化材料，和（e）在至少60℃的温度下干燥。

3. 发明申请

WO2005016645A1 HEAT-SENSITIVE POSITIVE WORKING LITHOGAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR 审中-公开
标题翻译：热敏正极工作立体印刷机前驱板
公开(公告)号：WO2005016645A1
公开(公告)日：2005-02-24
申请号：PCT/EP2004/008911
申请日：2004-08-09
申请人： KODAK POLYCHROME GRAPHICS GMBH , HAUCK, Gerhard , FRANK, Dietmar
发明人： HAUCK, Gerhard , FRANK, Dietmar
IPC分类号： B41C1/10
CPC分类号： B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , Y10S430/106 , Y10S430/165
摘要： Heat-sensitive element comprising a) an optionally pretreated substrate; b) a positive working coating comprising (i) at least 40 wt.-%, based on the dry weight of the coating, of at least one polymer soluble in aqueous alkaline developer selected from novolak resins, functionalized novolak resins, polyvinylphenol resins, polyvinyl cresols and poly(meth)acrylates with phenolic and/or sulfonamide side groups, (ii) 01-20 wt.-%, based on the dry weight of the coating, of at least one (C 4 -C 20 alkyl)phenol novolak resin insoluble in aqueous alkaline developer, and (iii) optionally at least one further component selected from polymer particles, surfactants, contrast dyes and pigments, inorganic fillers, antioxidants, print-out dyes, carboxylic acid derivatives of cellulose polymers, plasticizers and substances capable of absorbing radiation of a wavelength from the range of 650 to 1,300 nm and converting it into heat.
摘要翻译：热敏元件包括：a）任选预处理的基材; b）正性工作涂层，其包含（i）基于所述涂层的干重至少40重量％的至少一种可溶于含水碱性显影剂的聚合物，其选自酚醛清漆树脂，官能化酚醛清漆树脂，聚乙烯基苯酚树脂，聚乙烯基甲酚和具有酚和/或磺酰胺侧基的聚（甲基）丙烯酸酯，（ii）基于涂层干重的01-20重量％的至少一种（C 4 -C 20烷基）苯酚酚醛清漆树脂不溶于在含水碱性显影剂中，和（iii）任选的至少一种选自聚合物颗粒，表面活性剂，造影剂和颜料的其它组分，无机填料，抗氧化剂，印刷染料，纤维素聚合物的羧酸衍生物，增塑剂和能够吸收的物质波长范围为650至1300nm的辐射并将其转换成热。

4. 发明申请

WO2006077048A2 MATERIAL FOR THE TREATMENT OF LITHOGRAPHIC SUBSTRATES ANS LITHOGRAPHIC PRINTING PLATES 审中-公开
标题翻译：用于光刻胶基板光刻印版的处理材料
公开(公告)号：WO2006077048A2
公开(公告)日：2006-07-27
申请号：PCT/EP2006/000239
申请日：2006-01-12
申请人： KODAK POLYCHROME GRAPHICS GMBH , BAUMANN, Harald , STREHMEL, Bernd , FIEBAG, Ulrich , VON GYLDENFELDT, Friederike , EBHARDT, Tanja , DALLMANN, Ulrike , FRANK, Dietmar
发明人： BAUMANN, Harald , STREHMEL, Bernd , FIEBAG, Ulrich , VON GYLDENFELDT, Friederike , EBHARDT, Tanja , DALLMANN, Ulrike , FRANK, Dietmar
IPC分类号： B41N3/00 , B41C1/10 , C08J5/18
CPC分类号： C08G77/30 , B41N1/083 , B41N1/086 , B41N1/14 , B41N3/038 , B41N3/08 , C08G77/395 , C08K5/5406 , Y10S430/145
摘要： Phosphono-substituted siloxanes suitable as interlayer material in lithographic substrates and for post-treating developed lithographic printing plates, obtainable by reacting (a) a first organosilicon compound of the general formula (I) and (b) a second organosilicon compound of the general formula (II).
摘要翻译：（a）通式（I）和（b）的第一有机硅化合物反应而得到的膦基取代的硅氧烷适合作为平版印刷底材中的夹层材料和后处理显影的平版印刷版，通式（II）的第二有机硅化合物。

5. 发明申请

WO2006122689A1 ELEKTRONISCHE KONSTRUKTIONSVORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：电子器件结构
公开(公告)号：WO2006122689A1
公开(公告)日：2006-11-23
申请号：PCT/EP2006/004378
申请日：2006-05-10
申请人： DAIMLERCHRYSLER AG , ARNDT, Hauke , BENZ, Eberhard , BERNHARD, Rainer , FRANK, Dietmar , HANS, Bertram , HIPP, Werner , KRUMENAKER, Thomas , LEYPOLDT, Dirk , MBANG SAMA, Achille , MOHRING, Jonathan , NOWOTTNY, Dietrich , REHNER, Hans-Peter , ROLINGER, Alexander
发明人： ARNDT, Hauke , BENZ, Eberhard , BERNHARD, Rainer , FRANK, Dietmar , HANS, Bertram , HIPP, Werner , KRUMENAKER, Thomas , LEYPOLDT, Dirk , MBANG SAMA, Achille , MOHRING, Jonathan , NOWOTTNY, Dietrich , REHNER, Hans-Peter , ROLINGER, Alexander
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5086 , G06F17/5004
摘要： Die Erfindung betrifft eine elektronische Vorrichtung zum Konstruieren eines technischen Systems, das mindestens zwei Bestandteile umfaßt. Die Konstruktionsvorrichtung umfaßt eine elektronische Bibliothek (3.1). In dieser ist jeweils ein Ausgangs-Konstruktionsmodell (10.1, 11.1) jedes Bestandteils abgespeichert. Jedes Ausgangs-Konstruktionsmodell umfaßt mindestens ein geometrisches Objekt mit mindestens einem Attribut. Ein erstes Attribut ist vom Benutzer veränderbar, ein zweites nicht. In der Bibliothek (3.1) ist weiterhin eine automatisch auswertbare Abhängigkeitsvorschrift abgespeichert, die festlegt, wie das zweite Attribut vom ersten Attribut abhängt. Die Konstruktionsvorrichtung ist zum Erzeugen jeweils eines Konstruktionsmodells (10.2, 11.2) jedes Bestandteils durch Kopieren des jeweiligen Ausgangs-Konstruktionsmodells (10.1, 11.1) ausgestaltet. Die Konstruktionsvorrichtung umfaßt Mittel (4.2, 5.2) zum Verändern der Kopie jedes vom Benutzer veränderbaren Attributs. Sie ist weiterhin so ausgelegt, daß sie mindestens einmal nach einer Veränderung der Kopie des ersten Attributs mittels der Veränderungsmittel die Kopie des zweiten Attributs durch Anwenden der mindestens einen Abhängigkeitsvorschrift abwandelt.
摘要翻译：本发明涉及一种电子设备用于构造技术系统，它包括至少两种组分。施工设备包括电子库（3.1）。在此，各成分的各自的输出的结构模型（11.1 10.1）被存储。每个输出设计模型包括与至少一个属性的至少一个几何对象。第一属性可以由用户不能改变的，一秒钟。库中的（3.1）的自动可分析的依赖关系规则也被存储用于指定如何从第一属性的第二属性依赖。施工装置被设置用于通过复制配置的各自的输出结构模型（10.1，11.1）产生每个各部件的设计模型（10.2，11.2）的。施工设备包括用于由所述用户属性改变每个变量的拷贝装置（4.2，5.2）。进一步设计为使得它通过改变装置的装置中的第一个属性的拷贝的改变后改变至少一次，所述第二属性的通过将至少一个相关性规则的拷贝。

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