专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2008027543A2 CONFOCAL SECONDARY ELECTRON IMAGING 审中-公开
标题翻译： CONFOCAL二次电子图像
公开(公告)号：WO2008027543A2
公开(公告)日：2008-03-06
申请号：PCT/US2007/019188
申请日：2007-08-29
申请人： KLA-TENCOR TECHNOLOGIES CORPORATION , ADLER, David L
发明人： ADLER, David L
IPC分类号： G01N23/225
CPC分类号： G01N23/225 , H01J37/256 , H01J37/28 , H01J2237/2803
摘要： One embodiment relates to an apparatus using electrons for inspection or metrology of a semiconductor substrate. The apparatus includes an electron source (301), electron lenses (302), scan deflectors (304), an objective electron lens (305), a collection electron lens (310), a pin-hole filter (312), de-scan deflectors (311), and a detector (313). The collection electron lens (310) is configured to focus the secondary electrons so as to form a secondary electron beam (309) which is focused at a conjugate focal plane, and the pin-hole filter (312) is positioned at the conjugate focal plane. The de-scan deflectors (311) are configured to controllably deflect the secondary electrons so as to counteract an influence of the scan deflectors (304) such that a center portion of the secondary electron beam passes through the filter and a remainder portion of the secondary electron beam is filtered out by the filter. Other embodiments and features are also disclosed.
摘要翻译：一个实施例涉及使用电子来检查或计量半导体衬底的设备。该装置包括电子源（301），电子透镜（302），扫描偏转器（304），物镜电子透镜（305），收集电子透镜（310），针孔滤波器（312），去扫描偏转器（311）和检测器（313）。集光电子透镜（310）被配置为聚焦二次电子以形成聚焦在共轭焦平面处的二次电子束（309），并且针孔滤光器（312）被定位在共轭焦平面。去扫描偏转器（311）被配置为可控制地偏转二次电子，从而抵消扫描偏转器（304）的影响，使得二次电子束的中心部分穿过滤波器，而次级电子束的剩余部分电子束被滤波器滤除。其他实施例和特征也被公开。

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式