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1. 发明申请

WO2003009432A2 STRAHLFORMUNGSELEMENT FÜR OPTISCHE STRAHLUNG SOWIE VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译：喷射成形光学辐射及制造方法
公开(公告)号：WO2003009432A2
公开(公告)日：2003-01-30
申请号：PCT/DE2002/002617
申请日：2002-07-17
申请人： FRAUNHOFER GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , QUENZER, Hans-Joachim , REINERT, Wolfgang
发明人： QUENZER, Hans-Joachim , REINERT, Wolfgang
IPC分类号： H01S
CPC分类号： G02B27/0927 , A61F9/00814 , G02B27/09 , G02B27/0938
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Strahlformungselement für optische Strahlung, insbesondere für UV-Laserstrahlung, sowie ein Verfahren zur Herstellung. Das Strahlformungselement weist ein Trägersubstrat (1) mit einer strukturierten Dünnschicht-Metallisierung zur Strahlformung der optischen Strahlung auf, wobei sich die Dünnschicht-Metallisierung aus zumindest zwei metallischen Schichten (2, 3) zusammensetzt, die beim Auftreffen der optischen Strahlung (4) ab einer bestimmten Intensität und/oder Bestrahlungsdauer der optischen Strahlung (4) unter permanenter Farbänderung miteinander reagieren. Bei dieser Ausgestaltung des Strahlformungselementes wird bei der Benutzung eine optisch sichtbare Gebrauchsspur hinterlassen, so dass eine versehentliche Mehrfachnutzung ausgeschlossen werden kann.
摘要翻译：本发明涉及一种用于光辐射的光束整形元件，特别是用于UV激光辐射的光束整形元件及其制造方法。光束整形元件具有Tr的AUML; gersubstrat（1）具有结构化d导航用途nnschicht金属化的光辐射的光束整形，其中，至少两个金属层的d导航用途nnschicht金属化（2,3）组成，其在所述光的冲击从具有永久颜色的光辐射（4）的一定强度和/或辐照时间彼此辐射（4）。在光束成形元件的这个实施例中，在使用过程中留下了光学可见的使用痕迹，从而可以排除意外的多次使用。

2. 发明申请

WO2007121948A2 VERFAHREN ZUR OBERFLÄCHENBEHANDLUNG EINER ELEKTRISCHEN SUBSTRATOBERFLÄCHE 审中-公开
标题翻译：法电基材表面的表面处理
公开(公告)号：WO2007121948A2
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：PCT/EP2007/003497
申请日：2007-04-20
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , QUENZER, Hans-Joachim , ZWICKER, Gerfried
发明人： QUENZER, Hans-Joachim , ZWICKER, Gerfried
IPC分类号： B23H3/00
CPC分类号： B23H3/00 , B81C1/00634 , B81C2201/0146 , C25F3/14
摘要： Beschrieben wird ein Verfahren zur Oberflächenbehandlung einer elektrisch leitenden Substratoberfläche, bei dem ein festes Ionen leitendes Material aufweisendes Werkzeug wenigstens bereichsweise in Kontakt mit der Substratoberfläche gebracht wird, das Metallionen der Substratoberfläche zu leiten in der Lage ist und an das ein elektrisches Potenzial angelegt wird, so dass zwischen der Substratoberfläche und dem Werkzeug ein elektrisches Potenzialgefälle derart anliegt, dass die Metallionen durch das Werkzeug von der Substratoberfläche abgezogen oder auf die Substratoberfläche abgeschieden werden.
摘要翻译：公开的是用于表面处理的导电性基板表面的，其中，固体离子传导材料是在与基板表面接触具有带工具至少部分的方法，所述基片表面的金属离子，以在一个位置引导和电势被施加到，所以该电势梯度在基板表面和工具之间的这样的方式施用，即，金属离子通过从该衬底表面上的工具中提取，或沉积在基板表面上。

3. 发明申请

WO2009010309A1 MIKROSYSTEM UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES MIKROSYSTEMS 审中-公开
标题翻译：微系统和方法用于生产微系统
公开(公告)号：WO2009010309A1
公开(公告)日：2009-01-22
申请号：PCT/EP2008/006070
申请日：2008-07-10
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , HOFMANN, Ulrich , QUENZER, Hans-Joachim , OLDSEN, Marten
发明人： HOFMANN, Ulrich , QUENZER, Hans-Joachim , OLDSEN, Marten
IPC分类号： G02B26/08 , B81B3/00 , H04N5/74
CPC分类号： G02B26/0841 , B81B3/0054 , B81B2201/033 , B81B2201/042 , G02B26/105
摘要： Die Erfindung betrifft ein Mikrosystem mit mindestens einem Mikrospiegel (1) und mindestens einem Mikrospiegelaktuator (2) zum Schwenken des mindestens einen Mikrospiegels (1) um mindestens eine Achse aus einer entspannten Ruhelage heraus, umfassend einen Rahmenchip und eine auf dem Rahmenchip angeordnete transparente Abdeckung (3), wobei der Rahmenchip einen Chiprahmen (10) aufweist, an dem der mindestens eine Mikrospiegel (1) elastisch schwenkbar angelenkt ist, wobei der mindestens eine Mikrospiegel (1) ferner innerhalb des Chiprahmens (10) und in einer zwischen der transparenten Abdeckung (3) und einer Trägerschicht gebildeten Kavität (11) angeordnet ist. Dabei ist der mindestens eine Mikrospiegel (1) um die mindestens eine Achse schwenkbar an einem Rahmen (14) angelenkt ist, der seinerseits schwenkbar an dem Chiprahmen (10) angelenkt ist, wobei der Rahmen (14) dauerhaft aus einer durch die Trägerschicht definierten Chipebene herausgeschwenkt ist, so dass der Mikrospiegel (1) in seiner Ruhelage um einen nichtverschwindenden Winkel gegenüber der Chipebene gekippt ist. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum Herstellen eines derartigen Mikrosystems.
摘要翻译：本发明涉及一种微系统与至少一个微反射镜（1）和至少一个Mikrospiegelaktuator（2），用于至少一个轴从静止的松弛位置枢转所述至少一个微反射镜（1），包括一个框架芯片和布置在框架芯片透明盖（ 3），其特征在于，具有在其上的至少一个微反射镜（1）铰接弹性可枢转的芯片框架（10），所述框架的芯片，其中所述至少一个微反射镜（1）进一步包括（芯片框架10）和内侧（在透明盖之间形成的空腔3）和载体层（11）布置。在这里，所述至少一个微反射镜（1）铰接围绕至少一个轴的框架（14），其反过来铰接在枢接于模具框架（10），其中由所述载体层芯片级别上定义的框架（14）永久地从平面被枢转，使得所述微反射镜（1）在其静止的位置倾斜到不消失的角度到芯片平面。本发明还涉及一种用于制造这样的微的方法。

4. 发明申请

WO2009007139A1 MIKROMECHANISCHE VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM PROJIZIEREN ELEKTROMAGNETISCHER STRAHLUNG 审中-公开
标题翻译：微机械装置和方法用于投影无线电波
公开(公告)号：WO2009007139A1
公开(公告)日：2009-01-15
申请号：PCT/EP2008/006071
申请日：2008-07-10
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , QUENZER, Hans-Joachim , HOFMANN, Ulrich , OLDSEN, Marten
发明人： QUENZER, Hans-Joachim , HOFMANN, Ulrich , OLDSEN, Marten
IPC分类号： G02B7/00 , G02B26/08 , G02B26/10
CPC分类号： G02B7/008 , G02B26/0833 , G02B26/105
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine mikromechanische Vorrichtung mit einem beweglichen Element, die eine steuerbare Heizvorrichtung für einen definierten Wärmeeintrag in das bewegliche Element umfasst, wobei die Vorrichtung ferner eine Steuereinheit (5) aufweist, die eingerichtet ist zum Steuern der Heizvorrichtung in Abhängigkeit von einer momentanen Temperatur und/oder von einem momentanen Wärmeeintrag. Die Vorrichtung kann z.B. zum Projizieren elektromagnetischer Strahlung eingerichtet sein, wenn das bewegliche Element gestaltet ist als Strahlablenk-Einheit (2) zum Umlenken von von einer Strahlungsquelle (1) ausgehender Strahlung auf eine Projektionsfläche (3). Die Erfindung betrifft schließlich auch ein entsprechendes Verfahren zum Projizieren elektromagnetischer Strahlung.
摘要翻译：本发明涉及一种具有一个可动元件，其包括可控加热装置用于在所述可动构件限定的热输入，其中所述设备还包括控制单元（5），其被布置成控制在依赖加热器上的当前温度的微机械装置和/或瞬时热输入。该装置可以例如（1）输出辐射到投影表面（3）被适配用于投射的电磁辐射，当可动元件设计为一个光束偏转单元（2），用于从辐射源转向。最后，本发明还涉及一种用于投射的电磁辐射的相应方法。

5. 发明申请

WO2002073684A1 VERFAHREN ZUR STRUKTURIERUNG EINES AUS GLASARTIGEN MATERIAL BESTEHENDEN FLÄCHENSUBSTRATS 审中-公开
标题翻译：方法构建类似玻璃的材料现有面积基板
公开(公告)号：WO2002073684A1
公开(公告)日：2002-09-19
申请号：PCT/EP2002/002796
申请日：2002-03-13
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , QUENZER, Hans-Joachim , SCHULZ, Arne, Veit , WAGNER, Bernd , MERZ, Peter
发明人： QUENZER, Hans-Joachim , SCHULZ, Arne, Veit , WAGNER, Bernd , MERZ, Peter
IPC分类号： H01L21/48
CPC分类号： H01L21/2007 , B81C99/0085 , C03B19/02 , C03C27/00 , H01L2924/16235
摘要： Das erfindungsgemässe Verfahren zeichnet sich durch die Kombination der folgenden Verfahrensschritte aus: a) Bereitstellen eines aus einem Halbleitermaterial bestehenden Halbleiter-Flächensubstrats; b) Strukturieren mindestens einer Oberfläche des Halbleiter-Flächensubstrats zum Erhalt von Vertiefungen auf der Oberfläche; c) Verbinden der Oberfläche des Halbleiter-Flächensubstrats mit dem glasartigen Flächensubstrat, wobei die strukturierte Oberfläche des Halbleiter-Flächensubstrats mit einer Oberfläche des glasartigen Flächensubstrats mindestens teilweise überdeckend zusammengeführt wird; d) Tempern der verbundenen Flächensubstrate derart, dass ein Hineinfliessen wenigstens von Teilbereichen des glasartigen Materials in die Vertiefungen der strukturierten Oberfläche des Halbleiter-Flächensubstrats erfolgt; e) Materialabtrag zumindest des wiederverfestigten glasartigen Flächensubstrates, derart, dass das glasartige Flächensubstrat eine bündig zur strukturierten Oberfläche des Halbleiter-Flächensubstrats anschliessende Oberfläche annimmt.
摘要翻译：本发明的方法的特征在于以下方法步骤的组合：a）提供包括在半导体衬底表面的半导体材料的基团; b）中的图案化的至少一个表面的所述半导体基底平面，以获得表面上的凹部; c）与玻璃样表面基板，其中所述半导体衬底表面的图案化表面被组合至少部分地覆盖所述玻璃样表面基材的表面接合所述半导体衬底表面的表面上; D）退火所述粘合区域的衬底，使得流入发生在在半导体基片表面的结构化表面的凹陷部的玻璃质材料的至少一些部分; E）去除至少再凝固玻璃样表面基板，使得所述玻璃样表面基板假定随后的冲洗到的结构化表面的材料的所述半导体平坦衬底表面。

6. 发明申请

WO2016096636A1 VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER VORRICHTUNG MIT EINER DREIDIMENSIONALEN MAGNETISCHEN STRUKTUR 审中-公开
标题翻译：一种用于生产设备与三维磁结构
公开(公告)号：WO2016096636A1
公开(公告)日：2016-06-23
申请号：PCT/EP2015/079362
申请日：2015-12-11
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.
发明人： LISEC, Thomas , QUENZER, Hans-Joachim , REIMER, Tim
IPC分类号： H01F41/04 , B81C1/00 , H01F41/16 , H01F41/30
CPC分类号： H01F1/06 , B81B2201/034 , B81B2201/042 , B81C1/00126 , B81C2201/0188 , G01R33/38 , G01R33/3802 , G02B26/085 , G02B26/101 , H01F10/08 , H01F21/06 , H01F41/046 , H01F41/16 , H01F41/301 , H01F41/32 , H01F2007/068 , H02K15/02 , H02K33/16
摘要： Verfahren zum Herstellen einer Vorrichtung (120) mit einer dreidimensionalen magnetischen Struktur (132) umfassend einen Schritt des Auf- oder Einbringens von magnetischen Partikeln (130) auf oder in ein Trägerelement (122), wobei zwischen den magnetischen Partikeln eine Vielzahl von zumindest teilweise miteinander verbundenerer Hohlräume gebildet wird und wobei die magnetischen Partikel an Berührungspunkten miteinander in Kontakt treten. Das Verfahren umfasst ferner einen Schritt des Verbindens der magnetischen Partikel an den Berührungspunkten durch Beschichten der Anordnung aus magnetischen Partikeln und Trägerelement, wobei die Hohlräume zumindest teilweise von der beim Beschichten erzeugten Schicht durchdrungen werden. Die Vorrichtung umfasst eine Leiterschleifenanordnung (124) auf dem Trägerelement oder einem weiteren Trägerelement, so dass bei einem Stromfluss durch die Leiterschleifenanordnung (1) eine Induktivität der Leiterschleifenanordnung durch die dreidimensionale magnetische Struktur verändert wird, oder (2) eine Kraft auf die dreidimensionale magnetische Struktur oder die Leiterschleifenanordnung durch ein durch den Stromfluss hervorgerufenes magnetisches Feld wirkt, oder (3) bei einer Lageänderung der dreidimensionalen magnetischen Struktur ein Stromfluß durch die Leiterschleifenanordnung induziert wird.
摘要翻译：制造具有包含上或在支撑构件（122），缠绕或引入磁性颗粒（130）的步骤的三维磁结构（132）的装置（120）的方法，其中所述磁性颗粒之间，多个至少部分地相互 verbundenerer空腔形成，并且其中，在接触点处的磁性颗粒接触彼此接触。该方法还包括通过涂覆磁性颗粒的阵列与该载体元件，其中所述空腔至少部分地通过在被覆层所产生的穿透接触点处的磁性颗粒结合的步骤。该装置包括载体元件或另外的承载元件上的导体回路装置（124），使得导体回路装置的电感是由三维磁结构中的电流流过的导体回路装置（1）或（2）的力的三维磁结构改变或导体回路装置作用由通过在三维磁性结构的位置变化的电流流动磁场，或（3）的电流的流动由导体回路装置诱导的诱发。

7. 发明申请

WO2013139866A1 MIKROSPIEGELANORDNUNG UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER MIKROSPIEGELANORDNUNG 审中-公开
标题翻译：微镜片布置及其制造方法的排列微镜
公开(公告)号：WO2013139866A1
公开(公告)日：2013-09-26
申请号：PCT/EP2013/055852
申请日：2013-03-20
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.
发明人： HOFMANN, Ulrich , QUENZER, Hans-Joachim , JANES, Joachim , JENSEN, Björn
IPC分类号： G02B26/08
CPC分类号： G02B26/0833 , B32B37/16 , B32B38/0008 , B32B38/10 , B32B2307/416 , B32B2310/0875 , B32B2551/08 , G02B1/12 , G02B7/1815 , G02B7/1821
摘要： Es wird eine Mikrospiegelanordnung mit mindestens einer in einem Chiprahmen über ein oder mehrere Federelemente schwingfähig aufgehängten Spiegelplatte vorgeschlagen. Dabei ist mindestens ein mit einer Ein- und Auslassöffnung versehener Mikrokanal zum Durchleiten eines Kühlmediums in dem Chiprahmen und in dem einen oder mehreren Federelementen oder in dem Chiprahmen, in dem einen oder mehreren Federelementen und in der mindestens einen Spiegelplatte angeordnet.
摘要翻译：因此建议通过可摆动的方式悬挂镜板，微反射镜阵列的一个或多个弹簧元件具有在一帧中的至少一个芯片上。至少一个设置有入口和出口的微通道在芯片框架和在所述一个或多个弹簧元件使冷却介质，或在其中一个或多个弹簧元件，并且在其被布置在至少一个反射镜板芯片框架。

8. 发明申请

WO2022268870A2 HERMETISCH VERKAPSELTE, OPTISCHE PROJEKTIONSANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN DERSELBEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2022268870A2
公开(公告)日：2022-12-29
申请号：PCT/EP2022/066987
申请日：2022-06-22
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.
发明人： REINERT, Wolfgang , STENCHLY, Vanessa , QUENZER, Hans-Joachim
IPC分类号： G02B26/10 , G02B27/18 , B81B7/00 , B81C1/00 , B81B7/0067 , B81C1/00317 , G02B26/101 , G02B27/14 , H01S5/02208 , H01S5/02253 , H01S5/02255 , H01S5/02345 , H01S5/4012 , H01S5/4093
摘要： Eine optische Projektionsanordnung (10) umfasst eine erste Baugruppe (10-1), die auf einem gasdichten ersten Teilsubstrat (20-1) angeordnet ist, mit einem an dem ersten Teilsubstrat (20-1) angeordneten, optoelektronischen Bauteil (30), wobei zumindest ein Teil der Sendestrahlung (32) des optoelektronischen Bauteils (30) eine Hauptabstrahlrichtung in einem Bereich von ± 30° zu einer Vertikalen des ersten Teilsubstrats (20-1) aufweist, einem gasdichten Abdeckungselement (38), das mit dem ersten Teilsubstrat (20-1) hermetisch gefügt ist, um eine hermetisch dichte Häusung für das optoelektronische Bauteil (30) bereitzustellen, wobei das Abdeckungselement (38) zumindest im Bereich der Hauptabstrahlrichtung ein für die Sendestrahlung transparentes Material aufweist, einer Linsenanordnung (40), die fest bzgl. des Abdeckungselements (38) angeordnet ist, zur Kollimation der Sendestrahlung (32) des optoelektronischen Bauteils (30), und einer Prisma-Anordnung (50), die ausgebildet ist, um die kollimierte Sendestrahlung (32) des optoelektronischen Bauteils (30) zu führen und an einer Auskoppeloberfläche (52) auszukoppeln, und ferner eine zweite Baugruppe (10-1), die auf einem zweiten Teilsubstrat (20-1) angeordnet ist, mit einer MEMS-Spiegelanordnung (60) mit einem beweglich aufgehängten und auslenkbaren MEMS-basierten Spiegelelement (62), wobei die Prisma-Anordnung (50) und die MEMS-Spiegelanordnung (60) geometrisch so zueinander angeordnet sind, dass die ausgekoppelte Sendestrahlung (32) unter einem Einfallwinkel β auf das beweglich aufgehängte MEMS-basierte Spiegelelement (62) trifft, wobei der Einfallwinkel β im Ruhezustand des MEMS-basierten Spiegelelements (62) in einem Bereich zwischen 30° und 50° liegt.

9. 发明申请

WO2017102708A9 KONVERTER ZUR ERZEUGUNG EINES SEKUNDÄRLICHTS AUS EINEM PRIMÄRLICHT, LEUCHTMITTEL, DIE SOLCHE KONVERTER ENTHALTEN, SOWIE VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DER KONVERTER UND LEUCHTMITTEL 审中-公开
公开(公告)号：WO2017102708A9
公开(公告)日：2017-06-22
申请号：PCT/EP2016/080762
申请日：2016-12-13
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.
发明人： HOFMANN, Ulrich , QUENZER, Hans-Joachim , LISEC, Thomas , VON WANTOCH, Thomas
IPC分类号： H01L33/50 , F21K9/64
摘要： Die Erfindung betrifft eine Konverteranordnung zur Umwandlung eines Primärlichts in ein Sekundärlicht, umfassend mindestens einen Körper, der eine lichtkonvertierende Struktur mit offenen Poren aufweist und seitlich von einem Rahmen gehalten wird, wobei die Oberflächen sowohl der lichtkonvertierenden Struktur als auch der Innenseiten des Rahmens mit einer transparenten Schicht bedeckt sind, derart, dass jeder der genannten Körper ein Areal bildet, in dem eine Eigenschaft des einfallenden Lichtes und vorzugsweise dessen Wellenlänge verändert wird. In spezifischen Ausgestaltungen kann die Konverteranordnung beispielsweise Bestandteil von Display-Anordnungen oder von miniaturisierten Bauelementen sein. Die Erfindung gibt auch ein Verfahren zur Herstellung der Konverteranordnung an.

10. 发明申请

WO2022200331A1 MEHRKANALIGER KATADIOPTRISCHER AUFBAU ZUR AUFNAHME EINES INFRAROTBILDES 审中-公开
公开(公告)号：WO2022200331A1
公开(公告)日：2022-09-29
申请号：PCT/EP2022/057461
申请日：2022-03-22
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.
发明人： BRÜNING, Robert , LEITEL, Robert , HUBOLD, Martin , QUENZER, Hans-Joachim , WEILER, Dirk
IPC分类号： G01J5/04 , H01L27/146 , H01L31/0232 , G02B17/08 , G01J5/08 , G01J5/00
摘要： Ausführungsbeispiele schaffen einen mehrkanaligen katadioptrischen Aufbau zur Aufnahme eines Infrarotbildes [z.B. Wärmebildes]. Der mehrkanalige katadioptrische Aufbau umfasst eine Mehrzahl von optischen Korrekturelementen, eine Mehrzahl von optischen Detektoren [z.B. Bildaufnehmer; z.B. jeweils mit einer Mehrzahl von Pixeln], und eine Mehrzahl von optischen Spiegelelementen, wobei die Mehrzahl von optischen Detektoren jeweils an einem der Mehrzahl von optischen Korrekturelementen angebracht oder integriert sind und jeweils zwischen einem der Mehrzahl von optischen Korrekturelementen und einem der Mehrzahl von optischen Spiegelelementen verkapselt sind, wobei jeweils einer der Mehrzahl von optischen Detektoren zusammen mit einem jeweiligen optischen Korrekturelement und einem jeweiligen optischen Spiegelelement einen Kanal des mehrkanaligen katadioptrischen Aufbaus bilden, wobei die Mehrzahl von optischen Korrekturelementen auf einem gemeinsamen Korrekturelementträger gebildet sind und/oder wobei die Mehrzahl von optischen Spiegelelementen auf einem gemeinsamen Spiegelelementträger gebildet sind.

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