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1. 发明申请

WO2021239277A1 DÄMPFUNGSANORDNUNG ZUR SCHWINGUNGSDÄMPFUNG EINES ELEMENTS IN EINEM OPTISCHEN SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2021239277A1
公开(公告)日：2021-12-02
申请号：PCT/EP2021/054038
申请日：2021-02-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , NEFZI, Marwene , HEMBACHER, Stefan , SCHOENEN, David , KUGLER, Jens
发明人： NEFZI, Marwene , HEMBACHER, Stefan , SCHOENEN, David , KUGLER, Jens
IPC分类号： G03F7/20 , F16F5/00 , F16F9/00 , G02B7/02
摘要： Die Erfindung betrifft eine Dämpfungsanordnung zur Schwingungsdämpfung eines Elements in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage. Eine erfindungsgemäße Dämpfungsanordnung weist ein Element (101, 401, 501), ein in einem Hohlraum befindliches Fluid (120, 220, 420, 520) und wenigstens einen an den Hohlraum angeschlossenen Kanal (130, 230, 430, 530) auf, wobei eine Schwingung des Elements durch teilweise Verdrängung des Fluids aus dem Hohlraum in den wenigstens einen Kanal eine Dissipation von Schwingungsenergie des Elements bewirkt.

2. 发明申请

WO2022043110A1 OPTISCHES ELEMENT, OPTISCHE ANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES OPTISCHEN ELEMENTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2022043110A1
公开(公告)日：2022-03-03
申请号：PCT/EP2021/072709
申请日：2021-08-16
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： NEFZI, Marwene , HEMBACHER, Stefan , KUGLER, Jens , SCHREZENMEIER, Irina
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/185
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches Element (21), umfassend: ein Substrat (30), sowie eine an dem Substrat (30) gebildete optische Oberfläche (32). In das Substrat (30) ist mindestens eine, bevorzugt eine Mehrzahl von fluiddicht abgeschlossenen Kammern (33) eingebettet, in die ein rheologisches Fluid (34) eingebracht ist, um die optische Oberfläche (32) zu verformen. Die Erfindung betrifft auch eine optische Anordnung, insbesondere ein EUV-Lithographiesystem, umfassend: mindestens ein optisches Element (21) wie weiter oben beschrieben, sowie eine Felderzeugungseinrichtung (17b) zur Erzeugung eines bevorzugt zeitlich veränderlichen elektro-magnetischen Felds, insbesondere eines Magnetfelds (38), welches die mindestens eine Kammer (33) durchsetzt, in die das rheologische Fluid (34) eingebracht ist, sowie ein Verfahren zum Herstellen eines optischen Elements (31), das wie weiter oben beschrieben ausgebildet ist.

3. 发明申请

WO2018224245A1 VORRICHTUNG ZUR AUSRICHTUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2018224245A1
公开(公告)日：2018-12-13
申请号：PCT/EP2018/062325
申请日：2018-05-14
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： WUESTNER, Sebastian , NEFZI, Marwene , PNINI-MITTLER, Boaz , HEMBACHER, Stefan
IPC分类号： G02B7/182 , G03F7/20
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zur Ausrichtung eines optischen Elements (2), mit einer Betätigungseinrichtung (3) welche eine Mehrzahl von Betätigungseinheiten (4) zur Ausrichtung des optischen Elements (2) aufweist, wobei die Betätigungseinheit (4) über Befestigungspunkte (5) mit dem optischen Element (2) verbunden sind und eine Kraft auf das optische Element (2) aufbringen um das optische Element (2) auszurichten. Vorgesehen ist eine Messeinrichtung (6) zur Bestimmung von auf das optische Element (2) wirkenden parasitären Kräften (F P ) und/oder parasitären Momenten (M P ). Ferner ist eine Kompensationseinrichtung (7) mit wenigstens einer Kompensationseinheit (8) vorgesehen, wobei die wenigstens eine Kompensationseinheit (8) auf Basis von Daten der Messeinrichtung (6) eine Kompensationskraft (F K ) und/oder ein Kompensationsmoment (M K ) auf das optische Element (2) aufbringt, um die parasitären Kräfte (F P ) und/oder die parasitären Momente (M P ) zu korrigieren.

4. 发明申请

WO2022171538A1 SYSTEM UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2022171538A1
公开(公告)日：2022-08-18
申请号：PCT/EP2022/052742
申请日：2022-02-04
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： NEFZI, Marwene , KUGLER, Jens
IPC分类号： G03F7/20 , F16F15/00 , G02B7/182 , G02B26/08
摘要： Ein System (100A, 100B, 100C) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend ein erstes Bauteil (102), ein zweites Bauteil (104), und eine Entkopplungseinrichtung (200A, 200B, 200C), die dazu eingerichtet ist, das zweite Bauteil (104) in mehr als einem Freiheitsgrad von mechanischen Anregungen des ersten Bauteils (102) zu entkoppeln, wobei die Entkopplungseinrichtung (200A,200B, 200C) erste Entkopplungselemente (216, 218), die eine positive Steifigkeit aufweisen, und zweite Entkopplungselemente (220, 222, 224, 226, 238, 240), die eine negative Steifigkeit aufweisen, umfasst, und wobei die Entkopplungseinrichtung (200A, 200B, 200C) ein drittes Bauteil (202), das zwischen dem ersten Bauteil (102) und dem zweiten Bauteil (104) angeordnet ist, umfasst.

5. 发明申请

WO2019141516A1 OPTICAL ELEMENT FOR THE BEAM GUIDANCE OF IMAGING LIGHT IN PROJECTION LITHOGRAPHY 审中-公开
公开(公告)号：WO2019141516A1
公开(公告)日：2019-07-25
申请号：PCT/EP2019/050055
申请日：2019-01-03
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： HEMBACHER, Stefan , NEFZI, Marwene
IPC分类号： G02B7/182 , G02B26/08 , G03F7/20
摘要： An optical element (M) serves for the beam guidance of imaging light in projection lithography. The optical element (M) has a main body (18) and at least one optical surface (19) carried by said main body. At least one coupling unit (35) is arranged on the main body (18). Said coupling unit serves to attach a compensation weight element (34) for compensating a figure deformation of the optical surface (19). The result is an optical element which can be provided at the use location with a figure deformation that is as small as possible.

6. 发明申请

WO2018134021A1 OPTICAL ARRANGEMENT, IN PARTICULAR LITHOGRAPHY SYSTEM, WITH A TRANSPORT LOCK 审中-公开
公开(公告)号：WO2018134021A1
公开(公告)日：2018-07-26
申请号：PCT/EP2017/083836
申请日：2017-12-20
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： ZWEERING, Ralf , FRITZSCHE, Steffen , WAGNER, Hendrik , AHLES, Florian , PROCHNAU, Jens , ERATH, Michael , KULITZKI, Viktor , NEFZI, Marwene
IPC分类号： G03F7/20
摘要： The invention relates to an optical arrangement, for example a lithography system, comprising: a first component (19), in particular a carrying frame, a second component (13), which is movable in relation to the first component (19), in particular a mirror, and also at least one stop (20) with at least one stop face (20a, b) for limiting the movement of the second component (13) in relation to the first component (19). In one aspect of the invention, the optical arrangement, preferably the stop (20), has a fixing device (23) for fixing the second component (13), which at least comprises a fixing element (24) that is movable in relation to the stop face (21a, b) of the stop (20). Further aspects of the invention likewise relate to an optical arrangement with a fixing device or with a transport lock.

7. 发明申请

WO2018133969A1 OPTISCHE ANORDNUNG, INSBESONDERE LITHOGRAPHIESYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2018133969A1
公开(公告)日：2018-07-26
申请号：PCT/EP2017/079074
申请日：2017-11-13
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： GELLRICH, Bernhard , ZWEERING, Ralf , SEVIOUR, Charles , ERATH, Michael , PROCHNAU, Jens , NEFZI, Marwene , KULITZKI, Viktor , LORENZ, Axel , SCHAFF, Stefan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B7/182
摘要： Die Erfindung betrifft eine optische Anordnung, insbesondere ein Lithographiesystem (1 ), umfassend: eine bewegliche Komponente, insbesondere einen Spiegel (3), mindestens einen Aktor (4) zur Bewegung der Komponente (3), sowie mindestens einen Anschlag (6) mit einer Anschlagfläche (12) zur Begrenzung der Bewegung der Komponente (3). Die optische Anordnung weist an einem Anschlag (6) oder an mehreren Anschlägen mindestens zwei Anschlagflächen zur Begrenzung der Bewegung der beweglichen Komponente (3) in ein- und derselben Bewegungsrichtung (+X, -X, -Y, +Y) auf, wobei die Anschlagflächen insbesondere zur Anlage an derselben Seite der beweglichen Komponente (3) vorgesehen sind und/oder die optische Anordnung weist mindestens einen weiteren Aktor (9) zur Bewegung des Anschlags (6) relativ zur beweglichen Komponente (3) sowie mindestens einen Abstandssensor (13) zur Bestimmung eines Abstands (A) zwischen einer Anschlagfläche (12) des Anschlags (6) und der beweglichen Komponente (3) auf. Die optische Anordnung kann auch eine gewichtsreduzierte bewegliche Komponente in Form eines Spiegels (3) aufweisen.

8. 发明申请

WO2016119977A1 BEWEGLICH GELAGERTES BAUTEIL EINER PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE SOWIE VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR BEWEGUNGSBEGRENZUNG HIERFÜR 审中-公开
标题翻译：便携式存储的组件的投射曝光系统，以及设备和方法的运动控制THEREFOR
公开(公告)号：WO2016119977A1
公开(公告)日：2016-08-04
申请号：PCT/EP2015/080685
申请日：2015-12-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： PROCHNAU, Jens , NEFZI, Marwene , SCHAFFER, Dirk
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/182 , F16F15/03
CPC分类号： G03F7/70825 , F16F15/03 , G02B7/1828 , G03F7/709 , G03F7/70975
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Begrenzung der Bewegung von beweglich gelagerten Bauteilelementen eines Bauteils einer Projektionsbelichtungsanläge für die Mikrolithographie, wobei das Bauteil ein Bauteilelement (1) und mindestens ein Lagerelement (8) umfasst, welches das Bauteilelement (1) lagert und die Position des Bauteilelements innerhalb eines zulässigen Bewegungsbereichs definiert, wobei das Verfahren umfasst: Bereitstellung einer Bewegungsbegrenzungsvorrichtung, die die Möglichkeiten der Positionsänderungen des Bauteilelements (1) außerhalb eines zulässigen Bewegungsbereichs begrenzt, wobei die Bewegungsbegrenzungsvorrichtung eine Felderzeugungseinrichtung aufweist, die mindestens eine erste Komponente (2), die an dem in der Bewegung zu begrenzenden Bauteilelement (1) angeordnet ist, und mindestens eine zweite Komponente (3) aufweist, die an einer Tragstruktur (4), gegenüber der die Bewegung des beweglich gelagerten Bauteilelements (1) begrenzt werden soll, angeordnet ist, wobei erste und zweite Komponente beabstandet zueinander sind und von der ersten und zweiten Komponente jeweils ein magnetisches und/oder elektrisches Feld erzeugt wird, sodass zwischen erster und zweiter Komponente mindestens ein Kraftfeld ausgebildet werden kann, Einstellen des Kraftfelds so, dass die zwischen den Komponenten (2, 3) wirkende Kraft im Normalbetrieb so klein ist, dass sie möglichst keinen Einfluss auf die Positionierung des Bauteilelements (1) hat oder dieser Einfluss minimiert ist, wobei das Kraftfeld gleichzeitig so eingestellt wird, dass bei Positionsveränderungen des Bauteilelements (1) durch unerwünschte externe Kräfte über den zulässigen Bewegungsbereich hinaus die zwischen den Komponenten (2, 3) wirkende Kraft der Positionsänderung entgegen wirkt. Außerdem betrifft die Erfindung ein entsprechendes Bauteil und eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Bauteil.
摘要翻译：本发明涉及一种方法，用于限制Projektionsbelichtungsanläge用于微光刻，其中所述部件包括一个构成要素（1）和至少一个轴承元件的组成部分的可移动地安装的构成要素的移动（8），该支撑部件元件（1）和的位置运动的容许范围内定义的组件元件，该方法包括：提供在构成要素的位置变化的可能性（1）有限运动的容许范围之外的运动限制装置，其中所述运动限制装置包括一个场产生装置包括至少一个第一部件（2）安装在被布置在所述运动是有限的构成要素（1），和至少一个第二部件（3）到支撑结构（4），相对成为向可移动的移动装部元件（1）是有限 S的关系，所述第一和第二部件彼此隔开并且各自表示选自所述第一和第二部件中产生的磁场和/或电场，使得至少一个力字段可以第一和第二部件之间形成，调整力场所以，这些组件之间的力（2，3）作用，其特征在于，所述力字段被设置在相同的时间，它是在正常操作这么小，其对所述部分元件的定位没有影响尽可能（1）或该影响最小化，对于在位置的变化构成要素（1）作用由不希望的外力的部件之间的允许的运动范围（2，3）作用于在位置的变化的力。本发明还涉及一种相应的装置和具有这种部件的投影曝光装置。

9. 发明申请

WO2023011881A1 VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES OPTISCHEN SYSTEMS 审中-公开
公开(公告)号：WO2023011881A1
公开(公告)日：2023-02-09
申请号：PCT/EP2022/069662
申请日：2022-07-13
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ZIPS, Julian , NEFZI, Marwene
发明人： ZIPS, Julian , NEFZI, Marwene
IPC分类号： G03F7/20 , G05B23/02
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems, wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist: (a) Sensorgestütztes Messen von Werten wenigstens einer physikalischen Größe an einer Mehrzahl unterschiedlicher Sensorpositionen im optischen System, und (b) Diagnostizieren eines existierenden oder zu erwartenden Fehlbetriebs des optischen Systems auf Basis dieser Messung, wobei anhand der im Schritt (a) gemessenen Werte eine modellbasierte Bestimmung wenigstens eines Parameters an weiteren, jeweils keiner der Sensorpositionen entsprechenden Positionen vorgenommen wird, und wobei das Diagnostizieren im Schritt (b) ferner anhand dieser modellbasierten Bestimmung erfolgt.

10. 发明申请

WO2021233631A1 METHOD FOR MAINTAINING A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, SERVICE MODULE AND ARRANGEMENT FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY 审中-公开
公开(公告)号：WO2021233631A1
公开(公告)日：2021-11-25
申请号：PCT/EP2021/060328
申请日：2021-04-21
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： EHM, Dirk , KUGLER, Jens , MODESTE, Benjahman, Julius , NEFZI, Marwene
IPC分类号： G03F7/20
摘要： The invention relates to a method for maintaining a projection exposure apparatus (1) comprising at least two modules (21, 22, 50) and a reference element (30, 40), wherein the modules (21, 22, 50) are referenced to the reference element (30, 40), having the following method steps: - Removing a module (21, 22, 50), - Attaching a service module (60) to or in the vicinity of the projection exposure appa- ratus (1), - Referencing the service module (60) to the reference element (30, 40) of the projection exposure apparatus (1), - Implementing a maintenance measure with the aid of the service module (60). Furthermore, the invention relates to a service module (60) and an arrangement (70) for semiconductor lithography with a projection exposure apparatus (1) comprising at least two modules (21, 22, 50) and a reference element (30, 40), wherein the modules (21, 22, 50) are referenced vis-à-vis the reference element (30, 40), and comprising a service module (60), wherein the service module (60) is referenced to the reference element (30, 40) of the projection exposure apparatus (1).

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