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1. 发明申请

WO2021239299A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM TEMPERIEREN VON ELEMENTEN IN MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2021239299A1
公开(公告)日：2021-12-02
申请号：PCT/EP2021/058218
申请日：2021-03-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： MONZ, Thomas , KEMP, Alexandre , LIPPERT, Johannes
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Die Erfindung betrifft eine mikrolithographi sehe Proj ektionsbelichtungsanlage, insbesondere für den DUV-Bereich (400) oder für den EUV-Bereich (100), aufweisend eine Beleuchtungseinrichtung (102; 402) und ein Proj ektionsobj ektiv (104, 340, 640; 404) mit mindestens einem Element (370, 372, 380, 382, 390, 396, 397, 399, 391, 392, 393, 394, 398, 451, 930, 1010, 1012, 1014), das zu seiner Temperierung zumindest bereichsweise von mindestens einer zum Leiten eines Temperierfluids vorgesehenen Temperi erflui dl eitung (302, 304, 306, 308, 310, 452, 476, 486, 602, 919, 921, 1007) durchzogen ist, wobei die Temperierfluidleitung (302, 304, 306, 308, 310, 452, 476, 486, 602, 919, 921, 1007) mit mindestens einem T emperi erflui dvorratsb ehälter (470, 480, 615, 515, 516, 519, 460, 920, 1020) verbunden ist und wobei mindestens ein Temperierelement (702, 704, 706, 906, 916, 1006) zum Temperieren des Temperierfluids an oder in der T emperi erflui dl eitung (302, 304, 306, 308, 310, 452, 476, 486, 602, 919, 921, 1007) vorgesehen ist, wobei - mindestens zwei der Elemente (370, 372, 380, 382, 390, 396, 397, 399, 391, 392, 393, 394, 398, 451, 930, 1010, 1012, 1014) unabhängig voneinander mit jeweils mindestens einer separaten der T emperi erflui dl eitungen (302, 304, 306, 308, 310, 452, 476, 486, 602, 919, 921, 1007) oder - mindestens zwei verschiedene Bereiche des mindestens einen Elements (370, 372, 380, 382, 390, 396, 397, 399, 391, 392, 393, 394, 398, 451, 930, 1010, 1012, 1014) unabhängig voneinander mit jeweils mindestens einer separaten der Temperierfluidleitungen (302, 304, 306, 308, 310, 452, 476, 486, 602, 919, 921, 1007) oder - mindestens zwei der Elemente (370, 372, 380, 382, 390, 396, 397, 399, 391, 392, 393, 394, 398, 451, 930, 1010, 1012, 1014) mit der Temperierfluidleitung (302, 304, 306, 308, 310, 452, 476, 486, 602, 919, 921, 1007) durchzogen sind. Die Erfindung betrifft zudem ein Verfahren zur Temperierung mindestens eines Elements einer mikrolithographi sehen Proj ektionsbelichtungsanlage (300, 400).

2. 发明申请

WO2022029062A1 OPTISCHE BAUGRUPPE, PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND VERFAHREN 审中-公开
公开(公告)号：WO2022029062A1
公开(公告)日：2022-02-10
申请号：PCT/EP2021/071540
申请日：2021-08-02
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： RABA, Andreas , LIPPERT, Johannes , RAAB, Markus , MANGER, Matthias
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/00
摘要： Die Erfindung betrifft eine optische Baugruppe (20) umfassend ein optisches Element (21) mit einer optischen Wirkfläche (22), mindestens einer Deformationsvorrichtung (24,25) und einem Basiselement (27), wobei die Deformationsvorrichtung (24,25) zwischen dem optischen Element (21) und dem Basiselement (27) angeordnet ist und dazu eingerichtet ist, das optische Element (21) und das Basiselement (27) zu deformieren. Erfindungsgemäß umfasst die optische Baugruppe (20) mindestens einen Sensor (30,33) zur Bestimmung einer Deformation der optischen Wirkfläche (22). Weiterhin umfasst die Erfindung eine mit der optischen Baugruppe (20) ausgestattete Projektionsbelichtungsanlage (1,101) sowie ein Verfahren zur Bestimmung von Deformationen optischer Wirkflächen (22).

3. 发明申请

WO2021160712A2 OPTISCHE BAUGRUPPE, PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND VERFAHREN 审中-公开
公开(公告)号：WO2021160712A2
公开(公告)日：2021-08-19
申请号：PCT/EP2021/053278
申请日：2021-02-11
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： RABA, Andreas , LIPPERT, Johannes , RAAB, Markus
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/185 , H01L41/08 , G02B26/00 , G02B26/0825 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B7/181 , G03F7/70266 , G03F7/70891 , H01L41/04 , H01L41/083 , H01L41/183
摘要： Die Erfindung betrifft eine optische Baugruppe (30) einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem optischen Element (31) und einem Aktuator (33) zur Deformation des optischen Elementes (31), wobei der Aktuator (33) von einer vorhandenen Steuerung mit einer Vorspannung beaufschlagt wird. Weiterhin betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie, umfassend eine optische Baugruppe (30) nach einem der vorangehenden Ansprüche und ein Verfahren zum Betrieb eines Aktuators (33) zur Deformation eines optischen Elementes (31) für die Halbleiterlithographie, wobei der Aktuator (33) von einer vorhandenen Steuerung mit einer Vorspannung beaufschlagt wird.

4. 发明申请

WO2015173363A1 PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT FELDNAHEM MANIPULATOR 审中-公开
标题翻译：与现场近机械臂投射曝光系统，
公开(公告)号：WO2015173363A1
公开(公告)日：2015-11-19
申请号：PCT/EP2015/060702
申请日：2015-05-13
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： DEUFEL, Peter , LIPPERT, Johannes , MARSOLLEK, Pascal , WESSELINGH, Jasper , KWAN, Yim-Bun Patrick
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/00
CPC分类号： G03F7/706 , G02B27/0025 , G03F7/7015 , G03F7/70191 , G03F7/70258 , G03F7/70266 , G03F7/70308 , G03F7/70825 , G03F7/7095
摘要： Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (100) für die Halbleiterlithographie mit einem Projektionsobjektiv (107) und mit einem Manipulator (200) zur Korrektur von Wellenfrontfehlern optischer Nutzstrahlung, welche ein optisches Element (9) des Manipulators (200) während des Betriebes des Projektionsobjektives durchtreten, wobei das optische Element beispielsweise als planparalleles Element ausgebildet ist und der Manipulator (200) in Richtung der optischen Nutzstrahlung unmittelbar nach einem Reticle der Projektionsbelichtungsanlage angeordnet ist. Dabei ist mindestens ein auf einem Sensorrahmen angeordneter Sensor zur Messung der Deformation bzw. der Auslenkung des optischen Elementes vorhanden, wobei der thermische Ausdehnungskoeffizient des Sensorrahmens (5) an denjenigen eines Grundrahmens (4) angepasst ist, auf welchem der Sensorrahmen (5) angeordnet ist.
摘要翻译：本发明涉及一种用于与投影透镜（107）和用于波阵面误差光学有效辐射，其中（9）的机械手（200）的投影物镜的操作期间通过的光学元件的校正的机械手（200）的半导体光刻的投射曝光设备（100），其中，所述光学元件被例如形成为平面平行的元件和所述操纵器（200）的投影曝光装置的掩模版之后立即设置在光学有效辐射的方向。在这种情况下，设置在传感器框架传感器，用于测量变形或提供的光学元件的位移，其中，所述传感器框架（5）的那些的基架（4）被适配的热膨胀系数，配置该传感器框架上的至少一个（5），

5. 发明申请

WO2020020550A1 SPIEGEL FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE, SOWIE VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES DEFORMIERBAREN SPIEGELS 审中-公开
公开(公告)号：WO2020020550A1
公开(公告)日：2020-01-30
申请号：PCT/EP2019/066634
申请日：2019-06-24
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , LIPPERT, Johannes , GRUNER, Toralf , HILD, Kerstin , LUCKE, Philip , NEMATOLLAHI, Mohammadreza
发明人： LIPPERT, Johannes , GRUNER, Toralf , HILD, Kerstin , LUCKE, Philip , NEMATOLLAHI, Mohammadreza
IPC分类号： G21K1/06 , G03F7/20 , G02B5/08 , G02B26/06
摘要： Die Erfindung betrifft einen Spiegel für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, sowie ein Verfahren zum Betreiben eines deformierbaren Spiegels. Gemäß einem Aspekt der Erfindung weist ein Spiegel eine optische Wirkfläche (11), ein Spiegelsubstrat (12), einen Reflexionsschichtstapel (21) zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche (11) auftreffender elektromagnetischer Strahlung, und wenigstens eine piezoelektrische Schicht (16) auf, welche zwischen Spiegelsubstrat (12) und Reflexionsschichtstapel (21) angeordnet und über eine erste, auf der dem Reflexionsschichtstapel (21) zugewand- ten Seite der piezoelektrischen Schicht (16) befindliche Elektrodenanordnung und eine zweite, auf der dem Spiegelsubstrat (12) zugewandten Seite der piezoelektrischen Schicht (16) befindliche Elektrodenanordnung mit einem elektrischen Feld zur Erzeugung einer lokal variablen Deformation beaufschlagbar ist, wobei diese piezoelektrische Schicht (16) eine Mehrzahl von durch Säulengrenzen voneinander räumlich separierten Säulen aufweist, wobei ein mittlerer Säulendurchmesser dieser Säulen im Bereich von 0.1 μm bis 50μm liegt.

6. 发明申请

WO2015173362A1 OPTIMALE ANORDNUNG VON AKTUIER- UND SENSORPUNKTEN AUF EINEM OPTISCHEN ELEMENT 审中-公开
标题翻译： ON的光学元件AKTUIER-和测距点的优化配置
公开(公告)号：WO2015173362A1
公开(公告)日：2015-11-19
申请号：PCT/EP2015/060701
申请日：2015-05-13
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： MARSOLLEK, Pascal , LIPPERT, Johannes , WESSELINGH, Jasper , BLEIDISTEL, Sascha
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/00
CPC分类号： G03F7/706 , G02B27/0025 , G03F7/7015 , G03F7/70191 , G03F7/70258 , G03F7/70266 , G03F7/70308 , G03F7/70825 , G03F7/7095
摘要： Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem deformierbaren optischen Element zur Korrektur von Wellenfrontfehlern, wobei zur Deformation des optischen Elements Aktuierungseinheiten vorhanden sind, welche über Kontaktbereiche in mechanischem Kontakt mit dem optischen Element stehen, wobei die Kontaktbereiche (36) in einer regelmäßigen oder unregelmäßigen Anordnung außerhalb eines optisch aktiven Bereichs (9.16', 9,17', 9.19', 9.20', 9.21 ') des optischen Elements (9.16, 9,17, 9.19, 9.20, 9.21 ) angeordnet sind und wobei dem optisch aktiven Bereich nächstliegende und ferner liegende Kontaktbereiche (36) vorhanden sind.
摘要翻译：本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光设备具有用于波阵面误差的校正的可变形光学元件是存在的用于光学元件Aktuierungseinheiten其与通过接触区域中的光学元件的机械接触的变形，所述在常规的接触区域（36）或（16.9 '9.17' ，9.19'，9.20' ，9.21“），光学元件（9.16，9.17，9.19，9.20，9.21）被布置的光学活性区的不规则排列外侧，其中，所述光学活性区最近的并且进一步布置接触区域（36）都存在。

7. 发明申请

WO2012028613A1 SUBSTRAT FÜR SPIEGEL FÜR DIE EUV-LITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：基板MIRROR EUV光刻
公开(公告)号：WO2012028613A1
公开(公告)日：2012-03-08
申请号：PCT/EP2011/064904
申请日：2011-08-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , EKSTEIN, Claudia , LIPPERT, Johannes , MALTOR, Holger , WEISER, Martin , SIEKMANN, Heiko , DINGER, Udo
发明人： EKSTEIN, Claudia , LIPPERT, Johannes , MALTOR, Holger , WEISER, Martin , SIEKMANN, Heiko , DINGER, Udo
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/08
CPC分类号： G02B5/0891 , G02B5/0808 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/06
摘要： Als Substrate, die für Spiegel geeignet sind, die bei Wellenlängen im EUV- Wellenlängenbereich eingesetzt werden, werden Substrate (1) mit einem Grundkörper (2) und einer Polierschicht (3) vorgeschlagen, wobei die Polierschicht (3) eine Dicke von weniger als 10 μm und eine quadratische Rauheit von weniger als 0, 5 nm aufweist und der Grundkörper (2) aus einer Aluminiumlegierung hergestellt ist. Auf der Polierschicht (3) des Substrats (1) des EUV-Spiegels (4) ist zudem eine hochreflektierende Schicht (6) vorgesehen.
摘要翻译：适合于反射镜，它们在在EUV波长范围内的波长中使用的合适底物，底物（1）提出了一种具有一个基体（2）和抛光层（3），其中，所述抛光层（3）的厚度小于10 具有微米和方粗糙度小于0，5纳米，和由铝合金制成的基体（2）。在EUV反射镜（4）还包括（6）提供一种高反射层的与衬底（1）的抛光层（3）。

8. 发明申请

WO2022200203A1 OPTICAL ASSEMBLY AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF, METHOD FOR DEFORMING AN OPTICAL ELEMENT, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
公开(公告)号：WO2022200203A1
公开(公告)日：2022-09-29
申请号：PCT/EP2022/057120
申请日：2022-03-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： LOOPSTRA, Erik , MANGER, Matthias , VOGLER, Alexander , RAAB, Markus , LIPPERT, Johannes , BLEIDISTEL, Sascha , WITT, Axel , RABA, Andreas
IPC分类号： G02B26/08 , G02B5/09 , G02B5/08
摘要： The invention relates to an optical assembly (1) comprising an optical element (2) with an optically active front side (3) and a back side (4) facing away from the front side (3). The optical assembly (1) comprises a plurality of electrostatic actuators (5) arranged distributed along the back side (4) of the optical element (2). Each actuator (5) comprises an electrode pair of two spaced apart electrodes (6, 7), each actuator (5) being configured and mechanically coupled to the back side (4) of the optical element (2) so that an electrostatic force which is generated by means of an electrical control voltage (U1...n) between the electrodes (6, 7) of the electrode pair and which serves to deform the optical element (2) is transferred to the optical element (2). Provision is made for a dielectric (8) to be arranged between the electrodes (6, 7) of the electrode pair.

9. 发明申请

WO2022043004A1 OPTISCHE BAUGRUPPE, VERFAHREN ZUR ANSTEUERUNG EINER OPTISCHEN BAUGRUPPE UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2022043004A1
公开(公告)日：2022-03-03
申请号：PCT/EP2021/071538
申请日：2021-08-02
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： RAAB, Markus , RABA, Andreas , LIPPERT, Johannes , MANGER, Matthias
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/06
摘要： Die Erfindung betrifft eine optische Baugruppe (20) für die Halbleiterlithographie mit einem optischen Element (21) und einem Aktuator (26.4) zur Deformation des optischen Elementes (21), wobei der Aktuator (26.4) abschnittsweise aus mindestens drei Abschnitten (27) aufgebaut ist. Dabei ist mindestens eine erste (31) und eine zweite (32) Gruppe von jeweils mittels einer Ansteuerung ansteuerbaren Abschnitten (27) vorhanden, wobei die erste Gruppe (31) zu einer Grobaktuierung und die zweite Gruppe (32) zu einer Feinaktuierung dient. Die Ansteuerung (29) ist dazu eingerichtet, die Gruppen (31,32) unabhängig voneinander und die Abschnitte (27) einer Gruppe (31,32) gemeinsam anzusteuern. Weiterhin ist die Ansteuerung dazu eingerichtet, die Anzahl der pro Gruppe (31,32) gemeinsam angesteuerten Abschnitte (27) variabel einzustellen. Ferner betrifft die Erfindung eine mit der erfindungsgemäßen Baugruppe (20) ausgestattete Projektionsbelichtungsanlage (1,101) sowie ein Verfahren zur Ansteuerung der optischen Baugruppe (20).

10. 发明申请

WO2022029216A1 PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT TEMPERIERVORRICHTUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2022029216A1
公开(公告)日：2022-02-10
申请号：PCT/EP2021/071847
申请日：2021-08-05
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： RABA, Andreas , LIPPERT, Johannes , RAAB, Markus , BAUEREGGER, Stefan , KRUEGER, Karsten , MANGER, Matthias
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/18 , G02B26/08
摘要： Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1,101) für die Halbleiterlithographie mit einer optischen Baugruppe (40), wobei die optische Baugruppe (40) ein deformierbares optisches Element (41) und mehrere mechanische Aktuatoren (46.1,46.2,46.3) zur Deformation des optischen Elementes (41) umfasst, wobei die optische Baugruppe (40) eine Temperiervorrichtung (48) zur Temperierung des Aktuators (46.1,46.2,46.3) umfasst und wobei die Temperiervorrichtung (48) dazu eingerichtet ist, einzelne Aktuatoren (46.1,46.2,46.3) gesondert anzusteuern.

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