专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2022073610A1 HERSTELLUNGSVERFAHREN UND MESSVERFAHREN 审中-公开
公开(公告)号：WO2022073610A1
公开(公告)日：2022-04-14
申请号：PCT/EP2020/078193
申请日：2020-10-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： STIEPAN, Hans Michael , MONZ, Thomas , KALLER, Julian , LÖRING, Ulrich
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/08 , G02B7/18 , G01B11/24 , G01M11/00
摘要： Verfahren zur Herstellung eines optischen Elements, wobei das optische Element (2, 52, 61) einen Grundkörper (18) mit einem Substrat (19, 53, 64) und einer reflektierenden Fläche (20, 54, 62) aufweist, und wobei in dem Substrat (19, 53, 64) zumindest ein Kühlkanal (21, 45, 46, 47, 56, 57, 58, 59) zur Aufnahme eines Kühlmittels (22) ausgebildet wird, und wobei der Kühlkanal (21, 45, 46, 47, 56, 57, 58, 59) durch einen spanenden Fertigungsprozess und/oder durch einen Ätzprozess ausgebildet wird.

2. 发明申请

WO2021239299A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM TEMPERIEREN VON ELEMENTEN IN MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2021239299A1
公开(公告)日：2021-12-02
申请号：PCT/EP2021/058218
申请日：2021-03-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： MONZ, Thomas , KEMP, Alexandre , LIPPERT, Johannes
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Die Erfindung betrifft eine mikrolithographi sehe Proj ektionsbelichtungsanlage, insbesondere für den DUV-Bereich (400) oder für den EUV-Bereich (100), aufweisend eine Beleuchtungseinrichtung (102; 402) und ein Proj ektionsobj ektiv (104, 340, 640; 404) mit mindestens einem Element (370, 372, 380, 382, 390, 396, 397, 399, 391, 392, 393, 394, 398, 451, 930, 1010, 1012, 1014), das zu seiner Temperierung zumindest bereichsweise von mindestens einer zum Leiten eines Temperierfluids vorgesehenen Temperi erflui dl eitung (302, 304, 306, 308, 310, 452, 476, 486, 602, 919, 921, 1007) durchzogen ist, wobei die Temperierfluidleitung (302, 304, 306, 308, 310, 452, 476, 486, 602, 919, 921, 1007) mit mindestens einem T emperi erflui dvorratsb ehälter (470, 480, 615, 515, 516, 519, 460, 920, 1020) verbunden ist und wobei mindestens ein Temperierelement (702, 704, 706, 906, 916, 1006) zum Temperieren des Temperierfluids an oder in der T emperi erflui dl eitung (302, 304, 306, 308, 310, 452, 476, 486, 602, 919, 921, 1007) vorgesehen ist, wobei - mindestens zwei der Elemente (370, 372, 380, 382, 390, 396, 397, 399, 391, 392, 393, 394, 398, 451, 930, 1010, 1012, 1014) unabhängig voneinander mit jeweils mindestens einer separaten der T emperi erflui dl eitungen (302, 304, 306, 308, 310, 452, 476, 486, 602, 919, 921, 1007) oder - mindestens zwei verschiedene Bereiche des mindestens einen Elements (370, 372, 380, 382, 390, 396, 397, 399, 391, 392, 393, 394, 398, 451, 930, 1010, 1012, 1014) unabhängig voneinander mit jeweils mindestens einer separaten der Temperierfluidleitungen (302, 304, 306, 308, 310, 452, 476, 486, 602, 919, 921, 1007) oder - mindestens zwei der Elemente (370, 372, 380, 382, 390, 396, 397, 399, 391, 392, 393, 394, 398, 451, 930, 1010, 1012, 1014) mit der Temperierfluidleitung (302, 304, 306, 308, 310, 452, 476, 486, 602, 919, 921, 1007) durchzogen sind. Die Erfindung betrifft zudem ein Verfahren zur Temperierung mindestens eines Elements einer mikrolithographi sehen Proj ektionsbelichtungsanlage (300, 400).

3. 发明申请

WO2022161659A1 OPTISCHES SYSTEM, SOWIE VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES OPTISCHEN SYSTEMS 审中-公开
公开(公告)号：WO2022161659A1
公开(公告)日：2022-08-04
申请号：PCT/EP2021/083360
申请日：2021-11-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , DIRAUF, Andre , GRUNER, Toralf , BAER, Norman , MONZ, Thomas , BUETTNER, Paul
发明人： DIRAUF, Andre , GRUNER, Toralf , BAER, Norman , MONZ, Thomas , BUETTNER, Paul
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/18
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches System sowie ein Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage. Gemäß einem Aspekt der Erfindung weist ein optisches System wenigstens einen Spiegel (100, 200, 300, 400, 500, 600) mit einer optischen Wirkfläche (101, 201, 301, 401, 501, 601) und einem Spiegelsubstrat (110, 210, 310, 410, 510, 610), wobei in dem Spiegelsubstrat eine Mehrzahl von Temperierzonen (131-136, 141-146, 231-236, 241-246, 331-336, 341-346, 431, 441-446, 531-536, 541, 631, 641) angeordnet ist, und eine Temperiereinrichtung (150, 250, 350, 450, 550, 650), über welche die in den Temperierzonen jeweils vorliegenden Temperaturen unabhängig voneinander einstellbar sind, auf, wobei diese Temperierzonen in wenigstens zwei Ebenen mit unterschiedlichem Abstand von der optischen Wirkfläche angeordnet sind, und wobei die Temperierzonen in diesen wenigstens zwei Ebenen als Kühlkanäle ausgestaltet sind, welche unabhängig voneinander von einem Kühlfluid mit variabel einstellbarer Kühlfluidtemperatur durchströmbar sind.

4. 发明申请

WO2022028710A1 OPTICAL SYSTEM AND METHOD OF OPERATING AN OPTICAL SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2022028710A1
公开(公告)日：2022-02-10
申请号：PCT/EP2020/072216
申请日：2020-08-07
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , GRUNER, Toralf , BAER, Norman , VAN BERKEL, Koos , VAN BOKHOVEN, Laurentius J.A. , LORENZ, Maike , MONZ, Thomas , SCHNEIDER, Eva , STIEPAN, Hans-Michael , STREEFKERK, Bob , DIRAUF, André
发明人： GRUNER, Toralf , BAER, Norman , VAN BERKEL, Koos , VAN BOKHOVEN, Laurentius J.A. , LORENZ, Maike , MONZ, Thomas , SCHNEIDER, Eva , STIEPAN, Hans-Michael , STREEFKERK, Bob , DIRAUF, André
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/18
摘要： The invention relates to an optical system, in particular for microlithography, and to a method for operating an optical system. According to an aspect of the invention, an optical system comprises at least one mirror (100, 500, 600) having an optical effective surface (101, 501, 601) and a mirror substrate (110, 510, 610), wherein at least one cooling channel (115, 515, 615) in which a cooling fluid is capable to flow is arranged in the mirror substrate in order to dissipate heat that is generated in the mirror substrate due to absorption of electromagnetic radiation incident from a light source on the optical effective surface, and a unit (135, 535, 635) to adjust the temperature and/or the flow rate of the cooling fluid either dependent on a measured quantity that characterizes the thermal load in the mirror substrate or dependent on an estimated thermal load to be expected in the mirror substrate for a given power of the light source.

5. 发明申请

WO2022238074A1 KOMPONENTE MIT MINDESTENS EINEM KÜHLKANAL UND OPTISCHE ANORDNUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2022238074A1
公开(公告)日：2022-11-17
申请号：PCT/EP2022/059754
申请日：2022-04-12
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： MONZ, Thomas , FETZER, Matthias
IPC分类号： G02B5/08 , G02B7/192 , G03F7/00 , G02B26/08 , G02B7/18 , G02B26/10 , G03F7/20 , G02B26/0816 , G02B26/101 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G03F7/70316 , G03F7/70891
摘要： Die Erfindung betrifft eine Komponente, insbesondere ein optisches Element, ein Strukturbauteil oder eine Rohrleitung, umfassend: einen Grundkörper (25), der mindestens einen Kühlkanal (27) zur Durchströmung mit einer Kühlflüssigkeit aufweist. An einer Wandung (29) des Kühlkanals (27) ist mindestens eine Schicht (30) aufgebracht, die zur Dämpfung von Vibrationen bei der Durchströmung des mindestens einen Kühlkanals (27) mit der Kühlflüssigkeit ausgebildet ist. Die mindestens eine Schicht (30) ist nur entlang eines Abschnitts (34) der Wandung (29) des Kühlkanals (27) aufgebracht. Die Erfindung betrifft auch eine optische Anordnung, insbesondere ein EUV-Lithographiesystem, umfassend: mindestens eine Komponente, insbesondere ein optisches Element, ein Strukturbauteil oder eine Rohrleitung, die wie weiter oben beschrieben ausgebildet ist, sowie eine Kühleinrichtung, die zum Durchströmen des mindestens einen Kühlkanals (27) mit einer Kühlflüssigkeit ausgebildet ist.

6. 发明申请

WO2022028709A1 MIRROR, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
公开(公告)号：WO2022028709A1
公开(公告)日：2022-02-10
申请号：PCT/EP2020/072214
申请日：2020-08-07
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , GRUNER, Toralf , BAER, Norman , VAN BERKEL, Koos , VAN BOKHOVEN, Laurentius J.A. , LORENZ, Maike , MONZ, Thomas , SCHNEIDER, Eva , STIEPAN, Hans-Michael , STREEFKERK, Bob
发明人： GRUNER, Toralf , BAER, Norman , VAN BERKEL, Koos , VAN BOKHOVEN, Laurentius J.A. , LORENZ, Maike , MONZ, Thomas , SCHNEIDER, Eva , STIEPAN, Hans-Michael , STREEFKERK, Bob
IPC分类号： G03F7/20
摘要： The invention relates to a mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus. A mirror according to the invention has an optical effective surface (101, 201, 301), a mirror substrate (110, 210, 310, 410), a reflection layer system (120, 220, 320) for reflecting electromagnetic radiation that is incident on the optical effective surface (101, 201, 301), at least one actuator layer which is configured to transmit an adjustable mechanical force on the reflection layer system (120, 220, 320), thereby producing a locally variable deformation of the optical effective surface (101, 201, 301), and at least one cooling device configured to at least partially dissipate heat generated by said actuator layer.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式