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1. 发明申请

WO2018104250A1 INTENSITÄTSANPASSUNGSFILTER FÜR DIE EUV - MIKROLITHOGRAPHIE UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DESSELBEN SOWIE BELEUCHTUNGSSYSTEM MIT EINEM ENTSPRECHENDEN FILTER 审中-公开
公开(公告)号：WO2018104250A1
公开(公告)日：2018-06-14
申请号：PCT/EP2017/081420
申请日：2017-12-04
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： ENKISCH, Hartmut , MUELLER, Ulrich
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches Element für ein optisches System, welches mit Arbeitslicht im Wellenlängenspektrum des extrem ultravioletten Lichts oder weicher Röntgenstrahlung arbeitet, insbesondere ein optisches System für die EUV - Mikrolithographie mit einer Absorberschicht (12) für EUV - oder weiche Röntgenstrahlung, die sich entlang einer optisch wirksamen Fläche erstreckt und eine Dicke aufweist, die quer zur optisch wirksamen Fläche definiert ist, wobei die Dicke der Absorberschicht über der optisch wirksamen Fläche variiert sowie einen Spiegel, der durch mindestens eine aufgeraute Fläche des Spiegels gebildet ist, deren Rauheit über der Fläche variiert. Außerdem betrifft die Erfindung ein Beleuchtungssystem für eine EUV - Projektionsbelichtungsanlage, ein Verfahren zur Herstellung eines entsprechenden Intensitätsanpassungsfilters sowie die Verwendung eines entsprechenden Filters.

2. 发明申请

WO2017134020A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES REFLEKTIVEN OPTISCHEN ELEMENTS UND REFLEKTIVES OPTISCHES ELEMENT 审中-公开
标题翻译：制备反射光学元件和反射光学元件的方法
公开(公告)号：WO2017134020A1
公开(公告)日：2017-08-10
申请号：PCT/EP2017/051961
申请日：2017-01-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： ENKISCH, Hartmut
IPC分类号： G02B5/08 , G02B5/09 , G03F7/20
CPC分类号： G02B5/09 , G02B5/0891 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/7015
摘要： Zur Erhöhung der Reflektivität von aus mindestens zwei Obereinheiten zusammengesetzten reflektiven optischen Element für den extrem ultravioletten Wellenlängenbereich, bei denen jede Obereinheit (B1-B5) eine Vielzahl von Untereinheiten aufweist, beispielsweise reflektive optische Elemente in Form von Spiegelarrays, wird ein Verfahren zu deren Herstellung vorgeschlagen mit den Schritten: - Bestimmen von über die Fläche jeder Obereinheit (B1-B5) im Betrieb auftretenden Einfallswinkeln und Einfallswinkelbandbreiten; - Aufbringen einer reflektiven Beschichtung auf jeder Obereinheit (B1-B5), die an die jeweils über ihre Fläche bestimmten Einfallswinkel und Einfallswinkelbandbreiten angepasst ist. Dies eignet sich insbesondere zur Herstellung von reflektiven optischen Elementen, die als Feldfacettenspiegel, beispielsweise in Form von mikroelektromechanischen Spiegelarrays, für eine EUV-Lithographievorrichtung ausgebildet sind.
摘要翻译：对于每个子单元（B1-B5）具有多个子单元的极紫外波长范围，为了增加由至少两个子单元组成的反射光学元件的反射率，例如，在反射镜阵列的形式的反射光学元件，提出一种方法，用于其包括以下步骤的制备： - 确定在所述F1＆AUML;枝每个上部单元（B1-B5）的发病率和在操作中产生发生率带宽的角度的角度; - 在每个上部单元（B1-B5）上施加反射涂层，该涂层适合于由其表面确定的相应入射角和入射角带宽。这特别适合于生产反射光学元件，其被设计为场分面镜，例如以微机电反射镜阵列的形式，用于EUV光刻设备

3. 发明申请

WO2011032813A1 MIRROR FOR USE IN A MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：用于微观投影曝光装置的镜子
公开(公告)号：WO2011032813A1
公开(公告)日：2011-03-24
申请号：PCT/EP2010/062426
申请日：2010-08-26
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ROCKTAESCHEL, Martin , ENKISCH, Hartmut , STICKEL, Franz-Josef , NATT, Oliver , MANN, Hans-Jürgen , MIGURA, Sascha
发明人： ROCKTAESCHEL, Martin , ENKISCH, Hartmut , STICKEL, Franz-Josef , NATT, Oliver , MANN, Hans-Jürgen , MIGURA, Sascha
IPC分类号： G02B5/08
CPC分类号： G03F7/70958 , G02B5/0833 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70316
摘要： The invention relates to a mirror for use in a microlithography projection exposure apparatus, comprising a substrate and a reflective coating, wherein the reflective coating itself in turn comprises a first group of layers and a second group of layers. In this case, the second group of layers is arranged between the substrate and the first group of layers. Furthermore, both the first group of layers and the second group of layers comprise a plurality of alternating first and second layers arranged one above another, wherein the first layers comprise a first material, the refractive index of which for radiation having a wavelength in the range of 5-30 nm is greater than the refractive index of a second material, which the second layers comprise. In this case, the first group of layers is configured in such a way that it comprises a number of layers that is greater than 20, such that, upon irradiation with radiation having a wavelength in the range of 5-30 nm, less than 20% of the radiation reaches the second group of layers, and wherein the second group of layers has a layer thickness variation for the correction of the surface form of the mirror. What is thereby achieved is that the second group of layers, which has a layer thickness variation for the correction of the surface form of the mirror, does not significantly affect the reflectivity properties of the mirror.
摘要翻译：本发明涉及一种用于微光刻投影曝光设备的反射镜，其包括基底和反射涂层，其中反射涂层本身又包括第一组层和第二组层。在这种情况下，第二组层布置在衬底和第一组层之间。此外，第一组层和第二组层都包括多个彼此排列的交替的第一和第二层，其中第一层包括第一材料，其第一材料的折射率用于具有在该范围内的波长的辐射 5-30nm的厚度大于第二层包含的第二材料的折射率。在这种情况下，第一组层被配置成使得其包括大于20的多个层，使得当辐射具有5-30nm的波长的辐射时，小于20 辐射的百分比达到第二组层，并且其中第二组层具有用于校正反射镜的表面形式的层厚度变化。由此实现的是，具有用于校正反射镜的表面形式的层厚度变化的第二组层不会显着影响反射镜的反射性质。

4. 发明申请

WO2018010960A1 PROJECTION OPTICAL UNIT FOR EUV PROJECTION LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：用于EUV投影光刻的投影光学单元
公开(公告)号：WO2018010960A1
公开(公告)日：2018-01-18
申请号：PCT/EP2017/065936
申请日：2017-06-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： SCHWAB, Markus , ENKISCH, Hartmut , SCHICKETANZ, Thomas
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/06
摘要： A projection optical unit (7) for EUV projection lithography has a plurality of mirrors (M1 to M10) for imaging an object field (4) into an image field (8) with illumination light (3). At least one of the mirrors (M1, M9, M10) is embodied as an NI mirror and at least one of the mirrors (M2 to M8) is embodied as a GI mirror. A mirror dimension Dx of the at least one NI mirror in a plane of extent (xz) perpendicular to a plane of incidence (yz) satisfies the following relationship: 4 LLWx/IWPV max max cos(a)) max denotes the maximum difference between a maximum angle of incidence and a minimum angle of incidence of the illumination light (3) on the reflection surface of the NI mirror (M1, M9, M10) and on the reflection surface of the GI mirror (M2 to M8). a denotes the angle of incidence of a chief ray (16) of the central field point on the reflection surface of the GI mirror (M2 to M8). This results in a projection optical unit which is optimizable, in particular for very short EUV illumination light wavelengths.
摘要翻译：用于EUV投影光刻的投影光学单元（7）具有用于利用照明光（3）将物场（4）成像到像场（8）中的多个反射镜（M1至M10）。至少一个反射镜（M1，M9，M10）被实施为NI反射镜，并且至少一个反射镜（M2至M8）被实施为GI反射镜。至少一个NI反射镜在垂直于入射平面（yz）的范围平面（xz）中的反射镜维度Dx满足以下关系式：4 LLWx / IWPV max DX。所述至少一个GI反射镜在入射平面（yz）中的反射镜维度Dy满足以下关系式：4 LLWy /（IWPV max cos（a））＆lt; 镝。这里，LLWx和LLWy分别表示投影光学单元（7）在范围平面（xz）和入射平面（yz）中的面积，IWPV max表示在在NI反射镜（M1，M9，M10）的反射表面上以及在GI反射镜（M2至M8）的反射表面上的照明光（3）的最大入射角和最小入射角。 a表示GI镜（M2至M8）的反射表面上的中心视场点的主光线（16）的入射角。这导致可优化的投影光学单元，特别是对于非常短的EUV照明光波长。

5. 发明申请

WO2017137216A1 SPIEGEL FÜR DEN EUV SPEKTRALBEREICH 审中-公开
标题翻译： EUV光谱区域的镜子
公开(公告)号：WO2017137216A1
公开(公告)日：2017-08-17
申请号：PCT/EP2017/050891
申请日：2017-01-17
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ENKISCH, Hartmut , MÜLLENDER, Stephan
发明人： ENKISCH, Hartmut , MÜLLENDER, Stephan
IPC分类号： G02B5/08 , G03F7/00
CPC分类号： G02B5/0808 , G02B5/0891 , G03F7/70316 , G03F7/7095 , H01J37/00
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches Element mit einem Substrat (105), wenigstens einer Reflexionsschicht (120), wobei die Reflexionsschicht eine Mehrzahl von Zonen (221, 222) aus unterschiedlichem Material aufweist, und einer adhäsionsverbessernden Schicht (110), welche zwischen dem Substrat (105) und der Reflexionsschicht (120, 220) angeordnet ist wobei diese adhäsionsverbessernde Schicht (110) ausschließlich aus Elementen besteht, die im Substrat (105) und/oder in der Reflexionsschicht (120) enthalten sind.
摘要翻译：本发明涉及一种光学元件，其包括基板（105），至少一个反射层（120），所述反射层具有多个不同材料的区域（221,222），以及粘合增强层其中该粘合改进层（110）完全由存在于衬底（105）中和/或反射层（110）中的元素构成，所述层设置在衬底（105）和反射层（120,220）（120）都包含在内。

6. 发明申请

WO2012104136A1 MIRROR FOR THE EUV WAVELENGTH RANGE, METHOD FOR PRODUCING SUCH A MIRROR, PROJECTION LENS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A MIRROR, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A PROJECTION LENS 审中-公开
标题翻译：用于EUV波长范围的镜子，用于生产这样的镜子的方法，用于包含这种镜子的微观尺寸的投影镜头和用于包含这样的投影镜头的微结构的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2012104136A1
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：PCT/EP2012/050573
申请日：2012-01-16
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MÜLLENDER, Stephan , ENKISCH, Hartmut , DIER, Oliver , WEBER, Jörn
发明人： MÜLLENDER, Stephan , ENKISCH, Hartmut , DIER, Oliver , WEBER, Jörn
IPC分类号： G02B17/06 , G02B5/08
CPC分类号： G02B5/0875 , G02B5/0891 , G02B17/0657 , G21K1/062
摘要： The invention relates to a mirror (1a; 1b; 1c; 1d) for the EUV wavelength range having a reflectivity of greater than 40% for at least one angle of incidence of between 0° and 25°, comprising a substrate (S) and a layer arrangement, wherein the layer arrangement comprises at least one layer subsystem (ASL) consisting of a periodic sequence of at least two periods (PASL) of individual layers (LASL, B, HASL) composed of different materials, and wherein the layer subsystem (ASL) has an oxygen doping of between 10 ppb and 0.1 %, in particular between 50 ppb and 50 ppm. Furthermore, the invention relates to a method for coating a mirror (1a; 1b; 1c: 1d) for the EUV wavelength range, wherein an oxygen partial pressure of greater than 10 -9 mbar, in particular of greater than 10 -7 mbar, is present during the coating of the layer subsystem (ASL) with oxygen doping. Furthermore, the invention relates to a projection lens for micro lithography comprising such a mirror, and to a projection exposure apparatus comprising such a projection lens.
摘要翻译：本发明涉及一种用于EUV波长范围的反射镜（1a; 1b; 1c; 1d），其对于至少一个入射角在0°至25°之间的反射率大于40％，包括基底（S）和层布置，其中所述层布置包括由由不同材料组成的单个层（LASL，B，HASL）的至少两个周期（PASL）的周期性序列组成的至少一个层子系统（ASL），并且其中所述层子系统（ASL）的氧掺杂在10ppb和0.1％之间，特别是在50ppb和50ppm之间。此外，本发明涉及一种用于EUV波长范围的用于涂覆反射镜（1a; 1b; 1c：1d）的方法，其中大于10-9毫巴，特别是大于10-7毫巴的氧分压，在具有氧掺杂的层子系统（ASL）的涂覆期间存在。此外，本发明涉及一种包括这种反射镜的微光刻用投影透镜以及包括这种投影透镜的投影曝光装置。

7. 发明申请

WO2021259634A1 OPTISCHES ELEMENT FÜR EINE EUV-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2021259634A1
公开(公告)日：2021-12-30
申请号：PCT/EP2021/065352
申请日：2021-06-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： ENKISCH, Hartmut , HOFFMANN, Sandro , WEBER, Jörn , STROBEL, Sebastian , RIBOW, Mirko , NOTTBOHM, Christoph , STURM, Matthias , KRAUSE, Michael
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08 , G02B5/18 , G02B27/425 , G02B5/0891 , G02B5/1838 , G02B5/1857 , G02B5/203 , G02B5/208 , G03F7/70158 , G03F7/70175 , G03F7/70575 , G21K1/062 , G21K2201/064 , G21K2201/067
摘要： Bei einem Verfahren zur Herstellung eines optischen Elements für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage wird eine formgebende Schicht (221) derart auf ein Substrat (20) aufgebracht, dass sie direkt nach dem Aufbringen auf das Substrat (20) eine Oberflächenrauheit von maximal 0,5 nm rms aufweist.

8. 发明申请

WO2017009185A1 SPIEGEL, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： MIRROR，尤其是对于微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2017009185A1
公开(公告)日：2017-01-19
申请号：PCT/EP2016/066178
申请日：2016-07-07
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , DIER, Oliver , HILD, Kerstin , ENKISCH, Hartmut , KALISKY, Matus
发明人： DIER, Oliver , HILD, Kerstin , ENKISCH, Hartmut , KALISKY, Matus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要： Die Erfindung betrifft einen Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, wobei der Spiegel eine optische Wirkfläche aufweist, mit einem Spiegelsubstrat (205, 305), einer Reflexionsschicht (220, 320), welche derart ausgestaltet ist, dass der Spiegel für elektromagnetische Strahlung einer vorgegebenen Arbeitswellenlänge, welche auf die optische Wirkfläche (200a, 300a) unter einem auf die jeweilige Oberflächennormale bezogenen Einfallswinkel von wenigstens 65° auftrifft, eine Reflektivität von wenigstens 50% besitzt, und einer Substratschutzschicht (210, 310), welche zwischen dem Spiegelsubstrat (205, 305) und der Reflexionsschicht (220, 320) angeordnet ist, wobei die Substratschutzschicht (210, 310) für EUV-Strahlung eine Transmission von weniger als 0.1% aufweist.
摘要翻译：本发明涉及一种反射镜，特别是用于微光刻投射曝光系统，其具有的光学有效表面的反射镜，利用该被设计为使得用于一个电磁辐射的反射镜预定的反射镜衬底（205，305），反射层（220，320）工作波长，其中所述光学活性表面（200A，300A）撞击在涉及到至少65°入射的相应表面法线夹角的时间，具有至少50％的反射率，以及设置在镜基板之间的基底保护层（210,310）（205， 305）和反射层（220，320）被设置，其中，对于具有小于0.1％的透射的极紫外辐射的基板保护层（210，310）。

9. 发明申请

WO2022161658A1 MIRROR, OPTICAL SYSTEM AND METHOD FOR OPERATING AN OPTICAL SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2022161658A1
公开(公告)日：2022-08-04
申请号：PCT/EP2021/082558
申请日：2021-11-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ENKISCH, Hartmut , GRUNER, Toralf , GELLRICH, Bernhard
发明人： ENKISCH, Hartmut , GRUNER, Toralf , GELLRICH, Bernhard
IPC分类号： G02B5/08 , G02B26/00 , G02B26/08 , G03F7/20 , G02B7/18
摘要： The invention relates to a method for operating an optical system, and to a mirror and to an optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus. A mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, wherein the mirror has an optical effective surface, comprises a mirror substrate (101, 201, 301, 401, 501) and a plurality of cavities (110, 210, 310, 410, 411, 510) which are arranged in the mirror substrate and to each of which a fluid can be applied, wherein a deformation is transferable to the optical effective surface by varying the fluid pressure in these cavities (110, 210, 310, 410, 411, 510).

10. 发明申请

WO2018007081A1 OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是用于微型投影曝光设备
公开(公告)号：WO2018007081A1
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：PCT/EP2017/063715
申请日：2017-06-06
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ENKISCH, Hartmut , SCHICKETANZ, Thomas , KALISKY, Matus , DIER, Oliver
发明人： ENKISCH, Hartmut , SCHICKETANZ, Thomas , KALISKY, Matus , DIER, Oliver
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
摘要： The invention relates to an optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, with at least one mirror (200) which has an optically effective surface and, for electromagnetic radiation of a predefined operating wavelength impinging on the optically effective surface at an angle of incidence of at least 65° relative to the respective surface normal, has a reflectivity of at least 0.5, wherein the mirror has a reflection layer (210) and a compensation layer (220) which is arranged above this reflection layer (210) in the direction of the optically effective surface, wherein the compensation layer (220), for an intensity distribution generated in a pupil plane or a field plane of the optical system during operation thereof, reduces the difference between the maximum and the minimum intensity value by at least 20% compared to an analogous structure without the compensation layer (220).
摘要翻译：本发明涉及一种光学系统，特别是用于微光刻投影曝光装置的光学系统，其具有至少一个反射镜（200），该反射镜具有光学有效表面，并且对于预定工作波长入射的电磁辐射以至少65°的入射角在光学有效表面上; 相对于相应的表面法线具有至少0.5的反射率，其中该反射镜具有反射层（210）和补偿层（220），该补偿层布置在该反射层（210）上方的光学有效表面，其中对于在其操作期间在光学系统的光瞳平面或场平面中产生的强度分布，补偿层（220）将最大强度值与最小强度值之间的差减小至少20％，与类似结构没有补偿层（220）。

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