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1. 发明申请

WO2003005128A1 SENSOR ZUR STRAHLUNGSENERGIEBESTIMMUNG UND VERWENDUNG HIERFÜR 审中-公开
标题翻译：传感器辐射能量确定及其用途
公开(公告)号：WO2003005128A1
公开(公告)日：2003-01-16
申请号：PCT/EP2002/007252
申请日：2002-07-02
申请人： CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG , FIOLKA, Damian
发明人： FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70558 , G01J1/48 , Y10T436/206664
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf einen Sensor zur Bestimmung der Energie von Strahlung eines Typs, der zur Umwandlung von Sauerstoff in Ozon fähig ist, und auf eine Verwendung eines solchen Sensors. Erfindungsgemäss beinhaltet der Sensor eine von der Strahlung durchstrahlbare Messkammer (1) mit einem Gaseinlass (4) und einem Gasauslass (6), Mittel (8) zur Zuführung eines sauerstoffhaltigen Gases (9) in die Messkammer über den Gaseinlass und zur Gasabführung über den Gasauslass, ein Ozonsensorelement (10) zur Messung des Ozongehaltes des in Messkammer befindlichen oder des über den Gasauslass abgeführten Gases (9a) und Auswertemittel (12) zur Bestimmung der Strahlungsenergie aus dem gemessenen Ozongehalt. Der Sensor ist z.B. zur Strahlungsenergiebestimmung in einem mit der Strahlung arbeitenden optischen Abbildungssystem verwendbar. Verwendung z.B. in Mikrolithographie-Projektionsbelichtungssystemen.
摘要翻译：本发明涉及一种传感器，用于确定一种类型，它能够转化成氧气的臭氧的辐射的能量，以及在使用这样的传感器。根据本发明，包括：所述传感器包括一个可穿透的由辐射测量室（1）具有进气口（4）和气体出口（6），装置（8），用于供给含氧气体（9）经由气体入口和所述气体排出通过气体出口测量室，用于通过从所述测得的臭氧浓度来确定辐射能量的气体出口（9a）和评估装置（12）测量所述包含在所述测量腔室或排放气体的臭氧浓度的臭氧传感器元件（10）。该传感器例如辐射能量的与放射线成像光学系统的操作的判定是有用的。例如使用在微光刻投射曝光系统。

2. 发明申请

WO2003009021A1 VERZÖGERUNGSELEMENT AUS KUBISCHEM KRISTALL UND OPTISCHE SYSTEME DAMIT 审中-公开
标题翻译：延迟元件立方晶体和光学系统THAT
公开(公告)号：WO2003009021A1
公开(公告)日：2003-01-30
申请号：PCT/DE2002/002392
申请日：2002-06-25
申请人： CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG , HARTMAIER, Jürgen , FIOLKA, Damian , ZENZINGER, Markus , MECKING, Birgit , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , KAMENOV, Vladimir , BRUNOTTE, Martin
发明人： HARTMAIER, Jürgen , FIOLKA, Damian , ZENZINGER, Markus , MECKING, Birgit , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , KAMENOV, Vladimir , BRUNOTTE, Martin
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B1/02 , G02B5/3091 , G03F7/70308 , G03F7/70966
摘要： Als Verzögerungselemente für das tiefe Ultraviolett werden Zentimeter dicke Platten oder Linsen aus Kalziumfluorid oder Bariumfluorid mit Strahlausbreitung in Richtung der -Kristallrichtung oder einer dazu äquivalenten Hauptachse vorgeschlagen, die spannungslos eingebaut werden. Eignung besonders für die Mikrolithographie bei 157 nm.
摘要翻译：由于延迟元件为深紫外线厘米提出在<110>晶与光束传播方向由氟化钙或氟化钡或与其等同的长轴厚的片材或透镜，其被内置通电。适宜特别是在157nm处微光刻。

3. 发明申请

WO2012038112A1 BELEUCHTUNGSOPTIK MIT EINEM BEWEGLICHEN FILTERELEMENT 审中-公开
标题翻译：与移动过滤元件照明光学
公开(公告)号：WO2012038112A1
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：PCT/EP2011/061631
申请日：2011-07-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , LAYH, Michael , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
发明人： LAYH, Michael , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： F21V9/10 , F21V9/40 , G03F7/70083 , G03F7/70158 , G03F7/70191 , G03F7/70833 , G03F7/70891
摘要： Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungsoptik, zur Ausleuchtung eines Objektfeldes mit Strahlung einer ersten Wellenlänge. Dabei umfasst die Beleuchtungsoptik ein Filterelement zur Unterdrückung von Strahlung mit einer zweiten Wellenlänge. Das Filterelement mindestens eine obskurierend wirkende Komponente, so dass sich während des Betriebs der Beleuchtungsoptik aufgrund der obskurierend wirkenden Komponente mindestens einen Bereich (469, 471) reduzierter Intensität von Strahlung mit der ersten Wellenlänge auf einem in Lichtrichtung nach dem Filterelement angeordneten ersten optischen Element (407) der Beleuchtungsoptik ergeben. Hierbei kann das Filterelement eine Mehrzahl von Positionen einnehmen, die zu unterschiedlichen Bereichen (469, 471) reduzierter Intensität fuhren, wobei es zu jedem Punkt auf einer optischen Nutzfläche (441) des ersten optischen Elements (407) mindestens eine Position gibt, so dass der Punkt nicht in einem Bereich (469, 471) reduzierter Intensität liegt.
摘要翻译：本发明涉及的照明光学部件用于与第一波长的辐射照明物场。照明光学系统包括：用于在第二波长抑制辐射的过滤元件。该过滤器元件的至少一个obskurierend作用的组分，以使至少一个减少的辐射（的强度的照明光学部件的操作过程中，由于具有在过滤器元件的第一光学元件的布置在光方向的下游侧的第一波长的obskurierend作用的组分部分（469，471）407 ）照明光学产率。在这里，过滤器元件可以假设的减小的强度引线多个在不同的区域的位置的（469，471），其中，存在于在所述第一光学元件（407）的至少一个位置的光的区域（441）的任何位置，从而使的区域（469，471）的减小的强度是不指向。

4. 发明申请

WO2011095209A1 MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2011095209A1
公开(公告)日：2011-08-11
申请号：PCT/EP2010/051303
申请日：2010-02-03
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , GÖHNERMEIER, Aksel , FIOLKA, Damian , GRUNER, Toralf
发明人： GÖHNERMEIER, Aksel , FIOLKA, Damian , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7025 , G03F7/70233 , G03F7/70566
摘要： Die Erfindung betrifft eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage (600) mit einer Beleuchtungseinrichtung (601) und einem Projektionsobjektiv (602), wobei die Beleuchtungseinrichtung (601) im Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage (602) eine Objektebene OP des Projektionsobjektivs beleuchtet und das Projektionsobjektiv diese Objektebene auf eine Bildebene (W) abbildet, wobei die Beleuchtung der Objektebene mit linear polarisiertem Licht erfolgt, dessen Wellenlänge kleiner als 15 Nanometer (nm) ist, und wobei das Projektionsobjektiv wenigstens eine Pupille (110, 210, 310, 410, 510) aufweist, wobei wenigstens eine Begrenzungslinie dieser Pupille eine von einer Kreisform abweichende Geometrie aufweist.
摘要翻译：本发明涉及具有照明装置（601）以及投影透镜（602），其中所述照明装置（601）照射所述投射物镜的物平面OP中的投影曝光装置（602）的操作的微光刻投射曝光设备（600）和在该对象平面上的投影透镜（图像平面 W）映射，其中，所述物体面的照明与直线偏振光的波长是小于15纳米（nm），并且其中，所述投射物镜中，至少一个光瞳（110，210，310，410，510），所述进行至少一个边界线此光瞳的形状从圆形形状的几何形状偏离。

5. 发明申请

WO2011091900A2 FACETTENSPIEGEL ZUM EINSATZ IN DER MIKROLITHOGRAFIE 审中-公开
标题翻译：用于微刻法的FACET MIRRORS
公开(公告)号：WO2011091900A2
公开(公告)日：2011-08-04
申请号：PCT/EP2010/069456
申请日：2010-12-13
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
发明人： FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B7/1827 , G02B26/0833 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70116
摘要： Ein Facettenspiegel (6; 10) dient zum Einsatz in der Mikrolithografie. Der Facettenspiegel (6; 10) hat eine Mehrzahl von Facetten (7; 11), die Ausleuchtungskanäle zur Führung von Teilbündeln von EUV-Beleuchtungslicht (3) vorgeben. Zumindest einige der Facetten (7; 11) sind mittels einer einen Aktor (31; 35) aufweisenden Verstelleinrichtung (30; 34) mit einer Bewegungskomponente (32; dz'; dz") senkrecht zu einer Facetten-Reflexionsebene (xy; x'y'; x"y") verlagerbar. Es resultiert ein Facettenspiegel, mit dem gegebene Anforderungen an das Einhalten von Soll-Beleuchtungsvorgaben, die beim Einsatz des Facettenspiegels zu erreichen sind, mit im Vergleich zum Stand der Technik geringerem Herstellungsaufwand erreicht werden.
摘要翻译：小面镜（6; 10）用于微光刻。分面镜（6; 10）具有多个小面（7; 11），其提供用于实现EUV照明光（3）的局部束的照明通道。至少一些小面（7; 11）由致动器的装置（31; 35）具有调节装置（30; 34）与一个运动分量（32; DZ“; DZ＆QUOT）垂直于端面反射平面（xy; X'Y '; x“y”）可重定位。结果是一个分面反射镜，其具有满足目标照明规格的特定要求，这可以在使用分面镜时实现，相对于现有技术的较低制造成本而言实现了

6. 发明申请

WO2010108612A1 OPTICAL ASSEMBLY 审中-公开
标题翻译：光学装置
公开(公告)号：WO2010108612A1
公开(公告)日：2010-09-30
申请号：PCT/EP2010/001604
申请日：2010-03-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , CLAUSS, Wilfried
发明人： FIOLKA, Damian , CLAUSS, Wilfried
IPC分类号： G02B5/08 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G02B17/0892 , G02B26/0816
摘要： An optical assembly (29) has at least one mirror (24) with a mirror body (26). The latter is carried by a support body (30), which has a first support body portion (31) and a second support body portion (32). An at least thermally separating region (33) is arranged between the two support body portions (31, 32). At least one surface portion (38, 41) of at least one of the support body portions (31, 32) or of a body thermally coupled thereto is modified in such a way that a thermal emission coefficient εm of the modi- fied surface portion (38, 41) differs from a thermal emission coefficient εu of the unmodified surface portion by at least 10 %. The result is an optical assembly, in which an improved thermal stability is achieved by the prede¬ termining of the thermal emission coefficients.
摘要翻译：光学组件（29）具有至少一个具有镜体（26）的反射镜（24）。后者由具有第一支撑体部分（31）和第二支撑体部分（32）的支撑体（30）承载。至少热分离区域（33）布置在两个支撑体部分（31,32）之间。支撑主体部分（31,32）中的至少一个或与其热耦合的主体的至少一个表面部分（38,41）被修改为使得修改的表面部分的热发射系数em （38,41）与未改性表面部分的热发射系数eu不同至少10％。结果是光学组件，其中通过预先确定热发射系数来实现改进的热稳定性。

7. 发明申请

WO2010037437A1 ILLUMINATION SYSTEM FOR EUV MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译： EUV微观照明系统
公开(公告)号：WO2010037437A1
公开(公告)日：2010-04-08
申请号：PCT/EP2009/004973
申请日：2009-07-09
申请人： CARL ZEISS SMT AG , LAYH, Michael , STÜTZLE, Ralf , FIOLKA, Damian , ENDRES, Martin , WEIGAND, Holger
发明人： LAYH, Michael , STÜTZLE, Ralf , FIOLKA, Damian , ENDRES, Martin , WEIGAND, Holger
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/09
CPC分类号： G03F7/70083 , G02B17/0605 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03F7/70033 , G03F7/70075
摘要： An illumination system for EUV microlithography comprises an EUV light source (3) which generates EUV illumination light (10) with an etendue that is higher than 0.01 mm 2 . The EUV light source (3) generates in particular a sequence of EUV light pulses, particularly with a pulse sequence frequency. An illumination optics of the illumination system is used to guide the illumination light (10) from the light source (3) to an object field. At least one optical modulation component (25) of the illumination system is preferably modulatable synchronously with the pulse sequence frequency. The result is an illumination system where a homogeneity of an object field illumination is improved.
摘要翻译：用于EUV微光刻的照明系统包括EUV光源（3），其产生光通量高于0.01mm 2的EUV照明光（10）。 EUV光源（3）特别产生EUV光脉冲序列，特别是以脉冲序列频率产生。照明系统的照明光学器件用于将照明光（10）从光源（3）引导到物场。照明系统的至少一个光学调制组件（25）优选地可以与脉冲序列频率同步地调制。其结果是改善了物场照明的均匀性的照明系统。

8. 发明申请

WO2009063022A1 OPTICAL SYSTEM AND METHOD FOR CHARACTERISING AN OPTICAL SYSTEM 审中-公开
标题翻译：用于表征光学系统的光学系统和方法
公开(公告)号：WO2009063022A1
公开(公告)日：2009-05-22
申请号：PCT/EP2008/065502
申请日：2008-11-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian
发明人： FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70133 , G03F7/70566
摘要： The invention concerns an optical system and a method of characterising an optical system, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus. According to an aspect, an optical system having an optical axis (OA) comprises a first element (111, 416, 516) which is partially translucent for light of a working wavelength of the optical system and has at least one partially reflecting first surface arranged rotated about a first axis of rotation in relation to a plane perpendicular to the optical axis (OA), a second element (121, 418, 518) in succession to said first element along said optical axis (OA) which is partially translucent for light of the working wavelength and has at least one partially reflecting second surface which is arranged rotated about a second axis of rotation in relation to a plane perpendicular to the optical axis (OA), and an intensity measuring device (112, 122, 417, 419, 517, 519) for measuring the intensity of light reflected at the first surface and the intensity of light reflected at the second surface.
摘要翻译：本发明涉及光学系统和表征光学系统的方法，特别是在微光刻投影曝光装置中。根据一个方面，具有光轴（OA）的光学系统包括第一元件（111,416,516），其对于光学系统的工作波长的光是部分半透明的，并且具有至少一个部分反射的第一表面相对于垂直于光轴（OA）的平面旋转第一旋转轴线，沿着所述光轴（OA）连续地连接到所述第一元件的第二元件（121,418,518），所述光轴对于光部分是半透明的并且具有相对于垂直于光轴（OA）的平面绕第二旋转轴线旋转的至少一个部分反射的第二表面，以及强度测量装置（112,122,417,419），517,519），用于测量在第一表面处反射的光的强度和在第二表面处反射的光的强度。

9. 发明申请

WO2005116772A1 APPARATUS FOR PROVIDING A PATTERN OF POLARIZATION 审中-公开
标题翻译：提供极化图案的设备
公开(公告)号：WO2005116772A1
公开(公告)日：2005-12-08
申请号：PCT/EP2005/050981
申请日：2005-03-04
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ASML HOLDING NV , ALBERT, Michael , FIOLKA, Damian
发明人： ALBERT, Michael , FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70566 , G02B1/02 , G02B1/06 , G02B1/08 , G02B5/3025 , G02B27/286
摘要： The present invention relates to a polarization pattern assembly for use in an illuminator and an apparatus for providing at least one polarization pattern in a pupil of an illuminator for a lithography system. A polarization pattern assembly for use in an illuminator having a pupil comprises a frame (110) and at least one polarization pane (102, 102a, 102b) coupled to said frame (110), said polarization pane (102, 102a, 102b) changing a direction of polarization of light passing therethrough, whereby at least one polarization pattern can be obtained across the pupil of the illuminator, and wherein said polarization pane (102, 102a, 102b) comprises an optically active material.
摘要翻译：本发明涉及一种用于照明器中的偏振图案组件和用于在光刻系统的照明器的光瞳中提供至少一个偏振图案的装置。用于具有瞳孔的照明器中的偏振图案组件包括框架（110）和耦合到所述框架（110）的至少一个偏振窗格（102,102a，102b），所述偏振窗格（102,102a，102b）改变通过其中的光的偏振方向，从而可以在照明器的瞳孔之间获得至少一个偏振图案，并且其中所述偏振面板（102,102,102b）包括光学活性材料。

10. 发明申请

WO2005015310A2 ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置照明系统
公开(公告)号：WO2005015310A2
公开(公告)日：2005-02-17
申请号：PCT/EP2004/007926
申请日：2004-07-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DEGÜNTHER, Markus , MAUL, Manfred , FIOLKA, Damian
发明人： DEGÜNTHER, Markus , MAUL, Manfred , FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70066 , G03F7/70158 , G03F7/70191
摘要： An illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus includes a light source (12) for generating a projection light beam, a first objective (20) and a masking system (38, 52) for masking a reticle (30). The masking system (38, 52) includes adjustable first blades (40) for masking in a first spatial direction (X) and adjustable second blades (54, 56) for masking in a second spatial direction (Y). The first blades (40) are arranged in the region of a first field plane (36) and the second blades (54, 56) are arranged in the region of the second field plane (44) which are different to the first field plane (36). The masking system can therefore be made spatially less concentrated, whereby constructional difficulties in the region of the field plane before the masking objective resulting from space requirement problems are reduced. A further contribution is made to solving the space requirement problem if an attenuation system for achieving the most uniform possible light intensity in the wafer plane (122) includes a transmission filter (162) which has locally varying transmissivity and can be moved synchronously with traversing movements of the reticle (30).
摘要翻译：用于微光刻投影曝光装置的照明系统包括用于产生投影光束的光源（12），用于掩蔽掩模（30）的第一物镜（20）和掩蔽系统（38,52）。掩蔽系统（38,52）包括可调节的第一叶片（40），用于在第一空间方向（X）和第二空间方向（Y）上遮蔽的可调节的第二叶片（54,56）进行掩蔽。第一叶片（40）布置在第一场平面（36）的区域中，并且第二叶片（54,56）布置在与第一场平面不同的第二场平面（44）的区域中 36）。因此，掩蔽系统可以在空间上较少地集中，由此减少了由空间需求问题导致的掩蔽目标之前的场平面区域中的构造困难。如果用于在晶片平面（122）中实现最均匀可能的光强度的衰减系统包括具有局部变化的透射率的传输滤波器（162）并且可以与横移运动同步地移动，则进一步作出了解决空间需求问题的贡献的标线（30）。

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