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1. 发明申请

WO2008044924A2 CLEANING METHOD, APPARATUS AND CLEANING SYSTEM 审中-公开
标题翻译：清洁方法，设备和清洁系统
公开(公告)号：WO2008044924A2
公开(公告)日：2008-04-17
申请号：PCT/NL2007/050468
申请日：2007-09-25
申请人： ASML NETHERLANDS B.V. , CARL ZEIS SMT AG , EHM, Dirk Heinrich , MOORS, Johannes Hubertus Josephina , WOLSCHRIJN, Bastiaan Theodoor , MEIJERINK, Marcus Gerhardus Hendrikus , STEIN, Thomas
发明人： EHM, Dirk Heinrich , MOORS, Johannes Hubertus Josephina , WOLSCHRIJN, Bastiaan Theodoor , MEIJERINK, Marcus Gerhardus Hendrikus , STEIN, Thomas
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925
摘要： A method to clean optical elements of an apparatus, the apparatus being configured to project a beam of radiation onto a target portion of a substrate, the apparatus comprising a plurality of optical elements arranged in sequence in the path of the radiation beam, wherein the cleaning method comprises: cleaning one or more second optical elements of the sequence, which receive one or more relatively low second radiation doses during operation of the apparatus, utilizing cumulatively shorter cleaning periods than one or more first optical elements of the sequence that receive one or more first radiation doses during operation of the apparatus, a second radiation dose being lower than each relatively high first radiation dose.
摘要翻译：一种清洁设备的光学元件的方法，所述设备被配置为将辐射束投影到衬底的目标部分上，所述设备包括顺序布置在所述路径中的多个光学元件其中所述清洁方法包括：利用累积更短的清洁周期来清洁所述序列的一个或多个第二光学元件，所述第二光学元件在所述设备的操作期间接收一个或多个相对较低的第二辐射剂量，所述累积更短的清洁周期比一个或多个第一光学元件在装置的操作过程中接收一个或多个第一辐射剂量的序列的第二辐射剂量低于每个相对较高的第一辐射剂量。

2. 发明申请

WO2008034582A3 OPTICAL ARRANGEMENT, IN PARTICULAR PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR EUV LITHOGRAPHY, AS WELL AS REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT WITH REDUCED CONTAMINATION 审中-公开
公开(公告)号：WO2008034582A3
公开(公告)日：2008-03-27
申请号：PCT/EP2007/008113
申请日：2007-09-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ASML NETHERLANDS B.V. , EHM, Dirk, Heinrich , MUELLENDER, Stephan , STEIN, Thomas , MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina , WOLSCHRIJN, Bastiaan, Theodoor , KRAUS, Dieter , VERSLUIS, Richard , MEIJERINK, Marcus, Gerhardus, Hendrikus
发明人： EHM, Dirk, Heinrich , MUELLENDER, Stephan , STEIN, Thomas , MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina , WOLSCHRIJN, Bastiaan, Theodoor , KRAUS, Dieter , VERSLUIS, Richard , MEIJERINK, Marcus, Gerhardus, Hendrikus
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
摘要： The invention relates to an optical arrangement, in particular a projection exposure apparatus (1) for EUV lithography, comprising: a housing (2) that encloses an interior space (15); at least one, in particular reflective, optical element (4 to 10, 12, 14.1 to 14.6) that is arranged in the housing (2); at least one vacuum generating unit (3) for generating a vacuum in the interior space (15) of the housing (2); and at least one vacuum housing (18, 18.1 to 18.10) that is arranged in the interior space (15) of the housing (2) and that encloses at least the optical surface (17, 17.1, 17.2) of the optical element (4 to 10, 12, 14.1 to 14.5), wherein a contamination reduction unit is associated with the vacuum housing (18.1 to 18.10), which contamination reduction unit reduces the partial pressure of contaminating substances, in particular of water and/or hydrocarbons, at least in close proximity to the optical surface (17, 17.1, 17.2) in relation to the partial pressure of the contaminating substances in the interior space (15).

3. 发明申请

WO2009059614A1 METHOD FOR REMOVING A CONTAMINATION LAYER FROM AN OPTICAL SURFACE, METHOD FOR GENERATING A CLEANING GAS, AND CORRESPONDING CLEANING AND CLEANING... 审中-公开
标题翻译：从光学表面去除污染层的方法，用于产生清洁气体的方法以及相应的清洁和清洁方法
公开(公告)号：WO2009059614A1
公开(公告)日：2009-05-14
申请号：PCT/EP2007/009593
申请日：2007-11-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ASML NETHERLANDS B.V. , STORM, Arnold , EHM, Dirk, Heinrich , MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina , WOLSCHRIJN, Bastiaan, Theodoor , STEIN, Thomas , TE SLIGTE, Edwin
发明人： STORM, Arnold , EHM, Dirk, Heinrich , MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina , WOLSCHRIJN, Bastiaan, Theodoor , STEIN, Thomas , TE SLIGTE, Edwin
IPC分类号： B08B7/00
CPC分类号： B08B5/02 , B08B7/00 , G03F7/70925
摘要： The invention relates to a method for at least partially removing a contamination layer (15) from an optical surface (14a) of an EUV-reflective optical element (14) by bringing a cleaning gas, preferably comprising atomic hydrogen, into contact with the contamination layer (15), the method comprising the steps of: directing a jet (20) of cleaning gas to the contamination layer (15) for removing material from the contamination layer (15), monitoring the contamination layer (15) for generating a signal indicative of the thickness of the contamination layer (15), and controlling the jet (20) of cleaning gas by moving the jet (20) of cleaning gas relative to the optical surface (14a) using the signal indicative of the thickness of the contamination layer (15) as a feedback signal, and to a corresponding cleaning arrangement (19 to 24). The invention further relates to a method for generating a jet (20) of cleaning gas, as well as to a corresponding cleaning gas generation arrangement.
摘要翻译：本发明涉及通过使清洁气体（优选包括原子氢）与污染物接触而至少部分地从EUV反射光学元件（14）的光学表面（14a）去除污染物层（15）的方法层（15），所述方法包括以下步骤：将清洁气体的喷嘴（20）引导到污染层（15）以从污染层（15）去除材料，监测污染层（15）以产生信号指示污染层（15）的厚度，以及通过使用指示污染物厚度的信号相对于光学表面（14a）移动清洁气体的喷嘴（20）来控制清洁气体的喷嘴（20）层（15）作为反馈信号，以及相应的清洁装置（19至24）。本发明还涉及一种用于产生清洁气体的喷嘴（20）的方法，以及相应的清洁气体产生装置。

4. 发明申请

WO2008044925A2 LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
标题翻译： LITHOGRAPHIC设备和设备制造方法
公开(公告)号：WO2008044925A2
公开(公告)日：2008-04-17
申请号：PCT/NL2007/050469
申请日：2007-09-25
申请人： ASML NETHERLANDS B.V. , CARL ZEISS SMT AG , VAN HERPEN, Maarten, Marinus, Johannes, Wilhelmus , BANINE, Vadim, Yevgenyevich , DE KUSTER, Johannes, Peterus, Henricus , MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina , STEVENS, Lucas, Henricus, Johannes , WOLSCHRIJN, Bastiaan, Theodoor , SIDELNIKOV, Yurii, Victorovitch , VAN DER VELDEN, Marc, Hubertus, Lorenz , SOER, Wouter, Anthon , GIELISSEN, Kurt , STEIN, Thomas
发明人： VAN HERPEN, Maarten, Marinus, Johannes, Wilhelmus , BANINE, Vadim, Yevgenyevich , DE KUSTER, Johannes, Peterus, Henricus , MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina , STEVENS, Lucas, Henricus, Johannes , WOLSCHRIJN, Bastiaan, Theodoor , SIDELNIKOV, Yurii, Victorovitch , VAN DER VELDEN, Marc, Hubertus, Lorenz , SOER, Wouter, Anthon , GIELISSEN, Kurt , STEIN, Thomas
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/7085 , G03F7/70908 , G03F7/70916
摘要： A lithographic apparatus configured to project a patterned beam of radiation onto a target portion of a substrate is disclosed. The apparatus includes a first radiation dose detector and a second radiation dose detector, each detector comprising a secondary electron emission surface configured to receive a radiation flux and to emit secondary electrons due to the receipt of the radiation flux, the first radiation dose detector located upstream with respect to the second radiation dose detector viewed with respect to a direction of radiation transmission, and a meter, connected to each detector, to detect a current or voltage resulting from the secondary electron emission from the respective electron emission surface.
摘要翻译：公开了一种被配置为将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的光刻设备。该装置包括第一辐射剂量检测器和第二辐射剂量检测器，每个检测器包括被配置为接收辐射通量并由于接收到辐射通量而发射二次电子的二次电子发射表面，位于上游的第一辐射剂量检测器相对于相对于辐射传播方向观察的第二辐射剂量检测器，以及连接到每个检测器的仪表，以检测由相应的电子发射表面产生的二次电子发射产生的电流或电压。

5. 发明申请

WO2008107166A1 VERFAHREN ZUM REINIGEN EINER EUV-LITHOGRAPHIEVORRICHTUNG, VERFAHREN ZUR MESSUNG DER RESTGASATMOSPHÄRE BZW. DER KONTAMINATION SOWIE EUV-LITHOGRAPHIEVORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：方法用于清洁EUV光刻设备的测量方法REST气体或者污染和EUV光刻设备
公开(公告)号：WO2008107166A1
公开(公告)日：2008-09-12
申请号：PCT/EP2008/001730
申请日：2008-03-05
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KRAUS, Dieter , EHM, Dirk Heinrich , STEIN, Thomas , WÖLFLE, Harald , SCHMIDT, Stefan
发明人： KRAUS, Dieter , EHM, Dirk Heinrich , STEIN, Thomas , WÖLFLE, Harald , SCHMIDT, Stefan
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/66
CPC分类号： G01N21/67 , G01N21/94 , G03F7/7085 , G03F7/70916 , G03F7/70925
摘要： Es wird vorgeschlagen, zum Reinigen von Komponenten (30) im Inneren einer EUV-Lithographievorrichtung für den extremen ultravioletten und weichen Röntgen-Wellenlangenbereich benachbart zu der zu reinigenden Komponente (30) ein Plasma mittels Elektroden (29) zu zünden, wobei die Elektroden (29) an die Form der zu reinigenden Komponente (30) angepasst sind. Anhand des Plasmas wird spektroskopisch die Restgasatmosphäre gemessen. Vorzugsweise wird ein Emissionsspektrum aufgenommen, um den Reinigungsgrad zu überwachen. Dazu wird vorteilhafterweise ein optisches Faserkabel (31 ) mit einer Einkoppeloptik (32) eingesetzt. Außerdem wird, um während des Betriebs einer EUV- Lithographievorrichtung die Kontamination in der Gasphase innerhalb der Vakuumkammern zu überwachen, vorgeschlagen, Module vorzusehen, die Mittel zum Auslösen einer Gasentladung und Mittel zur Detektion von aufgrund der Gasentladung emittierter Strahlung aufweisen. Aus der Analyse des gemessenen Spektrums kann auf die Kontamination in der Gasphase zurück geschlossen werden.
摘要翻译：它提出了一种用于在用于极紫外和邻近该部件的软X射线波长范围内的EUV光刻设备的内部的清洁部件（30）要被清洁（30）借助于电极点燃等离子体（29），其中，所述电极（29 ））适合于所述（组件的形式被清洁30。残余气体气氛光谱由血浆中测量。优选地，发射光谱被记录以便监测纯化程度。用于此目的的与耦合透镜中使用（32）是有利的光纤电缆（31）。另外，为了监测EUV光刻设备的操作期间在真空室内气相中的污染，提出了提供具有用于发起气体排出装置的模块，以及用于检测所发射的辐射的由于气体放电的辐射。从测得的光谱的分析可以在气相中的污染被关闭了。

6. 发明申请

WO2006003216A1 BIPOLARE KOAGULATIONSELEKTRODE 审中-公开
标题翻译：双极电凝
公开(公告)号：WO2006003216A1
公开(公告)日：2006-01-12
申请号：PCT/EP2005/053255
申请日：2005-07-07
申请人： CELON AG MEDICAL INSTRUMENTS , DESINGER, Kai , STEIN, Thomas , ROGGAN, André
发明人： DESINGER, Kai , STEIN, Thomas , ROGGAN, André
IPC分类号： A61B18/14
CPC分类号： A61B18/1402 , A61B2018/00023 , A61B2018/00029
摘要： Die Erfindung betrifft eine bipolare Koagulationssonde (10) mit einer Elektrodenspitze (14), die eine Stirnfläche (16) aufweist, in die ein Pol (17) einer ersten Elektrode (18) und ein Pol (19) einer zweiten Elektrode (20) integriert ist. Die bipolare Koagulationssonde (10) umfasst erfindungsgemäss eine Temperiereinheit (26) mit einem Temperiermedium zum Temperieren der Stirnfläche (16).
摘要翻译：本发明涉及一种具有具有前表面（16）的电极尖端（14）的双极凝结探针（10），集成到一个极（17）的第一电极（18）和杆（19）的第二电极（20）是。根据本发明的双极电凝探针（10）包括具有用于控制所述端面（16）的温度的温度控制介质的温度控制单元（26）。

7. 发明申请

WO2006021550A1 VORRICHTUNG ZUM ELEKTROCHIRURGISCHEN VERÖDEN VON KÖRPERGEWEBE 审中-公开
标题翻译： DEVICE FOR身体组织的电外科硬化
公开(公告)号：WO2006021550A1
公开(公告)日：2006-03-02
申请号：PCT/EP2005/054107
申请日：2005-08-19
申请人： CELON AG MEDICAL INSTRUMENTS , DESINGER, Kai , ROGGAN, André , STEIN, Thomas , PREZEWOWSKY, Thomas
发明人： DESINGER, Kai , ROGGAN, André , STEIN, Thomas , PREZEWOWSKY, Thomas
IPC分类号： A61B18/12 , A61B18/14
CPC分类号： A61B18/1206 , A61B18/1477 , A61B2018/00029 , A61B2018/00577 , A61B2018/00666 , A61B2018/00678 , A61B2018/00702 , A61B2018/00708 , A61B2018/00875 , A61B2018/167 , A61B2218/002
摘要： Die Erfindung betrifft eine Hochfrequenzstrom-Applikationsvorrichtung (1) zur thermischen Verödung von Körpergewebe, mit einem Hochfrequenzgenerator (2) , an den mindestens zwei Elektroden (12 ) angeschlossen sind, von denen mindestens eine Elektrode in Körpergewebe einzuführen ist , sowie mit einer Mess- und Rechenvorrichtung (7, 9) , die ausgebildet ist, die Impedanz oder den ohmschen Wider- stand zwischen den zwei Elektroden, zwischen denen j eweils ein therapeutischer Hochfrequenz ström f liesst, zu ermitteln, und einer mit der Mess- und Rechenvorrichtung verbundenen Kontrolleinrichtung (6) zur Veränderung der Ausgangsleistung. Die Mess- und Rechenvorrichtung bildet während einer Hochf requenzstromapplikation aus dem zeitlichen Verlauf der Impedanz oder des ohmschen Widerstandes die erste Ableitung. Die Kontrolleinrichtung reduziert die Ausgangsleistung signifikant , wenn diese zeitliche Ableitung ein positive Schwelle (L1) überschreitet , die für eine drohende Gewebeaustrocknung charakteristisch ist und stellt die Ausgangsleistung wieder auf die ursprüngliche Leistung zurück, wenn die erste Ableitung eine negative Schwelle (L2) , die für eine ausreichende Rehydrierung des Körpergewebes charakteristisch ist, in Richtung positiver Werte überschreitet (Fig .5) .
摘要翻译：本发明涉及一种用于人体组织的热硬化性应用装置（1）的高频功率，其包括射频发生器（2），被连接到所述至少两个电极（12），其中至少一个电极插入身体组织，并与测量和计算装置（7,9），其适于将所述两个电极，其在每种情况下之间的治疗高频率f读取Ĵ斯特罗姆确定之间的阻抗或欧姆电阻，以及连接到测量和计算装置的控制装置（6 ），用于改变输出功率。测量和计算装置是从阻抗或欧姆电阻的时间变化的Hochf requenzstromapplikation期间的第一导数。所述控制装置当所述时间导数超过一个正阈值（L1），这是一个迫在眉睫的组织脱水的特性和使输出功率回原始功率回显著降低输出功率时，负阈值的一阶导数（L2），这对于在正值的方向超过（图0.5）的身体组织的足够的补液有特征。

8. 发明申请

WO2003099372A2 VORRICHTUNG ZUM ELEKTROCHIRURGISCHEN VERÖDEN VON KÖRPERGEWEBE 审中-公开
标题翻译： DEVICE FOR身体组织的电外科硬化
公开(公告)号：WO2003099372A2
公开(公告)日：2003-12-04
申请号：PCT/EP2003/005439
申请日：2003-05-23
申请人： CELON AG MEDICAL INSTRUMENTS , DESINGER, Kai , STEIN, Thomas , ROGGAN, André , PREZEWOVSKY, Thomas
发明人： DESINGER, Kai , STEIN, Thomas , ROGGAN, André , PREZEWOVSKY, Thomas
IPC分类号： A61N
CPC分类号： A61B18/1477 , A61B2018/00875 , A61B2018/143
摘要： Die erfindungsgemässe Applikationsvorrichtung zum Applizieren eines Hochfrequenzstroms zum thermischen Veröden von Körpergewebe umfasst eine Elektrodenmenge (7) mit mindestens drei mit dem Körpergewebe elektrisch leitend verbundenen aktiven Elektroden (1 - 6), einen mit den aktiven Elektroden (1 - 6) individuell elektrisch verbindbaren Hochfrequenzgenerator (17) zum Erzeugen einer Hochfrequenzspannung und eine Messeinrichtung (13) zum Messen der Impedanz des Gewebes zwischen den aktiven Elektroden (1 - 6). Ausserdem umfasst die Applikationsvorrichtung eine Auswahleinrichtung (15) zum Auswählen einer mindestens zwei aktive Elektroden (5, 6) umfassenden Untermenge (19) aus der Elektrodenmenge (7), wobei die Auswahl anhand der gemessenen Impedanz erfolgt. Des weiteren ist eine Steuereinrichtung (11) vorhanden, die derart ausgestaltet ist, dass zwischen den aktiven Elektroden (5, 6) der ausgewählten Untermenge (19) jeweils die Hochfrequenzspannung angelegt wird, so dass zwischen den ausgewählten aktiven Elektroden (5, 6) ein Hochfrequenzstrom durch das Körpergewebe fliesst.
摘要翻译：中，与所述有源电极（1 - 6） - 用于施加高频电流体组织的热硬化性包括电极组（7）具有至少三个导电与身体组织有源电极（6 1），连接在本发明的涂敷装置是个别地电连接的高频发生器（ 17），用于产生用于测量所述有源电极（1之间的组织的阻抗的高频电压和测量装置（13） - 6）。此外，所述施用装置包括一个选择装置（15），用于选择从电极（7）的量，其中所述选择是基于所测量的阻抗至少两个活性电极（5，6）包括子集（19）中的一个。此外，控制装置（11）被提供，其被配置为使得所述有源电极之间（5,6）的选定子集（19）分别将高频电压施加使得所选择的有源电极之间（5，6）高频电流流过生物体组织。

9. 发明申请

WO2009065703A2 KOCHFELD 审中-公开
标题翻译： HOB
公开(公告)号：WO2009065703A2
公开(公告)日：2009-05-28
申请号：PCT/EP2008/064516
申请日：2008-10-27
申请人： BSH BOSCH UND SIEMENS HAUSGERÄTE GMBH , MARTIN, Bernd , SCHLEGEL, Markus , STEIN, Thomas
发明人： MARTIN, Bernd , SCHLEGEL, Markus , STEIN, Thomas
IPC分类号： H05B3/74
CPC分类号： H05B3/74 , F24C7/083 , H05B6/6435
摘要： Die Erfindung betrifft ein Kochfeld mit einer zur Positionierung eines Zubereitungsgefäßes ausgebildeten Kochfläche (2) und einem unter der Kochfläche (2) angeordneten elektronischen Schaltungsträger (28), wobei an der Unterseite (18) der Kochfläche (2) zumindest ein Positionierelement (15, 16) angeordnet ist, welches in eine Aussparung (29, 30) in dem bewegbar in einem Gehäuse (27) gelagerten Schaltungsträger (28) eingreift.
摘要翻译：本发明涉及一种具有烹饪表面（2）的灶台，该烹饪表面（2）被设计成定位准备容器和布置在烹饪表面（2）下方的电子电路载体（28）在烹饪表面（2）的下侧（18）上布置有至少一个定位元件（15,16），该定位元件在壳体（27）中的电路中的凹部（29,30）中安装有电路支柱）。

10. 发明申请

WO2009030671A1 KOCHFELD UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES KOCHFELDES 审中-公开
标题翻译：炉灶和制造方法HOB
公开(公告)号：WO2009030671A1
公开(公告)日：2009-03-12
申请号：PCT/EP2008/061513
申请日：2008-09-01
申请人： BSH BOSCH UND SIEMENS HAUSGERÄTE GMBH , MARTIN, Bernd , SCHLEGEL, Markus , STEIN, Thomas
发明人： MARTIN, Bernd , SCHLEGEL, Markus , STEIN, Thomas
IPC分类号： H05B3/74
CPC分类号： H05B3/74 , F24C7/083
摘要： Die Erfindung betrifft ein Kochfeld mit einer zur Positionierung eines Zubereitungsgefäßes ausgebildeten Kochfläche (2), welche aus Glaskeramik (3) ausgebildet ist, wobei die Kochfläche (2) einen randseitigen Ausschnitt (4) in der Glaskeramik (3) aufweist, in welchen ein Einleger (5) angeordnet ist, der aus einem zur Glaskeramik (3) unterschiedlichen Material ausgebildet ist, welches für Licht des blauen Spektralbereichs durchlässig ist. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Herstellen eines Kochfelds.
摘要翻译：本发明涉及一种烹饪灶台具有形成用于定位制备容器的烹饪表面（2），该玻璃 - 陶瓷（3），其中，所述烹饪表面（2）形成具有一个周边切口（4）在玻璃 - 陶瓷（3），其中存款被定位（5），该不同的材料的玻璃陶瓷（3），其是可透过光在蓝色光谱范围形成。本发明还涉及一种制造滚刀的方法。

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