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1. 发明申请

WO2013013849A1 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
标题翻译： LITHOGRAPHIC装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2013013849A1
公开(公告)日：2013-01-31
申请号：PCT/EP2012/058876
申请日：2012-05-14
申请人： ASML HOLDING N.V. , LANSBERGEN, Robert , KOCHERSPERGER, Peter , RAMIREZ, David
发明人： LANSBERGEN, Robert , KOCHERSPERGER, Peter , RAMIREZ, David
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/673 , G03F1/66
CPC分类号： B65D81/02 , B65B5/04 , G03F1/24 , G03F1/66 , G03F7/70716 , G03F7/70741 , H01L21/67359
摘要： An apparatus and a method to hold a patterning device (MA) configured to impart a beam of radiation with a pattern in its cross - section. The apparatus includes a base (308) configured to support the patterning device (MA) and an inner cover (306) couplable to the base. The inner cover includes a restraining mechanism (500) that, upon an application of a force external to the inner cover, is configured to provide an in-plane force to the patterning device to restrain movement of the patterning device, the in-plane force being substantially parallel to a patterning surface of the patterning device.
摘要翻译：一种用于保持图案形成装置（MA）的装置和方法，其构造成在其横截面中赋予具有图案的辐射束。该装置包括配置成支撑图案形成装置（MA）的底座（308）和可连接到底座的内盖（306）。所述内盖包括约束机构（500），所述限制机构（500）在施加所述内盖外部的力时，被配置为向所述图案形成装置提供面内力以限制所述图案形成装置的移动，所述平面内力基本上平行于图案形成装置的图案化表面。

2. 发明申请

WO2016107718A1 LITHOGRAPHIC APPARATUS WITH A PATTERNING DEVICE ENVIRONMENT 审中-公开
标题翻译：具有绘图设备环境的平面设备
公开(公告)号：WO2016107718A1
公开(公告)日：2016-07-07
申请号：PCT/EP2015/078849
申请日：2015-12-07
申请人： ASML HOLDING N.V.
发明人： KOCHERSPERGER, Peter , RAMIREZ, David
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70066 , G03F7/702 , G03F7/70866
摘要： A lithographic apparatus injects gas between a patterning device (MA) and a patterning device masking blade (REB-Χ,Υ) to help protect the patterning device from contamination. The gas may be injected into the space defined between the patterning device and the patterning device blade by one or more gas supply nozzles (200) that are arranged on at least one side of the patterning device. The one or more gas supply nozzles are coupled to a frame which a patterning device support structure (MT) moves relative to. Each nozzle may be constructed and arranged to supply gas over at least the patterning region of the reflective patterning device.
摘要翻译：光刻设备在图案形成装置（MA）和图案形成装置掩蔽刮板（REB-X，Y）之间注入气体，以帮助保护图案形成装置免受污染。可以通过布置在图案形成装置的至少一侧的一个或多个气体供给喷嘴（200）将气体注入限定在图案形成装置和图案形成装置刀片之间的空间中。一个或多个气体供应喷嘴联接到图案形成装置支撑结构（MT）相对于其移动的框架。每个喷嘴可以构造和布置成在反射图案形成装置的至少图形化区域上提供气体。

3. 发明申请

WO2013083332A1 METHOD FOR A PATTERNING DEVICE SUPPORT 审中-公开
标题翻译：方法支持设备支持
公开(公告)号：WO2013083332A1
公开(公告)日：2013-06-13
申请号：PCT/EP2012/071453
申请日：2012-10-30
申请人： ASML HOLDING N.V.
发明人： MARKOYA, Diane , KOCHERSPERGER, Peter , LYONS, Joseph , ROUX, Stephen
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925
摘要： Methods and systems are described for cleaning a support (400) such as a clamp (404) of a chuck (402) that holds a patterning device (302) in a lithographic apparatus. The method includes loading a patterning device (302) into a lithographic apparatus. The patterning device includes a material layer (304) adhered to a backside of the patterning device. The method further includes clamping the patterning device to a support within the lithographic apparatus using an applied voltage. Any particles present on the support are then transferred to the material layer adhered to the backside of the patterning device. Afterwards, the patterning device is removed, along with any particles on the material layer, from the support.
摘要翻译：描述了用于清洁支撑件（400）的方法和系统，例如在光刻设备中保持图案形成装置（302）的卡盘（402）的夹具（404）。该方法包括将图案形成装置（302）装载到光刻设备中。图案形成装置包括粘附到图案形成装置的背面的材料层（304）。该方法还包括使用施加的电压将图案形成装置夹持在光刻设备内的支撑件上。存在于载体上的任何颗粒然后转移到附着到图案形成装置背面的材料层。之后，图案形成装置与材料层上的任何颗粒一起从载体上除去。

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